一种晶体薄膜制备装置制造方法及图纸

技术编号:35441316 阅读:19 留言:0更新日期:2022-11-03 11:52
本实用新型专利技术涉及晶体薄膜制备用辅助装置领域,且公开了一种晶体薄膜制备装置,包括加工箱,加工箱侧边两端分别固定连通有输送管和吸液管,且输送管和吸液管的数量为若干组。本实用新型专利技术通过将输送管和吸液管与加工箱内部开设的放置腔相连通,进而在循环泵的运转带动下,即可使得放置腔内部放置的降温液可以从输液管内部被抽出,结合循环管对降温液的输送而使得放置腔内部的降温液进行循环流动,使得放置腔内部不同部位的降温液可以进行位置转换,避免单一部位的降温液无法充分的对不同位置的加工部件进行冷却降温处理,进而提高冷却液的使用效率,以及进一步保证晶体薄膜制备过程始终处于一个温度较低的环境中。始终处于一个温度较低的环境中。始终处于一个温度较低的环境中。

【技术实现步骤摘要】
一种晶体薄膜制备装置


[0001]本技术适用于晶体薄膜制备用辅助装置领域,特别涉及一种晶体薄膜制备装置。

技术介绍

[0002]目前,薄膜按其晶体结构,有单晶、多晶、非晶薄膜之分。单晶薄膜需要在单晶基板上通过外延的方法才能做出。藉由外延生长的薄膜称为外延膜,单晶薄膜制备技术通常指分子束外延技术,而在对其进行加工生产时,需要使用相应的降温剂进行降温处理,进而保证整个生产过程始终处于相应的低温环境中。
[0003]但是,现如今使用的制备装置中仍然存在一些不足之处:在对降温剂进行输送后,在降温剂进行使用时,由于制备装置不同部件产生的热量不同,进而各部位进行吸收热量的降温剂的使用效率也不同,而由于降温剂在使用时无法进行流动,极易导致不同部位的降温剂无法进行热量转换,影响降温剂整体的使用效率,进而降低降温质量。因此,我们提出一种晶体薄膜制备装置。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的在于提供一种晶体薄膜制备装置,可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术采取的技术方案为:
[0006]一种晶体薄膜制备装置,包括加工箱,所述加工箱侧边两端分别固定连通有输送管和吸液管,且输送管和吸液管的数量为若干组,所述输送管远离加工箱的一端固定连通有连接管,所述连接管远离加工箱的一端固定连通有固定管,所述固定管远离加工箱的一端固定连通有第一输液管,所述第一输液管远离加工箱的一端固定连通有循环管,且循环管的数量为若干组。
[0007]优选的,所述吸液管远离加工箱的一端固定连通有安装管,所述安装管侧边固定连通有进液管。
[0008]优选的,所述进液管远离加工箱的一端固定连通有第二输液管,且循环管与第二输液管侧边固定相连通。
[0009]优选的,所述加工箱内侧开设有放置腔,且输送管和吸液管内侧均与放置腔固定相连通。
[0010]优选的,所述进液管中端固定连通有循环泵。
[0011]优选的,所述固定管中端固定连通有冷凝泵。
[0012]与现有技术相比,本技术具有如下有益效果:
[0013]1.本技术的一种晶体薄膜制备装置,通过将输送管和吸液管与加工箱内部开设的放置腔相连通,进而在循环泵的运转带动下,即可使得放置腔内部放置的降温液可以从输液管内部被抽出,结合循环管对降温液的输送而使得放置腔内部的降温液进行循环流
动,使得放置腔内部不同部位的降温液可以进行位置转换,避免单一部位的降温液无法充分的对不同位置的加工部件进行冷却降温处理,进而提高冷却液的使用效率,以及进一步保证晶体薄膜制备过程始终处于一个温度较低的环境中。
[0014]2.本技术的一种晶体薄膜制备装置,通过在固定管表面连同有冷凝泵,使得固定管在对循环后的降温液进行输送至放置腔内部的途中,即可对降温液进行冷凝降温处理,保证降温液在保持制备环境温度时的降温作用不会随着使用时间的增加而降低,提高降温液的使用时间。
附图说明
[0015]图1为本技术一种晶体薄膜制备装置的整体正视结构示意图;
[0016]图2为本技术一种晶体薄膜制备装置的整体俯视剖面结构示意图;
[0017]图3为本技术一种晶体薄膜制备装置的整体右侧侧视剖面结构示意图。
[0018]附图标记:1、加工箱;2、输送管;3、吸液管;4、连接管;5、固定管;6、冷凝泵;7、循环管;8、循环泵;9、进液管;10、放置腔;11、安装管;12、第一输液管;13、第二输液管。
具体实施方式
[0019]如图1

