【技术实现步骤摘要】
一种排料部监测控制系统及物料自动包装设备
[0001]本专利技术涉及设备监控领域，尤其涉及一种排料部监测控制系统及物料自动包装设备。
技术介绍
[0002]现有自动化包装设备主要利用真空吸附来实现小型元器件比如芯片的入料，也利用真空吸附和泄压的切换实现对元器件的排料，同时也主要通过真空吸附将小型元器件植入包装带中，当设备检测到不良料时也可以通过真空泄压(或称吹气)将不良料吹至不良料盒中。
[0003]然而，现有的自动化包装设备在感应到不良料且不良料未被成功排出设备时，设备会自动停机，虽然确实保证了一定的产品良率，但是这种单一的响应方式不能监测是否是系统误判，高频次的停机会影响生产效率。
[0004]当现有设备检测到不良料时会将不良料自对应的排出口吹气排出，当设备执行排出口吹气排出的动作之后，设备系统不会对排出口吹气排出的位置进行检测，若是该位置还留有残渣，则下一产品入料时可能导致产品刮伤等问题，且现有设备中用于将不良料自对应的排出口吹气排出的真空吸嘴的真空管理不到位，无法监测真空吸嘴在吹气动作结束后是否由吹气变为吸气、又是何时自吹气变为吸气的，变为吸气后真空量是否足够的问题，若是真空吸嘴的吸气量不够将会导致产品入料不到位，产品在传送途中会被刮蹭。
[0005]因此，亟需提出一种新的技术方案来解决现有技术中存在的问题。
技术实现思路
[0006]现有自动化包装设备在感应到不良料未被成功排出设备时，设备会自动停机，虽然确实保证了一定的生产良率，但是这种单一的响应方式不能监测是否是系...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种排料部监测控制系统，其特征在于，其包括：检测装置，被配置对物料进行外观检测和/或电气性能检测；一个或多个排料真空吸嘴，被配置的将所述检测装置检测到的异常物料排至指定位置；一个或多个流量计，被配置的分别测量对应的一个或多个排料真空吸嘴的实时流量值；一个或多个监测器件，被配置对所述异常物料进行排出检测，并根据检测结果发出监测信号；以及控制装置，被配置的获得每个流量计对应的上限范围和/或下限范围，采集每个流量计的实时流量值，并基于采集的每个流量计的实时流量值与对应的上限范围和/或下限范围确定对应的真空吸嘴的工作情况，和/或所述控制装置被配置的获得每个监测器件发出的监测信号，并基于所述监测信号判定所述异常物料的排出结果，若判定所述异常物料未被所述排料真空吸嘴排出，则所述控制装置控制所述排料真空吸嘴对所述异常物料进行二次排料。2.根据权利要求1所述的排料部监测控制系统，其特征在于，所述监测器件包括光电传感器，所述光电传感器对所述异常物料进行排出检测，所述光电传感器包括光纤发射头、光纤接收头及信号发射端，所述光纤发射头对所述异常物料发出光信号，所述光信号于所述异常物料表面发生反射后被所述光纤接收头接收，所述信号发射端将所述光纤接收头接收到的光信号发射至所述控制装置；所述控制装置被配置的获得每个所述光电传感器对应的下限范围，且将自所述光电传感器获得的光信号与所述下限范围进行比较，并根据比较结果判定所述异常物料的排出结果，若判定所述异常物料未被所述排料真空吸嘴排出，则所述控制装置控制所述排料真空吸嘴对所述异常物料进行二次排料，若二次排料后所述控制装置仍判定所述异常物料未被所述排料真空吸嘴排出，则所述控制装置将所述光电传感器对应的下限范围下调预定值，若所述控制装置将自所述光电传感器获得的光信号与所述下调后的下限范围进行比较后判定所述异常物料被排出，则所述控制装置获得的每个所述光电传感器对应的下限范围下调所述预定值。3.根据权利要求2所述的排料部监测控制系统，其特征在于，若所述控制装置将自所述光电传感器获得的光信号与所述下调后的下限范围进行比较后仍判定所述异常物料未被排出，则所述控制装置控制设备停机。4.根据权利要求2所述的排料部监测控制系统，其特征在于，其还包括：机台；设置于机台上的转盘，其中所述转盘在工作时被驱动的转动，所述转盘包括设置于边缘上的多个凹槽，所述凹槽内容纳有所述物料，所述物料包括元器件；入料部，其包括设置于机台上的一个或多个入料真空吸嘴；所述排料部包括设置于机台上的一个或多个排料真空吸嘴，在所述转盘转动时位于所述转盘边缘的多个凹槽依次先后经过所述入料真空吸嘴和所述排料真空吸嘴；植入部，其包括一个或多个植入真空吸嘴；载带驱动部，其驱动载带经过所述植入部，所述载带上包括排成列的多个收纳槽；其中
