【技术实现步骤摘要】
一种磁共振检测成像系统
[0001]本专利技术涉及磁共振成像
,尤其涉及一种磁共振检测成像系统。
技术介绍
[0002]磁共振成像又称自旋成像,是利用核磁共振原理,依据所释放的能量在物质内部不同结构环境中不同的衰减,通过外加梯度磁场检测所发射出的电磁波,即可得知构成这一物体原子核的位置和种类,据此可以绘制成物体内部的结构图像。
[0003]中国专利公开号:CN104950271B。公开了一种磁共振成像系统的接收机和磁共振成像系统;由此可见,现有技术中采用接收机对检测的磁共振信号进行直接的接受与转换,未对磁共振信号中各位置发出的电磁波相互影响进行消除,导致接收的磁共振信号与实际检测存在差异,使图像成像存在偏差。
技术实现思路
[0004]为此,本专利技术提供一种磁共振检测成像系统,用以克服现有技术中各位置的磁共振信号相互影响未消除的问题。
[0005]为实现上述目的,本专利技术提供一种磁共振检测成像系统,包括,
[0006]采集单元,其与磁共振设备相连,所述采集单元用以采集磁共振设备检测到的磁共振信号;
[0007]模拟单元,其与所述采集单元和所述磁共振设备分别相连,所述模拟单元能够将采集单元采集的磁共振信号进行分解,模拟单元并根据磁共振设备检测的位置与分解的磁共振信号创建位置信号图,位置信号图中有若干个信号点,其中每一个信号点都有一个对应的磁共振信号;
[0008]处理单元,其与所述模拟单元相连,所述处理单元能够将位置信号图中任意一信号点作为基点进行检测, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种磁共振检测成像系统,其特征在于,包括,采集单元,其与磁共振设备相连,所述采集单元用以采集磁共振设备检测到的磁共振信号;模拟单元,其与所述采集单元和所述磁共振设备分别相连,所述模拟单元能够将采集单元采集的磁共振信号进行分解,模拟单元并根据磁共振设备检测的位置与分解的磁共振信号创建位置信号图,位置信号图中有若干个信号点,其中每一个信号点都有一个对应的磁共振信号;处理单元,其与所述模拟单元相连,所述处理单元能够将位置信号图中任意一信号点作为基点进行检测,处理单元根据内部设置的第一影响距离与第二影响距离,判定位置信号图中除基点以外的任意一信号点为一级影响点、二级影响点或低级影响点,处理单元能够根据内部设置的标准的一级影响点数范围与获取的一级影响点数,判定是否对基点的信号强度进行修正;所述处理单元还能够根据基点信号强度与各一级影响点的平均信号强度,判定是否对基点的信号强度进行修正,在对基点的信号强度进行修正时,处理单元能够根据各一级影响点的信号强度、各一级影响点距基点的直线距离、各一级影响点数、各二级影响点数以及各二级影响点的信号强度对基点的信号强度进行修正;成像单元,其与所述处理单元相连,在处理单元将位置信号图中全部信号点的信号强度完成修正时,所述成像单元根据完成修正各信号点的信号强度的位置信号图,进行信号强度对应灰阶值的转换,完成磁共振的成像。2.根据权利要求1所述的磁共振检测成像系统,其特征在于,所述处理单元内设有第一影响距离L1与第二影响距离L2,其中,L1<L2,处理单元对位置信号图中任意一信号点作为基点进行检测,处理单元确定位置信号图中除基点以外的任意一信号点作为检测点,处理单元获取检测点与基点之间的直线距离Ls,处理单元将直线距离Ls与第一影响距离L1和第二影响距离L2进行对比,当Ls≤L1时,所述处理单元判定检测点的直线距离在第一影响距离内,处理单元将检测点判定为一级影响点;当L1<Ls≤L2时,所述处理单元判定检测点的直线距离高于第一影响距离但未超出第二影响距离,处理单元将检测点判定为二级影响点;当Ls>L2时,所述处理单元判定检测点的直线距离高于第二影响距离,处理单元将检测点判定为低级影响点,处理单元不根据检测点对基点的信号强度进行修正。3.根据权利要求2所述的磁共振检测成像系统,其特征在于,所述处理单元中设有标准一级影响点数Db与标准一级影响点数差ΔDb,处理单元对位置信号图中除基点以外的全部信号点进行判定,确定出各一级影响点,并计算得出一级影响点数D1,处理单元根据一级影响点数D1与标准一级影响点数Db计算一级影响点数差ΔD1,ΔD1=|Db
‑
D1|,处理单元将一级影响点数差ΔD1与标准一级影响点数差ΔDb进行对比,当ΔD1≤ΔDb时,所述处理单元判定一级影响点数差未超出标准一级影响点数差,处理单元将对各一级影响点平均信号强度进行判定,以确定是否对基点的信号强度进行修正;当ΔD1>ΔDb时,所述处理单元判定一级影响点数差超出标准一级影响点数差,处理单元将一级影响点数与标准一级影响点数进行对比,以确定一级影响点对基点的影响。
4.根据权利要求3所述的磁共振检测成像系统,其特征在于,当所述处理单元判定一级影响点数差超出标准一级影响点数差时,处理单元将一级影响点数D1与标准一级影响点数Db进行对比,当D1<Db时,所述处理单元判定一级影响点数低于标准一级影响点数,处理单元将各一级影响点的信号强度与各一级影响点距基点的直线距离,对基点的信号强度进行修正;当D1>Db时,所述处理单元判定一级影响点数高于标准一级影响点数,处理单元将根据一级影响点数与各一级影响点的信号强度对基点的信号强度进行修正。5.根据权利要求4所述的磁共振检测成像系统,其特征在于,所述处理单元内设有调差信号强度Qt,当所述处理单元判定一级影响点数差未超出标准一级影响点数差时,处理单元检测基点的基点信号强度Qj,处理单元计算各一级影响点的平均信号强度Qp,处理单元根据调差信号强度Qt与平均信号强度Qp计算低平均信号强度Qp1与高平均信号强度Qp2,其中,Qp1=Qp
‑
Qt,Qp2=Qp+Qt,处理单元将基点信号强度Qj与低平均信号强度Qp1和高平均信号强度Qp2进行对比,当Qj<Qp1时,所述处理单元判定基点信号强度低于低平均信号强度,处理单元对位置信号图中除基点以外的全部信号点进行判定,确定出各二级影响点,处理单元根据各二级影响点确定是否对基点的信号强度进行修正;当Qp1≤Qj≤Qp2时,...
【专利技术属性】
技术研发人员:李景荣,
申请(专利权)人:中科微影浙江医疗科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。