一种基板的清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种基板的清洗装置，其包括：滚刷组件，所述滚刷组件包括用于清洗所述基板上侧面的上滚刷和用于清洗所述基板的下侧面的下滚刷；用于获取所述基板的厚度，并调节所述上滚刷和所述下滚刷之间的间隙的厚度检测组件。通过厚度检测组件可获取基板的厚度，并通过获取的基板的厚度调节上滚刷和下滚刷之间的间隙，从而适应不同厚度的基板，而且对于基板的厚度变化时也可实时调节，进而增大该基板的清洗装置的适用范围。该基板的清洗装置的适用范围。该基板的清洗装置的适用范围。

【技术实现步骤摘要】
一种基板的清洗装置


[0001]本技术涉及光伏组件
，特别涉及一种基板的清洗装置。

技术介绍

[0002]光伏(PV or photovoltaic)，是太阳能光伏发电系统(photovoltaic power system)的简称，是一种利用太阳电池半导体材料的光伏效应，将太阳光辐射能直接转换为电能的一种新型发电系统。
[0003]其中，光伏玻璃是太阳能电池组件之一，太阳能组件以单晶硅或多晶硅电池为主，通过其将光能转换为电能，光伏玻璃用来封装硅片，目的可以提高其光的吸收性和广电的转换效率，是一种专项使用玻璃。
[0004]由于目前的太阳能电池组件需要设置在户外，用于接收并利用太阳能。但是，由于外界环境中存在大量的灰尘，而目前光伏电站较多使用硅基太阳电池组件，该组件对温度十分敏感，随灰尘在组件表面的积累，增大了光伏组件的传热热阻，成为光伏组件上的隔热层，影响其散热；此外，灰尘附着在电池板表面，会对光线产生遮挡、吸收和反射等作用，其中最主要是对光的遮挡作用。灰尘颗粒对光的反射吸收和遮挡作用，影响光伏电池板对光的吸收，从而影响光伏发电效率。
[0005]为了保证发电效率，需要对太阳能电池组件的玻璃基板进行清洗。但是，由于现有的清洗结构仅能够清洗玻璃基板的厚度相同，即为平板结构的玻璃基板，而对于厚度有变化或曲面(非标)的玻璃基板则无法清洗。
[0006]因此，如何对非标的玻璃基板进行清洗，是本
人员亟待解决的问题。

