一种原子层沉积设备用自动密封装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种原子层沉积设备用自动密封装置，包括真空室底板、镀膜室底板以及位移驱动机构，其中所述真空室底板与所述位移驱动机构连接，所述真空室底板可在所述位移驱动机构的驱动下位移并对所述真空室的开口进行密封，所述镀膜室底板设置在所述真空室底板上且其可随着所述位移驱动机构的驱动对所述镀膜室的开口进行密封；所述镀膜室底板与所述真空室底板之间设置有位置调整机构，所述位置调整机构用于调整所述镀膜室底板与所述镀膜室之间的相对位置。本实用新型专利技术的优点是：实现真空室分别与大气及镀膜室的自动密封隔离、自动对位，有效地减少漏膜的可能，提高产品质量，无需频繁维护，降低成本，将可能存在的对人体的危害降到最低。的危害降到最低。的危害降到最低。

【技术实现步骤摘要】
一种原子层沉积设备用自动密封装置


[0001]本技术涉及薄膜制备
，尤其是一种原子层沉积设备用自动密封装置。

技术介绍

[0002]在原子层沉积镀膜设备中，真空室分别与大气以及镀膜室的隔离非常重要。影响着原子层沉积的速率及效果。
[0003]现有的技术对于真空室与镀膜室的隔离常采用密封圈压紧的结构，对于零件加工、安装精度要求较高；出现间隙时不容易调节；密封圈容易脱落导致漏膜；且密封圈需要定期更换。
[0004]如果真空室与大气未较好地隔离，会影响抽气速率从而影响镀膜效率及膜层质量；如果真空室与镀膜室未较好地隔离，镀膜过程中会有膜层从镀膜室进入真空室，污染真空室内的部品，包括加热器及镀膜室固定部件等，大大增加了后期维护的时间、缩短部品的使用寿命，同时也会影响镀膜的效率，增加化学源的使用量，增加客户的运营和维护成本。溢出的膜料如未能正确地清理和清洁，可能会对人体有一定的危害。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种原子层沉积设备用自动密封装置，利用装置本身的执行动作实现真空室分别与大气及镀膜室的自动密封隔离、自动对位，有效地减少漏膜的可能。
[0006]本技术目的实现由以下技术方案完成：
[0007]一种原子层沉积设备用自动密封装置，用于原子层沉积设备的真空室和镀膜室的密封，其中所述镀膜室设置在所述真空室的内部，所述镀膜室和所述真空室上分别具有位置对应的开口，其特征在于：该自动密封装置包括真空室底板、镀膜室底板以及位移驱动机构，其中所述真空室底板与所述位移驱动机构连接，所述真空室底板可在所述位移驱动机构的驱动下位移并对所述真空室的开口进行密封，所述镀膜室底板设置在所述真空室底板上且其可随着所述位移驱动机构的驱动对所述镀膜室的开口进行密封；所述镀膜室底板与所述真空室底板之间设置有位置调整机构，所述位置调整机构用于调整所述镀膜室底板与所述镀膜室之间的相对位置。
[0008]所述位置调整机构包括轴承座、滑座以及弹性件，所述滑座设置在所述真空室底板上，所述滑座的外侧通过滑动轴承连接所述滑座，所述滑座的外侧连接所述镀膜室底板，所述弹性件设置在所述滑座与所述轴承座之间使两者可相对运动；所述镀膜室底板可通过滑座与所述轴承座之间的相对运动实现位置调整。
[0009]所述轴承座的内侧连接有滚动轴承，所述滚动轴承连接有基片架转盘，所述基片架转盘连接有旋转驱动装置，所述旋转驱动装置位于所述真空室底板的外侧；所述基片架转盘可进入所述镀膜室的内部并在所述旋转驱动装置的驱动下在所述镀膜室内旋转。
[0010]所述滚动轴承对应所述基片架转盘处设置有密封件。
[0011]所述滑座的外圈为球形，使所述镀膜室底板可在所述滑座的球面上实现万向旋转。
[0012]所述滑动轴承对应于镀膜室处设置有挡板。
[0013]所述真空室底板与所述位移驱动机构之间设置有弹性件。
[0014]所述真空室底板上设置有可受压变形的密封件。
[0015]所述位移驱动机构为推送机构，所述位置调整机构为水平调整机构。
[0016]本技术的优点是：实现真空室分别与大气及镀膜室的自动密封隔离、自动对位，有效地减少漏膜的可能，提高产品质量，无需频繁维护，降低成本，将可能存在的对人体的危害降到最低；对安装精度的要求低，无需手动调节；不受密封件材料的限制，可用于多种薄膜的制备，适用于高温镀膜环境；无需耗材，成本低；结构紧凑，不占用多余的高度空间。
附图说明
[0017]图1为本技术处于未密封状态的结构示意图；
[0018]图2为本技术处于位移状态时的结构示意图；
[0019]图3为本技术处于已密封状态的结构示意图。
具体实施方式
[0020]以下结合附图通过实施例对本技术特征及其它相关特征作进一步详细说明，以便于同行业技术人员的理解：