所述植入真空吸嘴通过管道与真空泵相连通，所述入料真空吸嘴通过管道与所述真空泵连通，所述排料真空吸嘴通过管道受控可选的与所述真空泵和出气泵中的一个连通，所述入料真空吸嘴通过真空吸力将所述元器件吸入位于所述入料真空吸嘴处的凹槽内，位于所述转盘的凹槽内的元器件会被所述检测装置检测，所述排料真空吸嘴通过真空吸力将检测正常的元器件吸附在位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内，所述排料真空吸嘴通过吹气推力将检测异常的元器件从位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内吹出，所述植入真空吸嘴将通过真空吸力将位于所述植入真空吸嘴处的凹槽内的元器件吸住并植入载带的收纳槽中。5.根据权利要求4所述的排料部监测控制系统，其特征在于，位于所述排料真空吸嘴处的凹槽上设置有所述光电传感器，所述光纤发射头对位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内的元器件发出光信号，所述光信号于所述元器件表面发生反射后被所述光纤接收头接收，所述信号发射端将所述光纤接收头接收到的光信号发射至所述控制装置；当位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内的元器件被检测为异常元器件时，所述控制装置控制所述排料真空吸嘴将所述异常元器件吹出，若所述异常元器件已被吹出时，所述光电传感器对位于所述排料真空吸嘴处的凹槽发出光信号，所述光信号的强度未被所述元器件表面削减，所述光纤接收头接收到高强度的监测信号，所述控制装置根据高强度的所述监测信号判定确定位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内的异常元器件已被排出；当位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内的元器件被检测为异常元器件时，所述控制装置控制所述排料真空吸嘴未将所述异常元器件吹出，所述光电传感器对位于所述排料真空吸嘴处的凹槽发出光信号，所述光信号的强度被所述元器件表面削减，所述光纤接收头接收到低强度的监测信号，所述控制装置将低强度的所述监测信号与所述光电传感器的下限范围进行比较，根据比较结果判定确定位于所述排料真空吸嘴处的凹槽内的异常元器件未被排出；若判定所述异常元器件未被所述排料真空吸嘴排出，则所述控制装置控制所述排料真空吸嘴对所述异常元器件进行二次排料，若二次排料后所述控制装置仍判定所述异常元器件未被所述排料真空吸嘴排出，则所述控制装置将所述光电传感器对应的下限范围下调预定值，若所述控制装置将自所述光电传感器获得的光信号与所述下调后的下限范围进行比较后判定所述异常元器件被排出，则所述控制装置获得的每个所述光电传感器对应的下限范围下调所述预定值；若所述控制装置将自所述光电传感器获得的光信号与所述下调后的下限范围进行比较后仍判定所述异常元器件未被排出，则所述控制装置控制设备停机。6.根据权利要求5所述的排料部监测控制系统，其特征在于，其包括：至少有一个真空吸嘴具有持续无料状态以及有料无料交替状态，所述真空吸嘴的各种状态都设置有对应的上限范围和/或下限范围，所述流量计能够提供在所述有料无料交替状态的周期内的实时流量值，所述控制装置将所述实时流量值在所述有料无料交替状态的每个周期内的最高值与对应的上限范围的比较，将所述实时流量值在所述有料无料交替状态的每个周期内的最低值与对应的下限范围的比较，确定对应的真空吸嘴在有料无料交替状态下的工作情况，所述控制装置将所述实时流量值在所述持续无料状态下的最高值与对
应的上限范围的比较，确定对应的真空吸嘴在所述持续无料状态下的工作情况；或者，至少有一个真空吸嘴具有持续无料状态以及有料转换至无料状态，所述真空吸嘴的各种状态都设置有对应的上限范围和/或下限范围，所述控制装置将所述实时流量值在所述持续无料状态下的最高值与对应的上限范围的比较，确定对应的真空吸嘴在所述持续无料状态下的工作情况，所述控制装置基于所述实时流量值在所述有料转换至无料状态下的波形确定对应的真空吸嘴在所述有料转换至无料状态下的工作情况；其还包括有：至少一个或多个动作部件，其被配置的与所述真空吸嘴相配合的动作，以使得所述真空吸嘴拾取或放下元器件；所述控制装置还被配置来采集所述动作部件的动作信号，基于采集的所述动作部件的动作信号以及所述真空吸嘴的实时流量值确定判定所述真空吸是处于持续无料状态以及有料无料交替状态中的哪个状态，或者，判定所述真空吸嘴是处于持续无料状态以及有料转换至无料状态中的哪个状态。7.根据权利要求6所述的排料部监测控制系统，其特征在于，所述入料部还包括设置于机台上的入料轨道、分离针和入位检测器，所述分离针受控的在阻挡位置和敞开位置之间移动，在所述分离针处于阻挡位置时阻挡所述入料轨道上的元器件，在所述分离针处于敞开位置时所述入料真空吸嘴通过真空吸力将所述入料轨道上的元器件吸入位于所述入料真空吸嘴处的凹槽内，所述入位检测器被配置的检测所述元器件是否进入位于所述入料真空吸嘴处的凹槽内；所述排料部还包括电磁阀，所述电磁阀的第一端口与排料真空吸嘴连通，所述电磁阀的第二端口与所述真空泵连通，所述电磁阀的第三端口与所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄德根，
申请(专利权)人：苏州优斯登物联网科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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