一种双转子功能头制造技术

技术编号:35510345 阅读:12 留言:0更新日期:2022-11-09 14:24
本实用新型专利技术公开了一种双转子功能头,包括经偏心机构相连的公转模块和小磨头,所述公转模块与基板固定、并驱动小磨头绕其输出轴环形旋转;还包括保持架,所述保持架与小磨头沿纵向滑动相连、与基板沿横向滑动相连。通过设置偏心机构分别连接公转模块和小磨头,使小磨头在公转模块的驱动下能够产生公转,从而能够在提高打磨效率的同时提升抛光均匀度。提高打磨效率的同时提升抛光均匀度。提高打磨效率的同时提升抛光均匀度。

【技术实现步骤摘要】
一种双转子功能头


[0001]本技术主要涉及抛光装置
,尤其涉及一种双转子功能头。

技术介绍

[0002]近年来,随着现代光学、微电子和固体电子学等相关学科领域的发展,光学系统中的光学零件表面质量精度要求越来越严格,光学零件的超光滑表面抛光技术也成为现在光学加工的重要领域之一。在光学零件的超光滑表面抛光技术中,现有的抛光功能头仅利用磨盘的自转对工件进行打磨,由于缺少公转,打磨效率较低且均匀度不佳,从而影响加工效率和质量。因此,亟需一种在磨盘自转的同时还能进行公转的双转子功能头。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种双转子功能头。
[0004]为解决上述技术问题,本技术采用以下技术方案:
[0005]一种双转子功能头,包括经偏心机构相连的公转模块和小磨头,所述公转模块与一基板固定、并驱动小磨头绕其输出轴环形旋转;还包括保持架,所述保持架与小磨头沿纵向滑动相连、与基板沿横向滑动相连。
[0006]作为上述技术方案的进一步改进:
[0007]所述偏心机构包括滑动相连的块一和块二;所述块一与公转模块的输出轴固定相连,所述块二与小磨头固定相连。
[0008]所述块一与所述块二间设有用于限制相对滑动的锁止螺栓。
[0009]所述公转模块包括与基板固定的公转电机,所述公转电机的输出端经皮带与转轴传动相连;所述转轴可旋转地插设于成型于基板的安装座内,且其远离皮带一端与偏心机构固定连接。
[0010]所述小磨头包括壳体和由壳体底端穿出的磨盘;所述壳体顶端与偏心机构相连,所述磨盘经与壳体固定的自转电机驱动旋转。
[0011]所述保持架呈“几”字形,其尾段与基板沿横向滑动相连、围成环绕小磨头的矩形框;所述保持架的两纵向段分别与小磨头的对应侧沿纵向滑动相连。
[0012]所述基板安装有横向滑轨,所述尾段安装有横向滑块,所述横向滑轨与所述横向滑块滑动相连。
[0013]所述小磨头的对侧安装有一对纵向滑块,所述纵向段均安装有纵向滑轨,所述纵向滑块与对应侧的所述纵向滑轨滑动相连。
[0014]与现有技术相比,本技术的优点在于:
[0015]本申请通过设置偏心机构分别连接公转模块和小磨头,使小磨头在公转模块的驱动下能够产生公转,从而能够在提高打磨效率的同时提升抛光均匀度。
附图说明
[0016]图1是双转子功能头的结构示意图(公转电机位于左侧且输出端朝上、第一视角);
[0017]图2是双转子功能头的结构示意图(公转电机位于左侧且输出端朝上、第二视角);
[0018]图3是双转子功能头的结构示意图(公转电机位于左侧且输出端朝下);
[0019]图4是双转子功能头的结构示意图(公转电机位于右侧);
[0020]图5是图1中A处的局部放大示意图。
[0021]图中各标号表示:1、偏心机构;11、块一;12、块二;13、锁止螺栓;2、公转模块;21、公转电机;22、皮带;23、转轴;3、小磨头;31、壳体;32、磨盘;33、自转电机;34、纵向滑块;4、基板;41、安装座;42、横向滑轨;5、保持架;51、尾段;511、横向滑块;52、纵向段;521、纵向滑轨。
具体实施方式
[0022]以下将结合说明书附图和具体实施例对本技术做进一步详细说明。
[0023]如图1至图5所示,本实施例的双转子功能头,包括经偏心机构1相连的公转模块2和小磨头3,公转模块2与一基板4固定、并驱动小磨头3绕其输出轴环形旋转;还包括保持架5,保持架5与小磨头3沿纵向滑动相连、与基板4沿横向滑动相连。公转模块2的输出轴与偏心机构1的一侧相连,公转模块2驱动偏心机构1绕输出轴旋转;小磨头3与偏心机构1的另一侧铰接,且小磨头3的中心轴线与输出轴的中心轴线不共线,小磨头3与偏心机构1同步绕公转模块2的输出轴环形旋转,即形成公转。同时,为了优化受力、避免小磨头3在阻力下产生摇摆而影响加工精度,在基板4与小磨头3之间还设有保持架5,保持架5与基板4沿横向滑动相连、与小磨头3沿纵向滑动相连,在旋转过程中,小磨头3相对于保持架5沿纵向往复运动、保持架5相对于基板4沿横向往复运动。本申请通过设置偏心机构1分别连接公转模块2和小磨头3,使小磨头3在公转模块2的驱动下能够产生公转,从而能够在提高打磨效率的同时提升抛光均匀度。
