一种高速分散均质机制造技术

本申请公开了一种高速分散均质机，包括底座、支撑杆、升降调节机构和均质机头，支撑杆与底座固定连接，均质机头与支撑杆之间通过升降调节机构连接，升降调节机构包括升降座，均质机头与升降座之间沿竖直方向滑移连接，升降座设有用于阻碍均质机头向下滑移脱离升降座的下止件。本申请中当需要将容器放置于底座或从底座取下时，可使均质机头向上滑移避让移动中的容器，当容器移动后再使均质机头复位，有利于提升均质机头升降的操作效率。于提升均质机头升降的操作效率。于提升均质机头升降的操作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种高速分散均质机


[0001]本申请涉及搅拌混合设备的领域，尤其是涉及一种高速分散均质机。

技术介绍

[0002]高速分散均质机是一种兼有搅拌、捣碎、乳化等多种功能的设备，本均质机具有转速高，运转稳定，噪音小，分散均质效果好等特性。高速分散均质机广泛应用于医学试验、化工制药、生物制品、食品加工等领域。在糖果生产中，需要使用高速分散均质机对添加进糖果中的营养物质进行分散均质处理，使营养物质在糖果中的分布更为均匀。
[0003]现有技术中的常见的高速分散均质机主要包括底座、支撑杆和均质机头，均质机头与支撑杆之间通过升降调节件连接，通过升降调节组件可控制均质机头升降，在将容器放置于底座或从底座取下的过程中，均需要使均质机头进行升降，使均质机头的执行部件避让移动中的容器，均质机头的升降过程需要一定的操作时间，对于需要连续进行分散均质的工作则较为影响效率。

