一种基于晶圆清洗的清洗甩干设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种基于晶圆清洗的清洗甩干设备，包括底部外壳，内部支架，金属稳定块，燕尾型滑槽，水平调节架结构，滑动底座，转轴支架，固定旋转轴，开口调节架结构，固定轴承，晶圆夹持架结构，旋转电机，顶部翻转盖和透明观察窗，所述的内部支架螺栓连接在底部外壳的内侧右下部；所述的金属稳定块嵌入在内部支架的内侧下部；所述的燕尾型滑槽开设在内部支架的内侧上部；所述的水平调节架结构安装在燕尾型滑槽的内侧。本实用新型专利技术三角连接轴板和弧形倾斜杆的设置，有利于通过三个为一组设置的弧形倾斜杆，可以对晶圆的边缘进行夹持，即可以减少夹持面积，同时不影响对晶圆中间位置的甩干效果。甩干效果。甩干效果。

【技术实现步骤摘要】
一种基于晶圆清洗的清洗甩干设备


[0001]本技术属于晶圆清洗甩干
，尤其涉及一种基于晶圆清洗的清洗甩干设备。

技术介绍

[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆。国内晶圆生产线以8英寸和12英寸为主，晶圆的主要加工方式为片加工和批加工，即同时加工1片或多片晶圆。随着半导体特征尺寸越来越小，加工及测量设备越来越先进，使得晶圆加工出现了新的数据特点。
[0003]但是现有的基于晶圆清洗的清洗甩干设备还存在着不嗯能够根据晶圆的直径调整夹持位置、夹持后中间位置的水分不能被甩干和夹持面积较大影响甩干效果的问题。
[0004]因此，专利技术一种基于晶圆清洗的清洗甩干设备显得非常必要。