技术实现思路

[0007]有鉴于此，本技术提供了一种基板的清洗装置，对玻璃基板进行清洗。
[0008]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0009]一种基板的清洗装置，其包括：
[0010]滚刷组件，所述滚刷组件包括用于清洗所述基板上侧面的上滚刷和用于清洗所述基板的下侧面的下滚刷；
[0011]用于获取所述基板的厚度，并调节所述上滚刷和所述下滚刷之间的间隙的厚度检测组件。
[0012]优选的，上述的基板的清洗装置中，所述厚度检测装置为激光测距仪，并且与所述滚刷组件信号连接。
[0013]优选的，上述的基板的清洗装置中，所述激光测距仪为两个，分别为上激光测距仪和下激光测距仪，且所述上激光测距仪与所述上滚刷信号连接，所述下激光测距仪与所述下滚刷信号连接。
[0014]优选的，上述的基板的清洗装置中，所述上激光测距仪测量所述上滚刷到所述基板的上侧面的距离d1，所述下激光测距仪测量所述下滚刷到所述基板的下侧面的距离d2，
[0015]所述基板的厚度为d3＝h
‑
d1
‑
d2，其中，h为所述上滚刷的中心轴到所述下滚刷的中心轴之间的距离。
[0016]优选的，上述的基板的清洗装置中，所述上滚刷和所述下滚刷均包括通过气压调节粗细的气压筒刷和用于调节所述气压筒刷内压力的气压调节装置，所述气压调节装置与所述激光测距仪信号连接。
[0017]优选的，上述的基板的清洗装置中，所述气压筒刷调节后的半径R1为：
[0018]R1＝(h
‑
d3)/2。
[0019]优选的，上述的基板的清洗装置中，所述气压调节装置的气浮压力y与所述气压筒刷的半径R1关系为：y＝0.034R1+0.49。
[0020]优选的，上述的基板的清洗装置中，还包括用于驱动所述上滚刷和所述下滚刷上下移动的驱动组件。
[0021]优选的，上述的基板的清洗装置中，还包括用于运输所述基板的输送轨道，所述输送轨道用于与所述基板的边缘接触支撑，所述滚刷组件位于所述输送轨道之间。
[0022]优选的，上述的基板的清洗装置中，还包括用于运输所述基板的输送组件，所述输送组件为沿输送方向布置的输送滚筒，所述滚刷组件位于所述输送滚筒中相邻的滚筒之间。
[0023]本技术提供了一种基板的清洗装置，通过厚度检测组件可获取基板的厚度，并通过获取的基板的厚度调节上滚刷和下滚刷之间的间隙，从而适应不同厚度的基板，而且对于基板的厚度变化时也可实时调节，进而增大该基板的清洗装置的适用范围。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0025]图1为本技术实施例中公开的基板的清洗装置的结构示意图；
[0026]图2为本技术实施例中公开的基板的清洗装置的调节过程中的尺寸关系变化图；
[0027]其中，
[0028]1为上滚刷、2为下滚刷、3为上激光测距仪、4为下激光测距仪。
具体实施方式
[0029]本技术公开了一种基板的清洗装置，对玻璃基板进行清洗。
[0030]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0031]以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者
隐含地包括一个或者更多个该特征。
[0032]如图1所示，本技术公开了一种基板的清洗装置，具体包括滚刷组件和厚度检测组件。
[0033]具体的，滚刷组件包括用于清洗基板的上侧面的上滚刷1和用于清洗基板的下侧面的下滚刷2。而上述的厚度检测组件用于获取基板的厚度，并调节滚刷组件的间隙，以保证基板能够顺利通过。
[0034]通过上述设置，使用时，通过厚度检测组件可获取基板的厚度，并通过获取的基板的厚度调节上滚刷1和下滚刷2之间的间隙，从而适应不同厚度的基板，而且对于基板的厚度变化时也可实时调节，进而增大该基板的清洗装置的适用范围。
[0035]在实际中，上述的厚度检测装置可为激光测距仪，采用激光测距仪检测快速且准确性高。通过采用激光测距仪可快速响应到基板的厚度，并根据该厚度调节上滚刷1与下滚刷2之间的间隙，需要说明的是，对于上滚刷1和下滚刷2之间的间隙可为基板的厚度，进而保证上滚刷1和下滚刷2刚好能够清洁基板的表面。
[0036]在实际中，也可采用其他厚度检测装置，例如标尺等，但是，采用标尺检测的不能实现自动化过程，不利于该清洗装置的大范围应用。
[0037]一具体实施例中，将上述的激光测距仪设置为两个，分别为上激光测距仪4和下激光测距仪3，其中，上激光测距仪4与上滚刷1信号连接，而下激光测距仪3与下滚刷2信号连接。上述设置可分别对基板的两侧的距离进行检测，进而保证检测的准确性本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板的清洗装置，其特征在于，包括：滚刷组件，所述滚刷组件包括用于清洗所述基板上侧面的上滚刷和用于清洗所述基板的下侧面的下滚刷；用于获取所述基板的厚度，并调节所述上滚刷和所述下滚刷之间的间隙的厚度检测组件。2.根据权利要求1所述的基板的清洗装置，其特征在于，所述厚度检测组件为激光测距仪，并且与所述滚刷组件信号连接。3.根据权利要求2所述的基板的清洗装置，其特征在于，所述激光测距仪为两个，分别为上激光测距仪和下激光测距仪，且所述上激光测距仪与所述上滚刷信号连接，所述下激光测距仪与所述下滚刷信号连接。4.根据权利要求3所述的基板的清洗装置，其特征在于，所述上激光测距仪测量所述上滚刷到所述基板的上侧面的距离d1，所述下激光测距仪测量所述下滚刷到所述基板的下侧面的距离d2，所述基板的厚度为d3＝h
‑
d1
‑
d2，其中，h为所述上滚刷的中心轴到所述下滚刷的中心轴之间的距离。5.根据权利要求4所述的基板的清洗装置，其特征在于，所述上滚刷和所述下滚刷均包括通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵志国，李梦洁，赵东明，秦校军，冯笑丹，刘家梁，
申请(专利权)人：华能新能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：