技术实现思路

[0004]为了解决高速均质分散作业过程中升降均质机头影响工作效率的问题，本申请提供一种高速分散均质机。
[0005]本申请提供的一种高速分散均质机采用如下的技术方案：
[0006]一种高速分散均质机，包括底座、支撑杆、升降调节机构和均质机头，所述支撑杆与所述底座固定连接，所述均质机头与所述支撑杆之间通过所述升降调节机构连接，所述升降调节机构包括升降座，所述均质机头与所述升降座之间沿竖直方向滑移连接，所述升降座设有用于阻碍所述均质机头向下滑移脱离所述升降座的下止件。
[0007]通过采用上述技术方案，均质机头与升降座沿竖直方向滑移连接，升降座的下止件阻碍均质机头向下脱离升降座，使均质机头与升降座之间保持一定的相对高度；当需要将容器放置于底座或从底座取下时，可使均质机头向上滑移避让移动中的容器，当容器移动后再使均质机头复位，上述过程中，均质机头上下移动的过程方便快捷，且均质机头的下止点位置受到下止件的限位作用，无需通过目视监测均质机头的下端与容器内的物料的相对位置，有利于提升均质机头升降的操作效率。
[0008]可选的，均质机头靠近所述升降座的一侧设有滑块，所述升降座设有沿竖直方向延伸的滑槽，所述滑块与所述滑槽沿竖直方向滑移连接，所述滑槽的下端封闭设置，所述滑槽下端的侧壁作为所述下止件。
[0009]通过采用上述技术方案，均质机头通过滑块与升降座的滑槽滑移连接，滑槽下端的侧壁作为下止件，下止件对均质机头的限位作用较为稳定可靠。
[0010]可选的，所述滑块固定连接有第一磁体，所述升降座的下表面设有第二磁体，所述第二磁体用于迫使所述第一磁体靠近所述滑槽下端的侧壁。
[0011]通过采用上述技术方案，第二磁体通过磁吸力迫使第一磁体靠近滑槽下端的侧
壁，使均质机头处于工作状态时的位置较为稳定。
[0012]可选的，所述第二磁体与所述升降座转动连接，所述第二磁体与所述升降座之间的旋转中心线竖直设置，所述第二磁体的两个磁极沿水平方向错位设置，所述第一磁体的两个磁极沿水平方向错位设置。
[0013]通过采用上述技术方案，第二磁体可相对升降座转动，当第二磁体转动至自身的两个磁极互换方向时，第二磁体与第一磁体之间产生磁斥力，从而使均质机头较为易于向上提起。
[0014]可选的，所述均质机头靠近所述升降座一侧的侧面设为平面，所述均质机头的平面用于封闭所述滑槽位于所述滑块下方的区域。
[0015]通过采用上述技术方案，均质机头的平面封闭滑槽位于滑块下方的区域，当滑块相对滑槽滑移时，滑块作近似活塞的运动，从而使滑块的移动受到缓冲作用，从而减少均质机头向下移动复位时的冲击力。
[0016]可选的，所述支撑杆与所述升降座沿竖直方向滑移连接，所述升降座设有蜗轮和蜗杆，所述蜗轮与所述升降座转动连接，所述蜗杆与所述升降座转动连接，所述蜗轮与所述蜗杆互相啮合，所述蜗轮的轴线与支撑杆的长度方向垂直，所述支撑杆设有齿条，所述齿条的长度方向沿所述支撑杆的长度方向，所述蜗轮与所述齿条啮合，所述蜗杆连接有手柄。
[0017]通过采用上述技术方案，通过转动手柄可带动蜗杆和蜗轮转动，蜗轮与齿条相互啮合，使蜗轮转动时可带动升降座进行升降移动；通过使升降座移动，使均质机头与底座之间的最小间距发生变化，从而使均质机头可适用于不同高度的容器。
[0018]可选的，所述手柄包括第一手柄杆，所述第一手柄杆与所述蜗杆垂直，所述第一手柄杆远离所述蜗杆的一端设有第二手柄杆，所述第二手柄杆与所述蜗杆平行，所述第一手柄杆设供所述第二手柄杆穿设的通孔，所述第二手柄杆靠近升降座的一端设为刀口状，所述升降座靠近所述手柄一侧的表面设有环绕所述第一手柄杆的防滑纹，所述防滑纹的纹路沿所述第一手柄杆的径向设置，所述防滑纹供所述第二手柄杆靠近所述升降座的一端抵接。
[0019]通过采用上述技术方案，当第二手柄杆设为刀口状的一端抵接防滑纹时，防滑纹可阻碍第一手柄杆带动第二手柄杆旋转，从而使升降座与支撑杆之间的相对位置更为稳固。
[0020]可选的，所述第二手柄杆的表面涂覆有橡胶涂层，所述第二手柄杆与所述通孔的内周壁之间具有摩擦阻尼。
[0021]通过采用上述技术方案，第二手柄杆与通孔内周壁之间的摩擦阻尼，有利于使第二手柄杆保持抵接防滑纹的状态。
[0022]综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
[0023]当需要将容器放置于底座或从底座取下时，可使均质机头向上滑移避让移动中的容器，当容器移动后再使均质机头复位，上述过程中，均质机头上下移动的过程方便快捷，且均质机头的下止点位置受到下止件的限位作用，无需通过目视监测均质机头的下端与容器内的物料的相对位置，有利于提升均质机头升降的操作效率；
[0024]第二磁体通过磁吸力迫使第一磁体靠近滑槽下端的侧壁，使均质机头处于工作状态时的位置较为稳定。
附图说明
[0025]图1是本实施例的整体结构示意图。
[0026]图2是本实施例用于体现第一磁体和第二磁体的安装位置的剖视图。
[0027]图3是图2中A处的局部放大视图。
[0028]图4是本实施例用于体现升降调节机构的结构的示意图。
[0029]附图标记说明：1、底座；2、支撑杆；3、升降调节机构；31、升降座；311、滑槽；312、下止件；313、安装槽；314、盖板；315、防滑纹；32、蜗轮；33、蜗杆；4、均质机头；41、机头主体；411、滑块；42、分散执行部；5、第一磁体；6、第二磁体；61、转轴；611、环槽；7、定位螺丝；8、齿条；9、手柄；91、第一手柄杆；911、通孔；92、第二手柄杆。
具体实施方式
[0030]以下结合附图1
‑
4对本申请作进一步详细说明。
[0031]本申请实施例公开一种高速分散均质机。参照图1，高速分散均质机包括底座1、支撑杆2、升降调节机构3和均质机头4，支撑杆2与底座1固定连接，均质机头4与支撑杆2之间通过升降调节机构3连接，升降调节机构3包括升降座本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高速分散均质机，包括底座(1)、支撑杆(2)、升降调节机构(3)和均质机头(4)，所述支撑杆(2)与所述底座(1)固定连接，所述均质机头(4)与所述支撑杆(2)之间通过所述升降调节机构(3)连接，所述升降调节机构(3)包括升降座(31)，其特征在于：所述均质机头(4)与所述升降座(31)之间沿竖直方向滑移连接，所述升降座(31)设有用于阻碍所述均质机头(4)向下滑移脱离所述升降座(31)的下止件(312)。2.根据权利要求1所述的一种高速分散均质机，其特征在于：均质机头(4)靠近所述升降座(31)的一侧设有滑块(411)，所述升降座(31)设有沿竖直方向延伸的滑槽(311)，所述滑块(411)与所述滑槽(311)沿竖直方向滑移连接，所述滑槽(311)的下端封闭设置，所述滑槽(311)下端的侧壁作为所述下止件(312)。3.根据权利要求2所述的一种高速分散均质机，其特征在于：所述滑块(411)固定连接有第一磁体(5)，所述升降座(31)的下表面设有第二磁体(6)，所述第二磁体(6)用于迫使所述第一磁体(5)靠近所述滑槽(311)下端的侧壁。4.根据权利要求3所述的一种高速分散均质机，其特征在于：所述第二磁体(6)与所述升降座(31)转动连接，所述第二磁体(6)与所述升降座(31)之间的旋转中心线竖直设置，所述第二磁体(6)的两个磁极沿水平方向错位设置，所述第一磁体(5)的两个磁极沿水平方向错位设置。5.根据权利要求2所述的一种高速分散均质机，其特征在于：所述均质机头(4)靠近所述升降座(31)一侧的侧面设为平面，所述均质机头(4)的平面用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：王海彬，张灿文，张培彬，
申请(专利权)人：泉州丽高食品有限公司，
类型：新型
国别省市：