【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于纯化溶剂的系统及方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请主张2020年1月16日提出的美国临时专利申请序号62/961,860的优先权,其内容通过引用整体并入本文中。
[0003]本公开涉及一种用于纯化溶剂(例如,有机溶剂)的系统及方法。特别是,本公开涉及一种可用于获得具有非常低量的金属杂质的有机溶剂的系统及方法。
技术介绍
[0004]由于器件尺寸的不断缩小,半导体工业已实现电子器件的集成密度的快速改进。最终,在给定区域中可以集成更多较小的器件。这些改进主要是由于新精确度及高分辨率处理技术的发展。
[0005]在高分辨率的集成电路(IC)的制造期间,各种处理液体将与裸晶圆或涂膜晶圆接触。例如,精细金属互连的制造通常包括在使用复合液体来涂覆基底材料以形成光刻胶膜前,使用预润湿液体来涂覆该基底材料的程序。这些包括专有成分及各种添加剂的处理液体已知是IC晶圆的污染物来源。
[0006]据信,即使痕量污染物混入这些化学液体诸如晶圆预润湿液体或显影剂溶液中,所产生的电路图案也可能具有缺陷。已知非常低程度如低至1.0ppt的金属杂质的存在也可能干扰半导体器件的性能及稳定性。取决于金属污染物的种类,氧化物性质可恶化、可形成不准确的图案、可损害半导体电路的电性能,这最终将不利地影响制造良率。
[0007]在制造化学液体的各个阶段,诸如金属杂质、细微粒子、有机杂质、水分等杂质的污染可能不经意地引入到该化学液体中。示例包括存在于原料中的杂质、或者当制造该化学液体时所产生的副产 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种从有机溶剂移除金属杂质的方法,包含:使所述有机溶剂通过第一过滤器单元及第二过滤器单元,以获得经纯化的有机溶剂;其中,所述第一过滤器单元包含第一壳体及在所述第一壳体中的至少一个第一过滤器,且所述第一过滤器包括包含带正电荷的离子交换树脂的过滤介质;以及所述第二过滤器单元包含第二壳体及在所述第二壳体中的至少一个第二过滤器,且所述第二过滤器包括包含带负电荷的离子交换树脂的过滤介质。2.如权利要求1所述的方法,其中,所述第一过滤器中的所述过滤介质或所述第二过滤器中的所述过滤介质包含聚酰胺、聚烯烃、含氟聚合物或其共聚物。3.如权利要求1所述的方法,其中,所述第一过滤器中的所述过滤介质包含聚酰胺。4.如权利要求3所述的方法,其中,所述第一过滤器中的所述过滤介质包含尼龙。5.如权利要求1所述的方法,其中,所述第一过滤器中的所述过滤介质包含季铵基团。6.如权利要求1所述的方法,其中,所述第二过滤器中的所述过滤介质包含高密度聚乙烯。7.如权利要求1所述的方法,其中,所述第二过滤器中的所述过滤介质包含磺酸盐基团。8.如权利要求1所述的方法,其中,所述第一过滤器中的所述过滤介质或所述第二过滤器中的所述过滤介质包含聚四氟乙烯。9.如权利要求1所述的方法,其中,所述第一过滤器单元包含1至20个第一过滤器,所述第二过滤器单元包含1至20个第二过滤器。10.如权利要求1所述的方法,其中,使所述有机溶剂通过所述第一过滤器单元或所述第二过滤器单元在至多约80℉的温度下进行。11.如权利要求1所述的方法,还包括使所述有机溶剂通过至少一个热交换器以将所述有机溶剂的温度维持在至多约80℉。12.如权利要求1所述的方法,还包括使所述有机溶剂通过至少一个粒子移除过滤器单元,其中,所述至少一个粒子移除过滤器单元设置在所述第一过滤器单元及所述第二过滤器单元的上游、在所述第一过滤器单元与所述第二过滤器单元之间、或在所述第一过滤器单元及所述第二过滤器单元的下游。13.如权利要求1所述的方法,还包括将所述经纯化的溶剂移动至包装站。14.如权利要求1所述的方法,其中,所述有机溶剂包含环己酮、乳酸乙酯、醋酸正丁酯、丙二醇单甲基醚、醋酸丙二醇单甲基醚酯、4
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甲基
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戊醇或碳酸丙烯酯。15.如权...
【专利技术属性】
技术研发人员:佩吉曼,
申请(专利权)人:富士胶片电子材料美国有限公司,
类型:发明
国别省市:
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