一种水性剥离液及其用途制造技术

本发明专利技术提供一种剥离液及其用途，属于液晶面板和半导体生产技术领域。所述剥离液包括抗蚀剂，烷醇胺，环状胺，有机酸，水溶性有机溶剂和水，所述抗蚀剂包括式I所示化合物。所述剥离液剥离效果好，且所述剥离液对金属腐蚀性小，可用于高精度液晶面板和半导体的光刻胶剥离。可用于高精度液晶面板和半导体的光刻胶剥离。

【技术实现步骤摘要】
一种水性剥离液及其用途


[0001]本专利技术属于液晶面板和半导体生产
，具体涉及一种剥离液及其用途。

技术介绍

[0002]光刻胶又称光致抗蚀剂，主要由感光树脂、增感剂和溶剂三种成分组成。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经曝光、显影、刻蚀、扩散、离子注入、金属沉积等工艺将所需的微细图形从掩模版转移至加工的基板上、最后通过去胶剥离液将未曝光部分余下的光刻胶清洗掉，从而完成整个图形转移过程。
[0003]现有技术中正性光刻胶和负性光刻胶通用的剥离液多为碱性，现有技术中的兼容性剥离液如CN106292209A中所述的，包含季铵类化合物、非季铵类水溶性溶剂、金属保护剂、防腐剂、表面活性剂、二元醇/醚类有机化合物、烷基吡咯烷酮。其中主要组分有机胺用于切断光刻胶中感光物质等长链不溶物。不加入金属保护剂的组合物，对于金属铝、铜具有明显的侵蚀作用，表面为金属表面变色发黑。常用的金属保护剂包括三唑类、糖醇类，金属保护剂的保护作用通常具有选择性，而且三唑类化合物对铜具有良好的抗蚀效果，水中溶解度较低，剥离处理后的基板经水冲洗，表面通常仍具有残留。
[0004]现有的水性剥离液主要成分为有机胺化合物、极性有机溶剂以及水，但现有的水性剥离液大都存在腐蚀金属层、光刻胶残留、使用寿命短、剥离效果差等问题。
[0005]因此，仍亟需一种能防止腐蚀金属层、清洗效果好，剥离性能好，寿命长的剥离液。

