【技术实现步骤摘要】
屏幕缺陷的检测方法、装置、设备及计算机可读存储介质
[0001]本专利技术涉及屏幕检测
，尤其涉及一种屏幕缺陷的检测方法、装置、设备及计算机可读存储介质。
技术介绍
[0002]移动技术设备快速发展，比如手机、VR(Virtual Reality，虚拟现实)眼镜和平板等设备，都少不了显示屏，而在大批量显示屏生产中，显示屏的缺陷检测时必不可少的步骤，目前国内大部分制造厂商还采用人工检测，这对操作员的眼睛要求较高，再一个长期进行缺陷检测，疲劳时会造成漏检，提高了不良品流入市场的几率。因此，目前通过人工检测显示屏方法存在漏检几率大的问题。
[0003]上述内容仅用于辅助理解本专利技术的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。
技术实现思路
[0004]本专利技术的主要目的在于提供一种屏幕缺陷的检测方法、装置、设备及可读存储介质，旨在解决目前通过人工检测显示屏方法存在漏检几率大的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供一种屏幕缺陷的检测方法，所述屏幕缺陷的检测方法包括以下步骤：
[0006]根据第一预设高斯滤波参数和第二预设高斯滤波参数生成目标高斯滤波器，其中，所述第一预设高斯滤波参数与所述第二预设高斯滤波参数不同；
[0007]基于所述目标高斯滤波器对待检测图像进行滤波得到第一处理图像，其中，所述待检测图像基于待检测屏幕生成；
[0008]对所述第一处理图像进行二值化处理得到第二处理图像，基于所述第二处理图像进行所述待检测屏幕的缺陷检测。>[0009]进一步的，所述根据第一预设高斯滤波参数和第二预设高斯滤波参数生成目标高斯滤波器的步骤包括：
[0010]基于第一预设高斯滤波参数生成第一滤波模板长度，基于第二预设高斯滤波参数生成第二滤波模板长度；
[0011]基于所述第一预设高斯滤波参数和所述第一滤波模板长度生成第一高斯滤波器，基于所述第二预设高斯滤波参数和所述第二滤波模板长度生成第二高斯滤波器；
[0012]基于所述第一高斯滤波器和所述第二高斯滤波器生成目标高斯滤波器。
[0013]进一步的，所述基于所述第一预设高斯滤波参数和所述第一滤波模板长度生成第一高斯滤波器，基于所述第二预设高斯滤波参数和所述第二滤波模板长度生成第二高斯滤波器的步骤包括：
[0014]根据所述第一滤波模板长度生成第一滤波模板，根据所述第一预设高斯滤波参数确定所述第一滤波模板中各位置对应的第一模板系数，根据所述第一滤波模板和所述第一
模板系数得到所述第一高斯滤波器；
[0015]根据所述第二滤波模板长度生成第二滤波模板，根据所述第二预设高斯滤波参数确定所述第二滤波模板中各位置对应的第二模板系数，根据所述第二滤波模板和所述第二模板系数得到所述第二高斯滤波器。
[0016]进一步的，所述第二预设高斯滤波参数大于所述第一预设高斯滤波参数，所述基于所述第一高斯滤波器和所述第二高斯滤波器生成目标高斯滤波器的步骤包括：
[0017]根据所述第二滤波模板长度对所述第一滤波模板进行填补生成新的所述第一滤波模板，以使新的所述第一滤波模板的长度与所述第二滤波模板的长度相等，其中，新的所述第一滤波模板中填补的位置所对应的系数均为零，得到新的所述第一模板系数；
[0018]基于第二滤波模板或新的所述第一滤波模板，将所述第二模板系数与新的所述第一模板系数根据位置对应关系作差，生成所述目标高斯滤波器。
[0019]进一步的，所述基于所述目标高斯滤波器对待检测图像进行滤波得到第一处理图像的步骤包括：
[0020]通过所述目标高斯滤波器在所述待检测图像的水平方向上做滤波处理得到水平处理图像；通过所述目标高斯滤波器在所述水平处理图像的竖直方向上做滤波处理得到所述第一处理图像；
[0021]或，通过所述目标高斯滤波器在所述待检测图像的竖直方向上做滤波处理得到竖直处理图像；通过所述目标高斯滤波器在所述竖直处理图像的水平方向上做滤波处理得到所述第一处理图像。
[0022]进一步的，所述基于所述目标高斯滤波器对待检测图像进行滤波得到第一处理图像的步骤还包括：
[0023]基于预设卷积表和所述目标高斯滤波器对所述待检测图像进行滤波得到第一处理图像，其中，所述预设卷积表由各像素值与预设滤波系数之间的乘积组成。
[0024]进一步的，在所述基于预设卷积表和所述目标高斯滤波器对所述待检测图像进行滤波得到第一处理图像的步骤之前，所述方法还包括：
[0025]根据所述目标高斯滤波器获取所述预设滤波系数的系数集合；
[0026]将系数集合中各所述滤波系数与各像素值相乘得到滤波值；
[0027]基于所述滤波系数、所述像素值以及所述滤波值之间的乘积关系生成所述预设卷积表。
