一种镜头防污染装置及等离子体炬光谱仪制造方法及图纸

技术编号:35315628 阅读:28 留言:0更新日期:2022-10-22 13:08
本实用新型专利技术公开了一种镜头防污染装置及等离子体炬光谱仪,等离子体炬光谱仪包括镜头和镜头防污染装置。镜头防污染装置包括中空的光筒。光筒的一端封闭,为封闭端;另一端开口,为开口端。光筒内部在封闭端和开口端之间设有镜头部,用于安装镜头。光筒的侧壁上设有气体接口,用于连接外部通气设备,且气体接口设于开口端和镜头之间,气体从气体接口流入光筒内部形成气体屏障,阻止外部污染物接触镜头。光筒的封闭端处,封闭,切断了光筒内部与外部接触的通道,使得污染物无法从封闭端进入光筒内污染镜头;而开口端处,可从气体接口处往光筒内通气,在镜头前形成气体屏障,从而阻止了污染物从开口端接触镜头,从根本上解决镜头容易被污染的问题。被污染的问题。被污染的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种镜头防污染装置及等离子体炬光谱仪


[0001]本技术属于镜头污染防护领域,尤其涉及一种镜头防污染装置及等离子体炬光谱仪。

技术介绍

[0002]在微波等离子体炬光谱仪的检测过程中,所产生的残留物质会逐渐附着于用来收集光信号的透镜的表面,导致光谱仪接收到的光信号的强度逐渐变弱,严重影响光谱仪性能。
[0003]然而,微波等离子体炬光谱仪工作时,样品由载气输送进入等离子体炬,被激发后产生可被检测到的光谱信号。此过程中,需要维持等离子体炬的稳定,以保证光谱信号的稳定。因此,等离子体炬所处的环境需要有稳定的气压和气流。此条件限制了检测过程产生的残留物质的排放速度。因此,用于采集光信号的透镜会逐渐被污染。
[0004]目前常用的做法是设计特定的气流通道,加快检测残留物的排放速度;同时定期清洁透镜,以维持光谱仪的性能。但,这只能减缓透镜被污染的速度,而不能从根本上解决问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种镜头防污染装置及等离子体炬光谱仪,以解决现有技术中镜头容易被污染的问题。
[0006]本技术的技术方案为:
[0007]一种镜头防污染装置,包括中空的光筒,所述光筒的一端封闭,为封闭端,另一端开口,为开口端;所述光筒内部在所述封闭端和所述开口端之间设有镜头部,用于安装镜头;
[0008]所述光筒的侧壁上设有气体接口,用于连接外部通气设备,且所述气体接口设于所述开口端和镜头之间,气体从所述气体接口流入所述光筒内部形成气体屏障,阻止外部污染物接触镜头。/>[0009]某一实施例中的镜头防污染装置,所述气体屏障占据所述光筒内部所述开口端和镜头之间部分,所述气体屏障的气压大于外部带污染物的环境气压,用于使外部污染物无法进入光筒。
[0010]某一实施例中的镜头防污染装置,所述镜头通过镜头安装部连接于所述镜头部;
[0011]所述镜头安装部用于安装固定镜头,所述镜头安装部和所述镜头部可拆卸连接。
[0012]某一实施例中的镜头防污染装置,所述镜头安装部为环形结构,内圈用于固定镜头,外圈设有外螺纹,所述镜头部为设于光筒内壁上的内螺纹,所述镜头安装部通过螺纹连接于光筒内部。
[0013]某一实施例中的镜头防污染装置,所述光筒内部设有限位面,所述限位面与所述镜头安装部接触连接,用于显示所述镜头安装部安装到位。
[0014]某一实施例中的镜头防污染装置,所述光筒的封闭端设有连通所述光筒内部的安装口,所述安装口上活动连接有封闭件,用于封闭所述安装口或露出所述安装口。
[0015]某一实施例中的镜头防污染装置,所述封闭件为通过螺纹盖设于所述安装口上的封闭盖。
[0016]某一实施例中的镜头防污染装置,还包括流量调节件,所述流量调节件的输出端与所述气体接口连接,输入端设有正压气接口,所述正压气接口用于连接外部通气设备。
[0017]某一实施例中的镜头防污染装置,所述光筒的开口端设有孔径调节部,用于封闭部分所述开口并形成入光孔,且所述孔径调节部能够调整入光孔孔径大小。
[0018]某一实施例中的镜头防污染装置,所述孔径调节部包括定位片、转动罩和若干滑片,所述定位片固连于所述光筒的开口端端面,所述转动罩与所述定位片转动连接且形成容纳腔,所述滑片容置于所述容纳腔内;
[0019]所述定位片和所述转动罩的端面均设有与所述开口同心的光孔,所述定位片和所述转动罩的端均分别设有与所述滑片对应的若干弧形槽,且所有所述弧形槽绕对应所述光孔顺序设置;
[0020]所述滑片径向上的一端设有销杆,所述销杆的两端分别伸入所述定位片和所述转动罩端面上的所述弧形槽内并与其滑动连接,所有所述滑片径向上的另一端相互配合形成所述入光孔,且转动所述转动罩时所述弧形槽通过所述销杆带动所述滑片移动,调整所述入光孔的孔径大小;其中,所述入光孔与所述光孔同心。