技术实现思路

[0006]为解决上述问题，本专利技术提供一种剥离液及其用途。
[0007]第一方面，提供一种剥离液。
[0008]一种剥离液，其包括抗蚀剂，烷醇胺，环状胺，有机酸，水溶性有机溶剂和水，所述抗蚀剂包括式I所示化合物，
[0009][0010]在一些实施例中，所述剥离液可以用于基板为铜、钼、铝、铜铝合金、钼铝合金或钼铜合金的光刻胶剥离。在一些实施例中，所述烷醇胺可以包括选自2
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胺基乙醇、二乙醇胺、N
‑
乙基胺基乙醇、N
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甲基胺基乙醇、N
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甲基二乙醇胺、二甲基胺基乙醇、2
‑
(2
‑
胺基乙氧基)乙醇、1
‑
胺基
‑2‑
丙醇及三乙醇胺中的至少一种。
[0011]在一些实施例中，所述水溶性有机溶剂可以包括选自乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单丁醚、四乙二醇单甲醚、四乙二醇二甲醚化合物中至少一种。在一些实施例中，所述水溶性有机溶剂为二乙二醇甲醚。
[0012]在一些实施例中，所述环状胺可以包括选自哌嗪、咪唑或哌啶中的至少一种。
[0013]在一些实施例中，所述有机酸可以包括选自苹果酸、抗坏血酸、乳酸、柠檬酸、衣康酸中的至少一种。
[0014]在一些实施例中，所述抗蚀剂还可以包括糖醇类抗蚀剂。
[0015]在一些实施例中，所述糖醇类抗蚀剂可以包括葡萄糖、山梨糖、木糖醇、甘露醇和山梨醇。
[0016]在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述式I所示化合物的含量可以为1.0wt％
‑
10.0wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述式I所示化合物的含量为1.0wt％、2.0wt％、3.0wt％、4.0wt％、5.0wt％、6.0wt％、7.0wt％、8.0wt％、9.0wt％或10.0wt％。
[0017]在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述烷醇胺的含量可以为5.0wt％
‑
15.0wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述烷醇胺的含量为5.0wt％、6.0wt％、7.0wt％、8.0wt％、9.0wt％、10.0wt％、11.0wt％、12.0wt％、13.0wt％、14.0wt％或15.0wt％。
[0018]在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述环状胺的含量可以为1.0wt％
‑
5.0wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述环状胺的含量为1.0wt％、2.0wt％、3.0wt％、4.0wt％或5.0wt％。
[0019]在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述有机酸的含量可以为0.2wt％
‑
0.5wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述有机酸的含量为0.2wt％、0.3wt％、0.4wt％或0.5wt％。有机酸的加入，有利于提高烷醇胺的溶解性，有利于提高剥离液的剥离速度。
[0020]在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量可以为25.5wt％
‑
76.8wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量为43.5wt％
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76.8wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量为30.0wt％
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60.0wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量为40.0wt％
‑
50.0wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量为40.0wt％
‑
50.0wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述水溶性有机溶剂的含量为25.5wt％、30.0wt％、35.0wt％、40.0wt％、43.5wt％、45.0wt％、50.0wt％、55.0wt％、60.0wt％、65.0wt％、70.0wt％或76.8wt％。
[0021]在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述水的含量可以为15.0wt％
‑
40.0wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述水的含量为20.0wt％
‑
30.0wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述水的含量为15.0wt％、20.0wt％、25.0wt％、30.0wt％、35.0wt％或40.0wt％。
[0022]在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述糖醇类抗蚀剂的含量可以为1.0wt％
‑
4.0wt％。在一些实施例中，以所述剥离液的总质量计算，所述糖醇类抗蚀剂的含
量为1.0wt％、2.0wt％、3.0wt％或4.0wt％。
[0023]在一些实施方式中，一种剥离液，其包括抗蚀剂，烷醇胺，环状胺，有机酸，水溶性有机溶剂和水，所述抗蚀剂包括式I所示化合物和糖醇类抗蚀剂。
[0024]在一些实施方式中，一种剥离液，其包括抗蚀剂，烷醇胺，环状胺，有机酸，水溶性有机溶剂和水，所述抗蚀剂包括式I所示化合物和糖醇类抗蚀剂，以所述剥离液的总质量计算，所述式I所示化合物的含量为1.0wt％
‑
10.0wt％，所述烷醇胺本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种剥离液，其包括抗蚀剂，烷醇胺，环状胺，有机酸，水溶性有机溶剂和水，所述抗蚀剂包括式I所示化合物，2.根据权利要求1所述的剥离液，所述烷醇胺包括选自2
‑
胺基乙醇、二乙醇胺、N
‑
乙基胺基乙醇、N
‑
甲基胺基乙醇、N
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甲基二乙醇胺、二甲基胺基乙醇、2
‑
(2
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胺基乙氧基)乙醇、1
‑
胺基
‑2‑
丙醇及三乙醇胺中的至少一种；所述环状胺包括选自哌嗪、咪唑或哌啶中的至少一种。3.根据权利要求1所述的剥离液，所述水溶性有机溶剂包括选自乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇单甲醚、三乙二醇单丁醚、四乙二醇单甲醚、四乙二醇二甲醚化合物中至少一种。4.根据权利要求1所述的剥离液，所述抗蚀剂还包括糖醇类抗蚀剂；和/或所述糖醇类抗蚀剂包括葡萄糖、山梨糖、木糖醇、甘露醇和山梨醇；和/或所述有机酸包括选自苹果酸、抗坏血酸、乳酸、柠檬酸、衣康酸中的至少一种。5....

【专利技术属性】
技术研发人员：卢燕燕，张丽燕，
申请(专利权)人：深圳深骏微电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：