射频真空馈入结构、射频离子源设备以及真空镀膜机制造技术

本申请涉及一种射频真空馈入结构、射频离子源设备以及真空镀膜机；其中射频真空馈入结构包括：连接在射频电源和射频离子源之间的射频电馈入管道，设于所述射频电馈入管道与真空腔体面板之间的绝缘件；所述射频电馈入管道通过所述绝缘件密封安装到真空腔体面板上，所述射频电馈入管道靠近射频离子源的一侧上设有软性射频馈入件；所述射频电馈入管道的一端连接所述射频离子源的射频线圈，另一端连接射频电源的射频匹配网络；所述射频离子源通过所述软性射频馈入件调整安装角度；该技术方案，可以调整射频离子源的安装角度，从而提高了射频离子源安装的兼容性。离子源安装的兼容性。离子源安装的兼容性。

【技术实现步骤摘要】
射频真空馈入结构、射频离子源设备以及真空镀膜机


[0001]本申请涉及真空镀膜
，尤其是一种射频真空馈入结构、射频离子源设备以及真空镀膜机。

技术介绍

[0002]射频离子源是一种重要的离子源，其原理是利用稀薄气体中的高频放电现象使气体电离产生等离子体、再通过栅网电场使正离子加速产生离子束的一种离子源。在真空镀膜机，真空溅射设备和真空刻蚀设备等真空设备上，加装射频离子源来提高产品质量的目前市场的大趋势。
[0003]随着各行各业对薄膜加工精度需求的提升，新的真空镀膜机基本都配有射频离子源，而加装射频离子源辅助镀膜、溅射、刻蚀做工艺已经变得越来越普遍。通常新的真空设备安装需要预留特定的空间，由于涉及到尺寸匹配问题，一般真空镀膜机厂商只能配自己的射频离子源，相互之间缺乏兼容性，如果要进行兼容安装时往往需要对真空腔体进行重新开孔或者需要对射频离子源进行结构重新设计，不利于市面上巨量的旧真空镀膜机兼容安装射频离子源。

