一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统技术方案

本发明专利技术公开了一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统，包括固定座，所述固定座的顶部设置有移动机构，且移动机构的顶部外壁通过螺栓连接有支撑架，所述支撑架的顶部外壁通过螺栓连接有连接架，且连接架的顶部内壁通过螺栓连接有液压杆，所述液压杆的底部外壁通过螺栓连接有连接块，所述连接块的一侧外壁通过螺栓连接有支撑板，且支撑板底部外壁的一侧设置有操作机构，所述支撑板底部外壁的一侧通过螺栓连接有固定架。本发明专利技术便于提高光刻机对半导体的加工效果，防止由于半导体的体积较小而导致设备无法快速有效的对光刻机的视像进行对准处理，从而对半导体的加工造成影响，防止由于灰尘粘附在放大机构的表面导致放大机构模糊不清。清。清。

【技术实现步骤摘要】
一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统


[0001]本专利技术涉及光刻机领域，尤其涉及一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统。

技术介绍

[0002]CCD是一种半导体装置，CCD可直接将光学信号转换为模拟电流信号，经过放大和模数转换，实现图像的获取、存储、传输、处理和复现。它具有体积小重量轻、功耗小、灵敏度高和响应速度快等特点。CCD被广泛应用于数码摄影、天文学，光学遥测技术、光学与频谱望远镜和高速摄影技术等领域，光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。
[0003]现有的光刻机在对半导体进行加工处理时，通过需要通过自动对准设备对光刻机的视像进行对准处理，从而便于对半导体进行加工，但是，在进行自动对准时，往往会由于半导体的体积较小而导致设备无法快速有效的对光刻机的视像进行对准处理，从而对半导体的加工造成影响。