技术实现思路

[0005]为了解决上述技术问题，本技术提供一种基于晶圆清洗的清洗甩干设备，其中本技术是通过以下技术方案得以实现的：
[0006]一种基于晶圆清洗的清洗甩干设备，包括底部外壳，内部支架，金属稳定块，燕尾型滑槽，水平调节架结构，滑动底座，转轴支架，固定旋转轴，开口调节架结构，固定轴承，晶圆夹持架结构，旋转电机，顶部翻转盖和透明观察窗，所述的内部支架螺栓连接在底部外壳的内侧右下部；所述的金属稳定块嵌入在内部支架的内侧下部；所述的燕尾型滑槽开设在内部支架的内侧上部；所述的水平调节架结构安装在燕尾型滑槽的内侧；所述的滑动底座设置在内部支架的上部；所述的转轴支架一体化设置在滑动底座的上部；所述的固定旋转轴轴接在转轴支架的内侧；所述的开口调节架结构分别安装在固定旋转轴的左侧以及固定轴承的右侧，所述的固定轴承的外圈镶嵌在底部外壳的内侧左上部；所述的晶圆夹持架结构分别三个为一组安装在开口调节架结构的端部；所述的旋转电机螺栓连接在转轴支架的右侧；所述的顶部翻转盖合页连接在底部外壳的上部；所述的透明观察窗嵌入在顶部翻转盖的前端左侧。
[0007]优选的，所述的旋转电机的输出轴左侧与固定旋转轴的右侧联轴器连接，所述的固定旋转轴的轴心线与固定轴承的轴心线共线设置。
[0008]与现有技术相比，本技术的有益效果为：
[0009]1.本技术中，所述的螺纹连接轴和Y型凹槽的设置，有利于对多个弧形倾斜杆进行固定，并且螺纹连接轴可以推动弧形倾斜杆相互靠拢。
[0010]2.本技术中，所述的内螺纹限位套和弧形开口的设置，有利于通过弧形开口的内侧，对弧形倾斜杆的开口大小进行控制，从而使弧形倾斜杆可以对不同直径的晶圆进行夹持。
[0011]3.本技术中，所述的六角顶紧螺母和防滑垫圈的设置，有利于固定内螺纹限位套在螺纹连接轴内侧的位置，并且防滑垫圈增加接触位置的摩擦力，从而起到防松的作用。
[0012]4.本技术中，所述的三角连接轴板和弧形倾斜杆的设置，有利于通过三个为一组设置的弧形倾斜杆，可以对晶圆的边缘进行夹持，即可以减少夹持面积，同时不影响对晶圆中间位置的甩干效果。
[0013]5.本技术中，所述的圆柱顶紧盘和橡胶防滑垫的设置，有利于通过左右两侧的圆柱顶紧盘，对晶圆的边缘进行夹持，从而提高对晶圆中间位置的甩干效果。
[0014]6.本技术中，所述的加固肋板的设置，有利于对弧形倾斜杆的结构强度进行加固，并且减少内螺纹限位套对弧形倾斜杆顶紧时的磨损，延长使用寿命。
[0015]7.本技术中，所述的燕尾型滑动块、水平螺纹孔、调节螺纹杆和调节手轮的设置，有利于调节燕尾型滑动块横向位置，从而通过挤压对晶圆进行夹持，防止离心力将晶圆甩出。
[0016]8.本技术中，所述的安装轴承和固定端盖的设置，有利于对调节螺纹杆的位置进行固定，并且将固定端盖拆下后，便于对调节螺纹杆进行维护。
附图说明
[0017]图1是本技术的结构示意图。
[0018]图2是本技术的开口调节架结构的结构示意图。
[0019]图3是本技术的晶圆夹持架结构的结构示意图。
[0020]图4是本技术的水平调节架结构的结构示意图。
[0021]图中：
[0022]1、底部外壳；2、内部支架；3、金属稳定块；4、燕尾型滑槽；5、水平调节架结构；51、燕尾型滑动块；52、水平螺纹孔；53、调节螺纹杆；54、安装轴承；55、固定端盖；56、调节手轮；6、滑动底座；7、转轴支架；8、固定旋转轴；9、开口调节架结构；91、螺纹连接轴；92、Y型凹槽；93、内螺纹限位套；94、弧形开口；95、六角顶紧螺母；96、防滑垫圈；10、固定轴承；11、晶圆夹持架结构；111、圆柱顶紧盘；112、橡胶防滑垫；113、三角连接轴板；114、弧形倾斜杆；115、加固肋板；12、旋转电机；13、顶部翻转盖；14、透明观察窗。
具体实施方式
[0023]以下结合附图对本技术做进一步描述：
[0024]实施例：
[0025]如附图1和附图2所示，一种基于晶圆清洗的清洗甩干设备，包括底部外壳1，内部支架2，金属稳定块3，燕尾型滑槽4，水平调节架结构5，滑动底座6，转轴支架7，固定旋转轴8，开口调节架结构9，固定轴承10，晶圆夹持架结构11，旋转电机12，顶部翻转盖13和透明观察窗14，所述的内部支架2螺栓连接在底部外壳1的内侧右下部；所述的金属稳定块3嵌入在内部支架2的内侧下部；所述的燕尾型滑槽4开设在内部支架2的内侧上部；所述的水平调节架结构5安装在燕尾型滑槽4的内侧；所述的滑动底座6设置在内部支架2的上部；所述的转轴支架7一体化设置在滑动底座6的上部；所述的固定旋转轴8轴接在转轴支架7的内侧；所
述的开口调节架结构9分别安装在固定旋转轴8的左侧以及固定轴承10的右侧，所述的固定轴承10的外圈镶嵌在底部外壳1的内侧左上部；所述的晶圆夹持架结构11分别三个为一组安装在开口调节架结构9的端部；所述的旋转电机12螺栓连接在转轴支架7的右侧；所述的顶部翻转盖13合页连接在底部外壳1的上部；所述的透明观察窗14嵌入在顶部翻转盖13的前端左侧；所述的开口调节架结构9包括螺纹连接轴91，Y型凹槽92，内螺纹限位套93，弧形开口94，六角顶紧螺母95和防滑垫圈96，所述的Y型凹槽92开设在螺纹连接轴91的内部左侧；所述的内螺纹限位套93螺纹连接在螺纹连接轴91的外部左侧；所述的弧形开口94开设在内螺纹限位套93的内部左侧；所述的六角顶紧螺母95螺纹连接在螺纹连接轴91的外部右侧；所述的防滑垫圈96胶接在六角顶紧螺母95的外部左侧；旋转内螺纹限位套93，调整内螺纹限位套93在螺纹连接轴91外侧的位置，然后旋转六角顶紧螺母95，使六角顶紧螺母95的左侧紧密贴合在内螺纹限位套93的右侧。
[0026]如附图3所示，上述实施例中，具体的，所述的晶圆夹持架结构11包括圆柱顶紧盘111，橡胶防滑垫112，三角连接轴板113，弧形倾斜杆114和加固肋板115，所述的橡胶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于晶圆清洗的清洗甩干设备，其特征在于，该基于晶圆清洗的清洗甩干设备，包括底部外壳(1)，内部支架(2)，金属稳定块(3)，燕尾型滑槽(4)，水平调节架结构(5)，滑动底座(6)，转轴支架(7)，固定旋转轴(8)，开口调节架结构(9)，固定轴承(10)，晶圆夹持架结构(11)，旋转电机(12)，顶部翻转盖(13)和透明观察窗(14)，所述的内部支架(2)螺栓连接在底部外壳(1)的内侧右下部；所述的金属稳定块(3)嵌入在内部支架(2)的内侧下部；所述的燕尾型滑槽(4)开设在内部支架(2)的内侧上部；所述的水平调节架结构(5)安装在燕尾型滑槽(4)的内侧；所述的滑动底座(6)设置在内部支架(2)的上部；所述的转轴支架(7)一体化设置在滑动底座(6)的上部；所述的固定旋转轴(8)轴接在转轴支架(7)的内侧；所述的开口调节架结构(9)分别安装在固定旋转轴(8)的左侧以及固定轴承(10)的右侧，所述的固定轴承(10)的外圈镶嵌在底部外壳(1)的内侧左上部；所述的晶圆夹持架结构(11)分别三个为一组安装在开口调节架结构(9)的端部；所述的旋转电机(12)螺栓连接在转轴支架(7)的右侧；所述的顶部翻转盖(13)合页连接在底部外壳(1)的上部；所述的透明观察窗(14)嵌入在顶部翻转盖(13)的前端左侧；所述的开口调节架结构(9)包括螺纹连接轴(91)，Y型凹槽(92)，内螺纹限位套(93)，弧形开口(94)，六角顶紧螺母(95)和防滑垫圈(96)，所述的Y型凹槽(92)开设在螺纹连接轴(91)的内部左侧；所述的内螺纹限位套(93)螺纹连接在螺纹连接轴(91)的外部左侧；所述的弧形开口(94)开设在内螺纹限位套(93)的内部左侧；所述的六角顶紧螺母(95)螺纹连接在螺纹连接轴(91)的外部右侧；所述的防滑垫圈(96)胶接在六角顶紧螺母(95)的外部左侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：王宜，王晓波，王瑜，
申请(专利权)人：无锡瑞达半导体专用设备有限公司，
类型：新型
国别省市：