熨斗制造技术

本发明专利技术提供一种熨斗(10)，其设置有插入蒸发室(21)中的水垢去除装置(30)，并且包括机械水垢去除构件(31)，所述机械水垢去除构件(31)被配置为接触所述蒸发室(21)的下表面(22)，自动驱动装置(40)与所述机械去除构件(31)相关联。联。联。

【技术实现步骤摘要】
熨斗


[0001]本专利技术涉及一种家用或专业用的熨斗，特别是蒸汽型的熨斗，其设有用于去除可能存在于其蒸发室中的水垢的装置。

技术介绍

[0002]已知熨斗设有水箱和热水器(boiler)或蒸发室，在蒸发室中，通过电加热元件，来自水箱的水被转化为蒸汽，然后蒸汽通过熨平板被输送到外部，熨平板设有用于输送蒸汽的孔，以改善熨烫。
[0003]在某些型号的熨斗中，水箱和/或热水器或蒸发室，不是集成到熨斗结构中，而是分离的，并通过导管连接到后者。
[0004]这些熨斗的主要问题之一是，由于水蒸发过程，通常在蒸发室中存在大量且不均匀的水垢沉积，尤其是在使用非软化水的情况下。该问题尤其发生在水落下的区域，即水与加热板接触的区域。
[0005]这会对熨斗的功能产生负面影响，因为蒸发室的热交换能力显著降低，蒸汽在蒸发室和熨平板之间的扩散不均匀，并且来自蒸发室的蒸汽的流速降低。
[0006]此外，在熨烫过程中，可能会发生水垢颗粒与蒸汽一起从熨平板的孔中逸出，这可能会弄脏或不可修复地损坏正在熨烫的服装。
[0007]通常，为了去除水垢，已知会通过加热板并向加热板上注入冷水来产生热冲击，以打破水垢沉积物，并随后通过板上的孔或合适的排放孔将其排出。这种技术方案的一个缺点是，如果去除水垢的操作没有定期进行，水垢会变得非常厚，例如在冷水和热板之间形成绝缘层，从而降低熨斗的效率和热冲击的有效性。
[0008]随着时间的推移，除了提供使用化学产品防止水垢形成的技术方案之外，还提出了各种技术方案，以解决熨斗中水垢的形成和/或去除问题；然而，这些方法都相当复杂、昂贵且并非总是完全有效的。
[0009]在本申请人的国际专利申请WO
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A
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2018/216046中，描述了一种熨斗，该熨斗包括水箱、熨平板和蒸发室，该蒸发室设置有上部孔，蒸发室通过该上部孔接收容纳在水箱中的水；所述蒸发室被配置为通过电加热区为熨平板产生蒸汽。此外，在该熨斗中，有一个防垢装置，可拆卸地插入蒸发室中，该防垢装置被配置为去除可能已经在蒸发室中形成的任何水垢。
[0010]即使这种已知的技术方案，尽管与现有技术相比是创新的，但也需要使用者定期勤勉地清除水垢。事实上，如果在一次清洗操作和下一次清洗操作之间间隔很长时间的情况下，水垢会在去除装置和蒸发室的壁之间积聚和固化，使得很难去除防水垢装置以进行清洗。
[0011]其他技术方案提供了可拆卸装置，该装置设置有与熨斗后部相对应的收集室，当熨斗放置在后部的竖直位置时，可能在蒸发室中形成的任何水垢都会积聚在该收集室中。
[0012]这些技术方案的一个缺点是，对应于蒸发室前部积聚的水垢实际上并没有被清
除，而是会分层和固化，堵塞水或蒸汽通过的通道。
[0013]因此，需要提供一种熨斗，能够克服现有技术中的至少一个缺点，并且设有简单可靠的去除水垢的装置。
[0014]因此，本专利技术的一个目的是提供一种具有去除水垢装置的熨斗，该装置是有效的，并且允许定期去除水垢，特别是在最容易积聚的区域。
[0015]本专利技术的另一目的是提供一种熨斗，该熨斗防止水垢在蒸发室中积聚和固化，而不需要使用者经常维护。
[0016]申请人已经设计、测试并实施了本专利技术，以克服现有技术的缺点，并获得这些和其他目的及优点。