技术实现思路

[0004]为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：
[0005]一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统，包括固定座，所述固定座的顶部设置有移动机构，且移动机构的顶部外壁通过螺栓连接有支撑架，所述支撑架的顶部外壁通过螺栓连接有连接架，且连接架的顶部内壁通过螺栓连接有液压杆，所述液压杆的底部外壁通过螺栓连接有连接块，所述连接块的一侧外壁通过螺栓连接有支撑板，且支撑板底部外壁的一侧设置有操作机构，所述支撑板底部外壁的一侧通过螺栓连接有固定架，且固定架的底部外壁通过螺栓连接有摄像头，所述固定架的一端倾斜设置，所述支撑板的底部外壁设置有放大机构，且放大机构的一侧外壁设置有清洁机构，所述清洁机构包括固定筒、活塞、推杆和导管，且固定筒与活塞之间滑动连接，所述推杆的两端分别与连接块和活塞之间通过螺栓连接，所述导管与固定筒之间设置有波纹软管，所述导管的两侧外壁分别设置有第一排气管和第二排气管，且第一排气管和第二排气管的一端均倾斜设置。
[0006]优选地，所述放大机构包括放大镜、连接板和镜架，且镜架的两端分别与放大镜和连接板之间固定连接，连接板与支撑板之间通过螺栓连接，放大镜与摄像头的位置平行，连接板的一侧外壁开设有安装口，导管与安装口之间固定连接。
[0007]优选地，所述操作机构包括控制器和操作头，且控制器与操作头之间电性连接。
[0008]优选地，所述移动机构包括螺纹杆和第一电机，且第一电机与螺纹杆之间固定连接，固定座的顶部外壁开设有滑槽，滑槽的内壁滑动连接有滑块，滑块的外壁开设有螺纹孔，螺纹孔与螺纹杆之间螺纹连接，螺纹杆与滑槽之间通过轴承形成转动连接，滑块与支撑架之间固定连接。
[0009]优选地，所述固定座的两侧外壁均开设有定位槽，且定位槽的内壁滑动连接有定位块，定位块与支撑架之间通过螺栓连接。
[0010]优选地，所述连接架相对的两侧内壁均开设有导向槽，且导向槽的内壁滑动连接有导向块，导向块与连接块之间通过螺栓连接。
[0011]优选地，所述支撑板底部外壁的一侧设置有固定槽，且固定槽与控制器之间设置有微调机构。
[0012]优选地，所述微调机构双头螺杆、螺纹块和第二电机，双头螺杆与固定槽之间通过轴承形成转动连接，第二电机与双头螺杆之间固定连接，第二电机的一端固定在支撑板的外壁上，螺纹块与固定槽之间滑动连接，螺纹块的外壁开设有螺纹口，螺纹口与双头螺杆之间螺纹连接，双头螺杆两端的螺纹方向相反，两个螺纹块的底部外壁均通过铰链连接有连杆，两个连杆之间转动连接有U型架，U型架与控制器之间通过螺栓连接。
[0013]优选地，两个所述连杆之间设置有除尘机构，且除尘机构包括气囊和气罩，气囊位于两个连杆之间，气罩固定连接在控制器的底部，且气罩位于操作头的一侧，气罩和气囊之间设置有连接管，气罩的一侧开设有多个排气口，排气口的横截面为梯形。
[0014]本专利技术的有益效果为：
[0015]本专利技术通过设置的清洁机构和放大机构，在进行对准处理时，通过移动机构带动操作机构向一侧滑移，从而对操作的位置进行初步调节处理，期间，通过放大机构对操作机构进行放大处理，从而便于对半导体的加工进行对准处理，以便于提高光刻机对半导体的加工效果，防止由于半导体的体积较小而导致设备无法快速有效的对光刻机的视像进行对准处理，从而对半导体的加工造成影响，期间，当操作机构位于半导体的上方时，通过液压杆带动操作机构进行下移，从而便于操作机构对半导体进行加工处理，期间，推杆会带动活塞进行下压处理，此时，固定筒的内部空间会由于活塞的下移而受到压缩，从而使固定筒内部的气体通过波纹软管输送至导管的内部，并通过第一排气管和第二排气管将气体分别喷射至放大机构的两侧，以便于对放大机构上粘附的灰尘进行清洁处理，从而提高放大机构的放大效果，防止由于灰尘粘附在放大机构的表面导致放大机构模糊不清，从而对光刻机的对准造成影响。
附图说明
[0016]图1为本专利技术提出的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统的结构示意图；
[0017]图2为本专利技术提出的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统的主视结构示意图；
[0018]图3为本专利技术提出的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统的局部结构示意图；
[0019]图4为本专利技术提出的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统的剖视结构示意图；
[0020]图5为本专利技术提出的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统的清洁机构结构示意图；
[0021]图6为本专利技术提出的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统的A处结构示意图；
[0022]图7为本专利技术提出的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统的微调机构结构示意图；
[0023]图8为本专利技术提出的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统的除尘机构结构示意图。
[0024]附图中：1
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固定座；2
‑
支撑架；3
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定位块；4
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定位槽；5
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第一电机；6
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滑槽；7
‑
螺纹杆；8
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连接架；9
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液压杆；10
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支撑板；11
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操作机构；12
‑
连接块；13
‑
导向块；14
‑
固定架；15
‑
摄像头；16
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控制器；17
‑
操作头；18
‑
固定槽；19
‑
微调机构；20
‑
滑块；21
‑
导向槽；22
‑
清洁机构；23
‑
放大机构；24
‑
固定筒；25
‑
活塞；26
‑
推杆；27
‑
导管；28
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放大镜；29
‑
连接板；30
‑
镜架；31
‑
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统，包括固定座(1)，其特征在于，所述固定座(1)的顶部设置有移动机构，且移动机构的顶部外壁通过螺栓连接有支撑架(2)，所述支撑架(2)的顶部外壁通过螺栓连接有连接架(8)，且连接架(8)的顶部内壁通过螺栓连接有液压杆(9)，所述液压杆(9)的底部外壁通过螺栓连接有连接块(12)，所述连接块(12)的一侧外壁通过螺栓连接有支撑板(10)，且支撑板(10)底部外壁的一侧设置有操作机构(11)，所述支撑板(10)底部外壁的一侧通过螺栓连接有固定架(14)，且固定架(14)的底部外壁通过螺栓连接有摄像头(15)，所述固定架(14)的一端倾斜设置，所述支撑板(10)的底部外壁设置有放大机构(23)，且放大机构(23)的一侧外壁设置有清洁机构(22)，所述清洁机构(22)包括固定筒(24)、活塞(25)、推杆(26)和导管(27)，且固定筒(24)与活塞(25)之间滑动连接，所述推杆(26)的两端分别与连接块(12)和活塞(25)之间通过螺栓连接，所述导管(27)与固定筒(24)之间设置有波纹软管，所述导管(27)的两侧外壁分别设置有第一排气管(31)和第二排气管(32)，且第一排气管(31)和第二排气管(32)的一端均倾斜设置。2.根据权利要求1所述的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统，其特征在于，所述放大机构(23)包括放大镜(28)、连接板(29)和镜架(30)，且镜架(30)的两端分别与放大镜(28)和连接板(29)之间固定连接，连接板(29)与支撑板(10)之间通过螺栓连接，放大镜(28)与摄像头(15)的位置平行，连接板(29)的一侧外壁开设有安装口，导管(27)与安装口之间固定连接。3.根据权利要求1所述的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统，其特征在于，所述操作机构(11)包括控制器(16)和操作头(17)，且控制器(16)与操作头(17)之间电性连接。4.根据权利要求1所述的一种基于CCD的光刻机视像自动对准系统，其特征在于，所述移动机构包括螺纹杆(7)和第一电机(5)，且第一电机(5)与螺纹杆(7)之间固定连接，固定座(1)的顶部外壁开设有滑槽(6)，滑槽(6)的内壁滑动连...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈幼田，
申请(专利权)人：陈幼田，
类型：发明
国别省市：