明暗场检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种明暗场检测装置，用于检测基板上的待测区域，包括：明场照明单元、暗场照明单元、物镜单元及探测单元；明场照明单元出射的光束经物镜单元后在待测区域产生明场光斑，暗场照明单元出射的光束在待测区域产生暗场光斑，明场光斑及暗场光斑的反射光或散射光经物镜单元后被探测单元采集，其中，明场照明单元中设有明场光斑偏置单元，利用明场光斑偏置单元使明场光斑与暗场光斑的间隔距离大于设定值。本实用新型专利技术，通过设置明场光斑偏置单元，使明场光斑发生偏置，以增大明场光斑与暗场光斑的间距，以此减少两者之间的串扰，还可利用明场光斑偏置单元提高基板的焦面标定的准确性，以及提高暗场照明单元的安装精度。度。度。

【技术实现步骤摘要】
明暗场检测装置


[0001]本技术涉及半导体
，特别涉及一种明暗场检测装置。

技术介绍

[0002]在半导体设计、制造、封装中的各个环节都要进行反复多次的检测、测试以确保产品质量，从而研发出符合系统要求的器件。缺陷相关的故障成本影响高昂，从IC级别的数十美元，到模块级别的数百美元，乃至应用端级别的数千美元。因此，检测设备从设计验证到整个半导体制造过程都具有无法替代的重要地位。
[0003]以现有的光学检测装置为例，包括明场检测装置、暗场检测装置等分别用以对不同工艺、不同种类的缺陷进行检测，但该些检测装置的检测效率及检测效果均难以较佳地适应工艺需求。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种明暗场检测装置，以提高检测效率及检测效果。
[0005]为解决上述技术问题，本技术提供一种明暗场检测装置，用于检测基板上的待测区域，包括：明场照明单元、暗场照明单元、物镜单元及探测单元；所述明场照明单元出射的光束经所述物镜单元后在所述待测区域产生明场光斑，所述暗场照明单元出射的光束在所述待测区域产生暗场光斑，所述明场光斑及所述暗场光斑的反射光或散射光经所述物镜单元后被所述探测单元采集，其中，所述明场照明单元中设有明场光斑偏置单元，利用所述明场光斑偏置单元使所述明场光斑与所述暗场光斑的间隔距离大于设定值。
[0006]可选的，所述明场照明单元包括明场光源、明场照明前组及明场照明中组，所述明场光斑偏置单元设于所述明场照明前组与所述明场照明中组之间，所述明场光斑偏置单元包括偏离于所述明场照明前组的光轴的偏置视场光阑。
[0007]可选的，所述偏置视场光阑为矩形光阑，所述矩形光阑与所述明场照明单元的光轴的偏置距离大于0.5mm，所述明场光斑与所述物镜单元的视场中心的偏离距离大于0.4mm。
[0008]可选的，所述明场光斑偏置单元还包括调整单元，利用所述调整单元调节所述偏置视场光阑的偏置距离及偏置方向。
[0009]可选的，所述明场照明中组包括沿所述明场照明单元的光轴依次设置的负透镜、胶合镜及正透镜。
[0010]可选的，所述暗场光斑呈矩形，且所述暗场光斑位于所述物镜单元的视场中心的远离所述明场光斑的一侧。
[0011]可选的，所述暗场照明单元包括至少三路分支光路，至少三路所述分支光路形成环形照射，每路所述分光支路各包括暗场光源及暗场光路整形模块。
[0012]可选的，所述探测单元包括明场探测单元、暗场探测单元以及大靶面探测单元，所述明场探测单元用于采集所述明场光斑，所述暗场探测单元用于采集所述暗场光斑，所述
大靶面探测单元用于采集所述明场光斑和所述暗场光斑。
[0013]可选的，所述明场照明单元及所述暗场照明单元的光源均为宽带光源。
[0014]可选的，还包括若干滤光单元，所述滤光单元设于所述探测单元与所述物镜单元之间，用于不同光波段的明暗场检测。
[0015]综上所述，本技术提供的明暗场检测装置可同时进行明场检测及暗场检测的检测装置，并通过在明场照明单元中设置明场光斑偏置单元，使明场光斑发生偏置，以增大明场光斑与暗场光斑的间距，以此减少或防止明场检测与暗场检测之间的串扰，并同时保证明场检测和暗场检测的检测精度，还可利用明场光斑偏置单元提高检测基板的焦面标定的准确性，以及提高暗场照明单元的安装精度。
附图说明
[0016]本领域的普通技术人员应当理解，提供的附图用于更好地理解本技术，而不对本技术的范围构成任何限定。
[0017]图1是本实施例提供的明暗场检测装置的结构示意图；