[0024]本实施例中,偏心机构1包括滑动相连的块一11和块二12;块一11与公转模块2的输出轴固定相连,块二12与小磨头3固定相连。块一11与块二12间设有用于限制相对滑动的锁止螺栓13。块一11成型有燕尾槽,块二12成型有燕尾凸块,燕尾凸块可滑动地嵌装在燕尾槽内形成连接。锁止螺栓13通过旋扭改变插入块一11中的深度,从而改变对块二12挤压力度,从而实现锁止功能。
[0025]本实施例中,公转模块2包括与基板4固定的公转电机21,公转电机21的输出端经皮带22与转轴23传动相连;转轴23可旋转地插设于成型于基板4的安装座41内,且其远离皮带22一端与偏心机构1固定连接。具体地,公转电机21位于转轴23左侧,且输出端朝上设置。在其他实施例中,公转电机21也可设置在转轴23右侧或输出端朝下地设置在转轴23左侧。
[0026]本实施例中,小磨头3包括壳体31和由壳体31底端穿出的磨盘32;壳体31顶端与偏心机构1相连,磨盘32经与壳体31固定的自转电机33驱动旋转。自转电机33经安装板固定在壳体31右侧,自转电机33的输出轴与小磨头3经传动带相连。
[0027]本实施例中,保持架5呈“几”字形,其尾段51与基板4沿横向滑动相连、围成环绕小磨头3的矩形框;保持架5的两纵向段52分别与小磨头3的对应侧沿纵向滑动相连。基板4安装有横向滑轨42,尾段51安装有横向滑块511,横向滑轨42与横向滑块511滑动相连。小磨头
3的对侧安装有一对纵向滑块34,纵向段52均安装有纵向滑轨521,纵向滑块34与对应侧的纵向滑轨521滑动相连。通过将保持架5设置成“几”字形,能够形成与小磨头3对侧分别形成连接的两纵向段52,在两纵向段52内侧设置纵向滑轨521,即可与安装在小磨头3对侧的纵向滑块34形成配合,从而形成支撑。相对于“Z”字形的单侧保持架,本申请所公开的“几”字形保持架能够对小磨头3的对侧分别形成连接,从而更为牢固。
[0028]虽然本技术已以较佳实施例揭示如上,然而并非用以限定本技术。任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本技术技术方案范围的情况下,都可利用上述揭示的
技术实现思路
对本技术技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本技术技术方案的内容,依据本技术技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰,均应落在本技术技术方案保护的范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双转子功能头,其特征在于:包括经偏心机构(1)相连的公转模块(2)和小磨头(3),所述公转模块(2)与一基板(4)固定、并驱动小磨头(3)绕其输出轴环形旋转;还包括保持架(5),所述保持架(5)与小磨头(3)沿纵向滑动相连、与基板(4)沿横向滑动相连。2.根据权利要求1所述的一种双转子功能头,其特征在于:所述偏心机构(1)包括滑动相连的块一(11)和块二(12);所述块一(11)与公转模块(2)的输出轴固定相连,所述块二(12)与小磨头(3)固定相连。3.根据权利要求2所述的一种双转子功能头,其特征在于:所述块一(11)与所述块二(12)间设有用于限制相对滑动的锁止螺栓(13)。4.根据权利要求1所述的一种双转子功能头,其特征在于:所述公转模块(2)包括与基板(4)固定的公转电机(21),所述公转电机(21)的输出端经皮带(22)与转轴(23)传动相连;所述转轴(23)可旋转地插设于成型于基板(4)的安装座(41)内,且其远离皮带(22)的一端与偏心机构(1)固定...

【专利技术属性】
技术研发人员:ꢀ七四专利代理机构
申请(专利权)人:湖南诺贝斯特科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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