技术实现思路

[0004]本申请的目的旨在解决上述的技术缺陷之一，提供一种射频真空馈入结构、射频离子源设备以及真空镀膜机，提升射频离子源与真空腔体之间的兼容性。
[0005]一种射频真空馈入结构，包括：连接在射频电源和射频离子源之间的射频电馈入管道，设于所述射频电馈入管道与真空腔体面板之间的绝缘件；
[0006]所述射频电馈入管道通过所述绝缘件密封安装到真空腔体面板上，所述射频电馈入管道靠近射频离子源的一侧上设有软性射频馈入件；
[0007]所述射频电馈入管道的一端连接所述射频离子源的射频线圈，另一端连接射频电源的射频匹配网络；
[0008]所述射频离子源通过所述软性射频馈入件调整安装角度。
[0009]在一个实施例中，所述射频电馈入管道还连接在射频离子源的冷水回路上；
[0010]所述射频电馈入管道通过内部管道将冷却水导入射频离子源进行散热。
[0011]在一个实施例中，所述软性射频馈入件为一段波纹管道。
[0012]在一个实施例中，所述软性射频馈入件为锡青铜波纹管或者不锈钢波纹管。
[0013]在一个实施例中，所述的射频真空馈入结构，还包括：用于固定所述射频离子源的离子源支撑支架；
[0014]所述离子源支撑支架的一端安装在真空腔体面板上；
[0015]所述离子源支撑支架的另一端以活动方式连接所述射频离子源。
[0016]在一个实施例中，所述离子源支撑支架的数量为两个，分别安装在射频离子源的两侧上；
[0017]所述射频离子源通过旋转轴与所述离子源支撑支架连接；
[0018]所述射频离子源通过所述旋转轴进行旋转。
[0019]在一个实施例中，所述旋转轴的一端设有传动齿轮；
[0020]所述传动齿轮通过真空伺服电机连接的齿轮的驱动下进行旋转。
[0021]在一个实施例中，所述离子源支撑支架包括固定端和活动端；
[0022]所述固定端安装在真空腔体面板上，所述活动端连接所述射频离子源；
[0023]所述活动端相对于所述固定端进行滑动运动，以调整射频离子源相对于真空腔体面板的距离。
[0024]一种射频离子源设备，包括：射频离子源以及上述的射频真空馈入结构。
[0025]一种真空镀膜机，包括：真空腔体以及上述的射频离子源设备。
[0026]本申请的技术方案，在射频电馈入管道靠近射频离子源的一侧上设有一个软性射频馈入件，由此射频离子源通过软性射频馈入件调整安装角度，同时，也可以调整射频离子源相对于真空腔体面板的距离，从而提高了射频离子源安装的兼容性。
[0027]进一步的，通过射频电馈入管道内置冷却管道，将真空腔体外面的冷却水导入射频离子源，降低了设备成本，保证了真空腔体的真空度要求。
[0028]进一步的，软性射频馈入件采用波纹管道形式，可以在较小的真空腔体的空间内实现射频离子源的角度和高度距离的灵活调整，从而大幅度提升了射频离子源的安装兼容性。
[0029]进一步的，通过离子源支撑支架，利用真空伺服电机驱动射频离子源转动，在安装后可以自动到达设定的角度位置，便捷，快速；同时，还可以在射频离子源工作中，将射频离子源旋转到一个合适位置进行补偿，使工艺达到最佳的效果。
[0030]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0031]本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0032]图1是一个实施例的射频真空馈入结构示意图；
[0033]图2是一个示例的离子源支撑支架侧面示意图；
[0034]图3是一个示例的离子源支撑支架正面示意图；
[0035]图4为一个示例的真空镀膜机结构示意图。
具体实施方式
[0036]下面详细描述本申请的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。
[0037]本
技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作，但是并不排除存在或添加一个或多个其他
特征、整数、步骤、操作。
[0038]参考图1，图1是一个实施例的射频真空馈入结构示意图，本申请的射频真空馈入结构用于将射频电源1的射频电馈入到射频离子源2，其中，射频电源1安装在真空腔体外，射频离子源2安装在真空腔体内。如图示，本实施例的射频真空馈入结构，包括：射频电馈入管道3和绝缘件30，射频电馈入管道3用于连接射频电源1和射频离子源2，绝缘件30设于射频电馈入管道3与真空腔体面板41之间，射频电馈入管道3通过绝缘件30密封安装到真空腔体面板41上；射频电馈入管道3的一端连接射频离子源2的射频线圈，另一端连接射频电源1的射频匹配网络。在射频电馈入管道3靠近射频离子源2的一侧上设有一个软性射频馈入件31，射频电馈入管道3的其他管道部分可以采用常规的管道，如铜管、金属管或其他材质管道，由于软性射频馈入件31的方向可调，由此射频离子源2通过软性射频馈入件31就可以调整安装角度，另外，软性射频馈入件31的长度可调，因此通过软性射频馈入件31也可以调整射频离子源2相对于真空腔体面板41的距离。
[0039]如图1中，在射频电馈入管道3中设置了一个软性射频馈入件31，该软性射频馈入件31可以使得射频离子源2在安装到真空腔体上时，可以根据需求来调整射频离子源2的安装角度以及相对于真空腔体面板41的距离，从而解决了常规的射频离子源2安装不兼容的问题，对于大部分的真空镀膜机来说，只要有足够空间可以实现匹配安装。
[0040本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种射频真空馈入结构，其特征在于，包括：连接在射频电源(1)和射频离子源(2)之间的射频电馈入管道(3)，设于所述射频电馈入管道(3)与真空腔体面板(41)之间的绝缘件(30)；所述射频电馈入管道(3)通过所述绝缘件(30)密封安装到真空腔体面板(41)上，所述射频电馈入管道(3)靠近射频离子源(2)的一侧上设有软性射频馈入件(31)；所述射频电馈入管道(3)的一端连接所述射频离子源(2)的射频线圈，另一端连接射频电源(1)的射频匹配网络；所述射频离子源(2)通过所述软性射频馈入件(31)调整安装角度。2.根据权利要求1所述的射频真空馈入结构，其特征在于，所述射频电馈入管道(3)还连接在射频离子源(2)的冷水回路上；所述射频电馈入管道(3)通过内部管道将冷却水导入射频离子源(2)进行散热。3.根据权利要求2所述的射频真空馈入结构，其特征在于，所述软性射频馈入件(31)为一段波纹管道。4.根据权利要求3所述的射频真空馈入结构，其特征在于，所述软性射频馈入件(31)为锡青铜波纹管或者不锈钢波纹管。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述的射频真空馈入结构，其特征在于，还包括：用于固定所述射频离子源(2)的离子源支撑支架(5)；所述离子源支撑支架(5...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘伟基，吴秋生，冀鸣，易洪波，谢伟民，黄伟栋，
申请(专利权)人：中山市博顿光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：