[0018]图2是本实施例提供的偏置视场光阑的示意图；
[0019]图3是本实施例提供的物镜单元视场下明场光斑与暗场光斑的示意图。
[0020]附图中：
[0021]10
‑
基板；20
‑
明场照明单元；21
‑
明场光源；22
‑
明场照明前组；23
‑
明场光斑偏置单元；24
‑
明场照明中组；25
‑
明场光斑；30
‑
暗场照明单元；31
‑
暗场光源；32
‑
暗场光路整形模块；33
‑
暗场光斑；41
‑
物镜单元；411
‑
物镜单元的视场中心；42
‑
第一反射镜；43
‑
第二反射镜；44
‑
第三反射镜；50
‑
探测单元；51
‑
明场探测单元；52
‑
暗场探测单元；53
‑
大靶面探测单元。
具体实施方式
[0022]为使本技术的目的、优点和特征更加清楚，以下结合附图和具体实施例对本技术作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且未按比例绘制，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。此外，附图所展示的结构往往是实际结构的一部分。特别的，各附图需要展示的侧重点不同，有时会采用不同的比例。
[0023]如在本技术中所使用的，单数形式“一”、“一个”以及“该”包括复数对象，术语“或”通常是以包括“和/或”的含义而进行使用的，术语“若干”通常是以包括“至少一个”的含义而进行使用的，术语“至少两个”通常是以包括“两个或两个以上”的含义而进行使用的，此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者至少两个该特征，除非内容另外明确指出外。
[0024]实施例一
[0025]图1是实施例一提供的明暗场检测装置的结构示意图。
[0026]如图1所示，本实施例提供的明暗场检测装置，用于检测基板10上的待测区域，明暗场检测装置包括明场照明单元20、暗场照明单元30、物镜单元41及探测单元50。明场照明单元20出射的光束经物镜单元41后在待测区域产生明场光斑25，暗场照明单元30出射的光
束在待测区域产生暗场光斑33，明场光斑25及暗场光斑33的反射光或散射光经物镜单元41后被探测单元50采集，其中，明场照明单元20中设有明场光斑偏置单元23，利用明场光斑偏置单元23使明场光斑25与暗场光斑33的间隔距离D1大于设定值。
[0027]其中，本实施例提供的明暗场检测装置包括明场检测系统及暗场检测系统，可利用明场检测系统采集待测区域的明场视场信息，并同时(同步)利用暗场检测系统采集该待测区域的暗场视场信息，以提高检测效率。明场检测系统及暗场检测系统可采用各自独立的照明单元(明场照明单元20、暗场照明单元30)及探测单元(明场探测单元51、暗场探测单元52)，但共用物镜单元41及移动单元(未示出)，以便实现上述的同步检测。其中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种明暗场检测装置，用于检测基板上的待测区域，其特征在于，包括：明场照明单元、暗场照明单元、物镜单元及探测单元；所述明场照明单元出射的光束经所述物镜单元后在所述待测区域产生明场光斑，所述暗场照明单元出射的光束在所述待测区域产生暗场光斑，所述明场光斑及所述暗场光斑的反射光或散射光经所述物镜单元后被所述探测单元采集，其中，所述明场照明单元中设有明场光斑偏置单元，利用所述明场光斑偏置单元使所述明场光斑与所述暗场光斑的间隔距离大于设定值。2.根据权利要求1所述的明暗场检测装置，其特征在于，所述明场照明单元包括明场光源、明场照明前组及明场照明中组，所述明场光斑偏置单元设于所述明场照明前组与所述明场照明中组之间，所述明场光斑偏置单元包括偏离于所述明场照明前组的光轴的偏置视场光阑。3.根据权利要求2所述的明暗场检测装置，其特征在于，所述偏置视场光阑为矩形光阑，所述矩形光阑与所述明场照明前组的光轴的偏置距离大于0.5mm，所述明场光斑与所述物镜单元的视场中心的偏离距离大于0.4mm。4.根据权利要求3所述的明暗场检测装置，其特征在于，所述明场光斑偏置单元还包括调整单元，利用所述调整单元调节所述偏置视场...

【专利技术属性】
技术研发人员：李英甲，于大维，刁雷，李润芝，蓝科，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：