技术实现思路

[0017]本专利技术的方案在独立权利要求中进行了阐述并表征。从属权利要求描述了本专利技术的其他特征或主要专利技术构思的变体。
[0018]根据上述目的，根据本专利技术的熨斗包括板单元，所述板单元设置有蒸发室，所述蒸发室具有至少一个下表面和插入在所述蒸发室中的水垢去除装置，所述水垢去除装置设置有机械水垢去除构件，所述机械水垢去除构件被配置为接触所述下表面并去除沉积在所述下表面上的任何水垢残余物。
[0019]根据本专利技术的一个方面，所述熨斗包括自动驱动装置，所述自动驱动装置与所述水垢去除构件相关联，并且被配置为至少当所述熨斗被放置在竖直静止位置，搁置在后支撑表面上时，沿着所述蒸发室的纵向轴线移动所述水垢去除构件。
[0020]所述自动驱动装置包括致动元件，所述致动元件位于与所述去除装置的一端对应的位置，所述致动元件被设置为在所述第一操作位置相对于所述熨斗的后支撑表面突出，并且在所述第二操作位置与后支撑表面齐平。
[0021]这两个操作位置需要移动驱动构件和去除装置，结果是所连接的机械构件去除蒸发室内的水垢。
[0022]根据一些实施例，自动驱动装置包括弹性返回构件，所述弹性返回构件被配置为在所述致动元件上施加轴向推力，以便将所述去除装置保持在所述第一操作位置，或者使所述去除装置返回到所述第一操作位置。
[0023]以这种方式，每次竖直放置熨斗，或再次拿起熨斗进行熨烫操作时，机械去除装置在蒸发室中来回移动，它们可以刮擦与下表面相对应沉积的任何水垢，防止其在蒸发室上固化。
[0024]根据一些实施例，蒸发室包括设置在其上表面上的进水孔，在第一和第二操作位置中，机械去除装置分别位于在该上部孔的一侧和另一侧，以这种方式刮擦主要与水落下的区域相对应的下表面。
[0025]由于去除装置的自动移动，因此可以防止水垢的累积，特别是在最易受到水垢影响的区域，无论使用者是否勤勉，都可以延长熨斗的使用寿命。
[0026]此外，连续刮擦水垢沉积物可确保固体颗粒的尺寸保持足够小，以便在正常熨烫过程中排出。
[0027]优选地，蒸发室通过前壁朝向熨斗的前面封闭，并且所述机械去除装置被设置为
在所述第二操作位置与所述蒸发室大体接触。
[0028]根据本专利技术的一些实施例，去除装置包括长方形元件，所述长方形元件的横截面远小于所述蒸发室的横截面。
[0029]根据一些实施例，机械去除装置可包括至少一个刮擦元件，所述刮擦元件大体上具有刮刀的形状，所述刮刀具有与下表面的宽度一致的宽度，或者可能略小于它。以这种方式，在去除装置在蒸发室中的移动过程中，可以去除沉积在下表面(至少与受机械去除装置的移动影响的区域相对应)上的所有水垢。
附图说明
[0030]从以下一些实施例的描述中，本专利技术的这些和其它方面、特征和优点将变得显而易见，这些实施例是参考附图给出的非限制性示例，其中：
[0031]图1是根据本专利技术的熨斗的分解三维视图；
[0032]图2是图1中的熨斗处于水平位置的纵向剖视图，其中水垢去除装置处于第一操作位置；
[0033]图3是图1中的熨斗处于竖直静止位置的纵向剖视图，其中水垢去除装置处于第二操作位置。
[0034]我们必须澄清的是，在本说明书和权利要求书中，术语“上”、“下”、“前”和“后”，及其倾斜，具有参照附图更好地说明本专利技术的唯一功能，绝不以任何方式限制本专利技术本身的范围或权利要求书所限定的保护范围。
[0035]此外，本领域技术人员将认识到，为了提供更易于理解的本专利技术的版本，附图中的某些尺寸或特征可能已经被本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种熨斗(10)，所述熨斗(10)设置有水垢去除装置(30)，所述水垢去除装置(30)包括机械水垢去除构件(31)，其特征在于，自动驱动装置(40)与所述水垢去除装置(30)相关联，并且被配置为在至少第一操作位置和第二操作位置之间沿纵向轴线(X)移动所述水垢去除装置(30)
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不管在所述熨斗(10)是否处于其后支撑表面(16)上的静止位置。2.根据权利要求1所述的熨斗(10)，其特征在于，所述自动驱动装置(40)包括致动元件(41)，所述致动元件(41)位于与所述去除装置(30)的所述机械去除构件(31)相对的端部对应的位置，所述致动元件(41)在所述第一操作位置相对于所述后支撑表面(16)突出，并且在所述第二操作位置与所述后支撑表面(16)齐平。3.根据权利要求1或2所述的熨斗(10)，其特征在于，所述自动驱动装置(40)包括弹性返回构件(42)，所述弹性返回构件(42)被配置为在所述致动元件(41)上施加轴向推力，以便将所述去除装置(30)保持在所述第一操作位置，或者使所述去除装置(30)返回到所述第一操作位置。4.根据权利要求3所述的熨斗(10)，其特征在于，所述自动驱动装置(40)包括内部套筒(44)和外部套筒(46)，所述内部套筒(44)设置有贯通的纵向中心腔(45)，所述外部套筒(46)设置有贯通的纵向中心腔(47)，在使用期间，所述外部套筒(46)与所述内部套筒(44)同轴放置，并且与所述内部套筒(44)一起限定适于容纳所述弹性返回构件(42)的环形座(49)。5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗伯托，
申请(专利权)人：德隆奇电器单一股东有限责任公司，
类型：发明
国别省市：