[0028]此外，为实现上述目的，本专利技术还提供一种屏幕缺陷的检测装置，所述屏幕缺陷的检测装置包括：
[0029]生成模块，用于根据第一预设高斯滤波参数和第二预设高斯滤波参数生成目标高斯滤波器，其中，所述第一预设高斯滤波参数与所述第二预设高斯滤波参数不同；
[0030]滤波模块，用于基于所述目标高斯滤波器对待检测图像进行滤波得到第一处理图像，其中，所述待检测图像基于待检测屏幕生成；
[0031]检测模块，用于对所述第一处理图像进行二值化处理得到第二处理图像，基于所述第二处理图像进行所述待检测屏幕的缺陷检测。
[0032]此外，为实现上述目的，本专利技术还提供一种屏幕缺陷的检测设备，所述屏幕缺陷的检测设备包括：存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的屏幕缺
陷的检测程序，所述屏幕缺陷的检测程序被所述处理器执行时实现如上述的屏幕缺陷的检测方法的步骤。
[0033]此外，为实现上述目的，本专利技术还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有屏幕缺陷的检测程序，所述屏幕缺陷的检测程序被处理器执行时实现如上述的屏幕缺陷的检测方法的步骤。
[0034]本专利技术实施例提出的一种屏幕缺陷的检测方法、装置、设备及计算机可读存储介质，根据第一预设高斯滤波参数和第二预设高斯滤波参数生成目标高斯滤波器，其中，所述第一预设高斯滤波参数与所述第二预设高斯滤波参数不同；基于所述目标高斯滤波器对待检测图像进行滤波得到第一处理图像，其中，所述待检测图像基于待检测屏幕生成；对所述第一处理图像进行二值化处理得到第二处理图像，基于所述第二处理图像进行所述待检测屏幕的缺陷检测。即在本实施例中，通过预先设置的两个高斯滤波参数生成滤波器，通过高斯滤波器对屏幕的图片进行滤波处理，再在滤波处理的基础上进行二值化处理，将待检测图像上屏幕的缺陷突出化，降低检测难度，可实现屏幕缺陷检测的自动化。且在本实施例中，仅需要使用一个滤波器对待检测图像进行滤波处理，加快了整体屏幕缺陷检测的速度。
附图说明
[0035]图1是本专利技术实施例方案涉及的硬件运行环境的设备结构示意图；
[0036]图2为本专利技术屏幕缺陷的检本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种屏幕缺陷的检测方法，其特征在于，所述屏幕缺陷的检测方法包括以下步骤：根据第一预设高斯滤波参数和第二预设高斯滤波参数生成目标高斯滤波器，其中，所述第一预设高斯滤波参数与所述第二预设高斯滤波参数不同；基于所述目标高斯滤波器对待检测图像进行滤波得到第一处理图像，其中，所述待检测图像基于待检测屏幕生成；对所述第一处理图像进行二值化处理得到第二处理图像，基于所述第二处理图像进行所述待检测屏幕的缺陷检测。2.如权利要求1所述的屏幕缺陷的检测方法，其特征在于，所述根据第一预设高斯滤波参数和第二预设高斯滤波参数生成目标高斯滤波器的步骤包括：基于第一预设高斯滤波参数生成第一滤波模板长度，基于第二预设高斯滤波参数生成第二滤波模板长度；基于所述第一预设高斯滤波参数和所述第一滤波模板长度生成第一高斯滤波器，基于所述第二预设高斯滤波参数和所述第二滤波模板长度生成第二高斯滤波器；基于所述第一高斯滤波器和所述第二高斯滤波器生成目标高斯滤波器。3.如权利要求2所述的屏幕缺陷的检测方法，其特征在于，所述基于所述第一预设高斯滤波参数和所述第一滤波模板长度生成第一高斯滤波器，基于所述第二预设高斯滤波参数和所述第二滤波模板长度生成第二高斯滤波器的步骤包括：根据所述第一滤波模板长度生成第一滤波模板，根据所述第一预设高斯滤波参数确定所述第一滤波模板中各位置对应的第一模板系数，根据所述第一滤波模板和所述第一模板系数得到所述第一高斯滤波器；根据所述第二滤波模板长度生成第二滤波模板，根据所述第二预设高斯滤波参数确定所述第二滤波模板中各位置对应的第二模板系数，根据所述第二滤波模板和所述第二模板系数得到所述第二高斯滤波器。4.如权利要求3所述的屏幕缺陷的检测方法，其特征在于，所述第二预设高斯滤波参数大于所述第一预设高斯滤波参数，所述基于所述第一高斯滤波器和所述第二高斯滤波器生成目标高斯滤波器的步骤包括：根据所述第二滤波模板长度对所述第一滤波模板进行填补生成新的所述第一滤波模板，以使新的所述第一滤波模板的长度与所述第二滤波模板的长度相等，其中，新的所述第一滤波模板中填补的位置所对应的系数均为零，得到新的所述第一模板系数；基于第二滤波模板或新的所述第一滤波模板，将所述第二模板系数与新的所述第一模板系数根据位置对应关系作差，生成所述目标高斯滤波器。5.如权利要求1所...
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