[0021]一种等离子体炬光谱仪,包括镜头和如上述任意一项所述的镜头防污染装置,所述镜头安装于所述光筒内部的所述镜头部。
[0022]本技术由于采用以上技术方案,使其与现有技术相比具有以下的优点和积极效果:
[0023]本技术提供的镜头防污染装置及等离子体炬光谱仪,镜头安装在光筒的内部,污染物可能从光筒的两端进入光筒内部与镜头接触,从而污染镜头。而在本技术中,光筒的两端——封闭端和开口端,封闭端处封闭,切断了光筒内部与外部接触的通道,使得污染物无法从封闭端进入光筒内污染镜头;而开口端,可从气体接口处往光筒内通气,在镜头前形成气体屏障,从而阻止了污染物从开口端接触镜头。因此,使用本技术提供的镜头防污染装置及等离子体炬光谱仪,能够使得污染物无法接触镜头,因此从根本上解决了现有技术中镜头容易被污染的问题。
附图说明
[0024]通过阅读下文优选实施方式的详细描述,各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的,而并不认为是对本技术的限制。
[0025]图1为本技术的一种等离子体炬光谱仪的结构示意图;
[0026]图2为本技术的一种孔径调节部的爆炸图;
[0027]图3为本技术的一种入光孔在孔径最小时的结构示意图;
[0028]图4为本技术的一种入光孔在孔径最大时的结构示意图。
[0029]附图标记说明:
[0030]1:光筒;2:镜头;3:流量调节件;4:孔径调节部;41:定位片;42:转动罩;43:滑片;5:正压气接口;6:等离子体炬。
具体实施方式
[0031]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对照附图说明本技术的具体实施方式。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图,并获得其他的实施方式。
[0032]为使图面简洁,各图中只示意性地表示出了与本技术相关的部分,它们并不代表其作为产品的实际结构。另外,以使图面简洁便于理解,在有些图中具有相同结构或功能的部件,仅示意性地绘示了其中的一个,或仅标出了其中的一个。在本文中,“一个”不仅表示“仅此一个”,也可以表示“多于一个”的情形。
[0033]实施例1
[0034]参看图1至图4,本实施例提供一种镜头防污染装置,包括中空的光筒1。光筒1的一端封闭,为封闭端;另一端开口,为开口端。光筒1内部在封闭端和开口端之间设有镜头部,用于安装镜头2。光筒1的侧壁上设有气体接口,用于连接外部通气设备,且气体接口设于开口端和镜头2之间,气体从气体接口流入光筒1内部形成气体屏障,阻止外部污染物接触镜头2。
[0035]镜头2安装在光筒1的内部,污染物可能从光筒1的两端进入光筒1内部与镜头2接触,从而污染镜头2。而在本实施例中,光筒1的两端——封闭端和开口端,封闭端处封闭,切断了光筒1内部与外部接触的通道,使得污本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镜头防污染装置,其特征在于,包括中空的光筒,所述光筒的一端封闭,为封闭端,另一端开口,为开口端;所述光筒内部在所述封闭端和所述开口端之间设有镜头部,用于安装镜头;所述光筒的侧壁上设有气体接口,用于连接外部通气设备,且所述气体接口设于所述开口端和镜头之间,气体从所述气体接口流入所述光筒内部形成气体屏障,阻止外部污染物接触镜头。2.根据权利要求1所述的镜头防污染装置,其特征在于,所述气体屏障占据所述光筒内部所述开口端和镜头之间部分,所述气体屏障的气压大于外部带污染物的环境气压,用于使外部污染物无法进入光筒。3.根据权利要求1所述的镜头防污染装置,其特征在于,所述镜头通过镜头安装部连接于所述镜头部;所述镜头安装部用于安装固定镜头,所述镜头安装部和所述镜头部可拆卸连接。4.根据权利要求3所述的镜头防污染装置,其特征在于,所述镜头安装部为环形结构,内圈用于固定镜头,外圈设有外螺纹,所述镜头部为设于光筒内壁上的内螺纹,所述镜头安装部通过螺纹连接于光筒内部。5.根据权利要求4所述的镜头防污染装置,其特征在于,所述光筒内部设有限位面,所述限位面与所述镜头安装部接触连接,用于显示所述镜头安装部安装到位。6.根据权利要求3所述的镜头防污染装置,其特征在于,所述光筒的封闭端设有连通所述光筒内部的安装口,所述安装口上活动连接有封闭件,用于封闭所述安装口或露出所述安装口。7.根据权利要求6所述的镜...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭淳周磊陈挺方博凡许翼飞
申请(专利权)人:浙江全世科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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