[0021]如图1
‑
3所示，图中标记1
‑
13分别表示为：真空室底板1、轴承座2、滚动轴承3、基片架转盘4、滑动轴承5、滑座6、镀膜室底板7、弹簧8、旋转驱动装置9、推送机构10、真空室11、镀膜室12、密封件13。
[0022]实施例：如图1所示，本实施例中的原子层沉积设备用自动密封装置用于实现真空室11分别与大气与镀膜室12的自动密封隔离，其中镀膜室12固定设置在真空室11的内部，真空室11用于提供镀膜所需的真空环境，镀膜室12的内部为镀膜空间，基片可在镀膜室12的内部进行镀膜。在真空室11和镀膜室12的下部均开设有开口，该开口用于进行镀膜基片的进出料。
[0023]如图1所示，本实施例中的自动密封装置的主体包括用于对真空室11的下部开口进行密封隔离的真空室底板1以及用于对镀膜室12的下部开口进行密封隔离的镀膜室底板7。
[0024]其中，真空室底板1固定在作为位移驱动机构的推送机构10上，真空室底板1可在推送机构10的驱动下升降。呈L型结构的轴承座2固定在真空室底板1上，两者之间可通过设置定位销实现限位。在轴承座2的外侧套装带有滑动轴承5的滑座6，轴承座2和滑座6之间可通过滑动轴承5构成滑动配合，即滑座6可通过滑动轴承5在轴承座2的竖直方向上产生相对运动。在滑座6下方有弹簧8支撑，作为弹性件的弹簧8可同时限制滑座6旋转。滑座6外圈为球形，其与镀膜室底板7相连接，使镀膜室底板7可以在球面上实现万向旋转。在使用时，因实际工作需要的动作范围有限，故滑座6与镀膜室底板7之间的相对运动可由滑座6的形状
实现一定的限位。镀膜室12的下板开孔（开口）及镀膜室底板7为圆形，可以在滑座6上可自由旋转，不用调节方向，保证密封效果。在使用时，弹簧8还可以用密封圈和轴封等弹性件替代。
[0025]如图1至图3所示，在真空室底板1的表面设置有密封件13，密封件13可受压变形，从而起到密封作用。在使用时，密封件13可采用密封圈、静电圈及防尘圈密封的一种或两种及两种以上的组合。如图1所示，本实施例的密封件13采用了密封圈、静电圈及防尘圈密封的组合。
[0026]如图1至图3所示，当推送机构10带着真空室底板1以及上方各部件上升时，镀膜室底板7首先接触到镀膜室12的下板，此时真空室底板1上的密封件13与真空室11相接触。而后推送机构10继续上升，弹簧8开始作用，当推送机构10升到设定的上限位后，真空室底板1与真空室11实现密封，而镀膜室底板7与镀膜室12因弹簧8也实现相对密封。
[0027]当镀膜室底板7在安装时并未能调到水平时，可以通过弹簧8的压紧力实现自动调整到水平位置。具体而言，结合图2和图3所示，由于在弹簧8的作用下，滑座6可通过滑动轴承5在轴承座2处上下运动，因此与滑座6相连接的镀膜室底板7的水平位置可以得到自动调整，保证密封效果同时便于安装操作。
[0028]如图1所示，在轴承座2的内侧安装有滚动轴承3，基片架转盘4安装在滚动轴承3上，该基片架转盘4可放置镀膜基片本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种原子层沉积设备用自动密封装置，用于原子层沉积设备的真空室和镀膜室的密封，其中所述镀膜室设置在所述真空室的内部，所述镀膜室和所述真空室上分别具有位置对应的开口，其特征在于：该自动密封装置包括真空室底板、镀膜室底板以及位移驱动机构，其中所述真空室底板与所述位移驱动机构连接，所述真空室底板可在所述位移驱动机构的驱动下位移并对所述真空室的开口进行密封，所述镀膜室底板设置在所述真空室底板上且其可随着所述位移驱动机构的驱动对所述镀膜室的开口进行密封；所述镀膜室底板与所述真空室底板之间设置有位置调整机构，所述位置调整机构用于调整所述镀膜室底板与所述镀膜室之间的相对位置。2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积设备用自动密封装置，其特征在于：所述位置调整机构包括轴承座、滑座以及弹性件，所述滑座设置在所述真空室底板上，所述滑座的外侧通过滑动轴承连接所述滑座，所述滑座的外侧连接所述镀膜室底板，所述弹性件设置在所述滑座与所述轴承座之间使两者可相对运动；所述镀膜室底板可通过滑座与所述轴承座之间的相对运动实现位置调整。3.根据权利要求2所述的一种原子层沉积设备用自动密封装置，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏晓庆，崔国东，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：