3所示,一种晶体薄膜制备装置,包括加工箱1,加工箱1侧边两端分别固定连通有输送管2和吸液管3,且输送管2和吸液管3的数量为若干组,输送管2远离加工箱1的一端固定连通有连接管4,连接管4远离加工箱1的一端固定连通有固定管5,固定管5远离加工箱1的一端固定连通有第一输液管12,第一输液管12远离加工箱1的一端固定连通有循环管7,且循环管7的数量为若干组。
[0020]本实施例中如图1、图2和图3所示,通过将输送管2和吸液管3与加工箱1内部开设的放置腔10相连通,进而在循环泵8的运转带动下,即可使得放置腔10内部放置的降温液可以从输液管2内部被抽出,结合循环管7对降温液的输送而使得放置腔10内部的降温液进行循环流动,使得放置腔10内部不同部位的降温液可以进行位置转换,避免单一部位的降温液无法充分的对不同位置的加工部件进行冷却降温处理,进而提高冷却液的使用效率,以及进一步保证晶体薄膜制备过程始终处于一个温度较低的环境中。
[0021]其中,吸液管3远离加工箱1的一端固定连通有安装管11,安装管11侧边固定连通有进液管9。
[0022]本实施例中如图1、图2和图3所示,通过安装管11以及进液管9对降温液的输送而保证降温液的正常循环流动处理。
[0023]其中,进液管9远离加工箱1的一端固定连通有第二输液管13,且循环管7与第二输液管13侧边固定相连通。
[0024]本实施例中如图1、图2和图3所示,通过将循环管7与第二输液管13相连通而保证降温液的正常流动循环。
[0025]其中,加工箱1内侧开设有放置腔10,且输送管2和吸液管3内侧均与放置腔10固定相连通。
[0026]本实施例中如图1、图2和图3所示,通过将输送管2以及吸液管3均与放置腔10相连通而保证降温液在循环输送后依旧可以对加工箱1内部进行降温处理。
[0027]其中,进液管9中端固定连通有循环泵8。
[0028]本实施例中如图1、图2和图3所示,通过循环泵8的结构作用而保证整个装置在使用时合理性。
[0029]其中,固定管5中端固定连通有冷凝泵6。
[0030]本实施例中如图1、图2和图3所示,通过在固定管5表面连同有冷凝泵6,使得固定管5在对循环后的降温液进行输送至放置腔10内部的途中,即可对降温液进行冷凝降温处理,保证降温液在保持制备环境温度时的降温作用不会随着使用时间的增加而降低,提高降温液的使用时间。
[0031]工作时,在对晶体薄膜进行制备加工时,通过外部控制开关打开循环泵8以及冷凝泵6,将降温液通过吸液管3从放置腔10内部抽出,依次流通经过安装管11、进液管9、第二输液管13、循环管7、第一输液管12、固定管5、连接管4和输送管2,直至再次进入放置腔10内部,使得循环管7可以将放置腔10内部储存的降温液进行循环流动处理,结合冷凝泵6对循环流动的降温液进行冷凝降温处理,保证晶体薄膜制备过程始终处于一个温度较低的环境中,进行晶体薄膜制备加工处理。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶体薄膜制备装置,包括加工箱(1),其特征在于:所述加工箱(1)侧边两端分别固定连通有输送管(2)和吸液管(3),且输送管(2)和吸液管(3)的数量为若干组;所述输送管(2)远离加工箱(1)的一端固定连通有连接管(4),所述连接管(4)远离加工箱(1)的一端固定连通有固定管(5),所述固定管(5)远离加工箱(1)的一端固定连通有第一输液管(12),所述第一输液管(12)远离加工箱(1)的一端固定连通有循环管(7),且循环管(7)的数量为若干组。2.根据权利要求1所述的一种晶体薄膜制备装置,其特征在于:所述吸液管(3)远离加工箱(1)的一端固定连通有安装管(11),所述安装管(...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘慈慧李祥
申请(专利权)人:南京实为之新材料有限公司
类型:新型
国别省市:

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