【技术实现步骤摘要】
投影装置以及校正方法
[0001]本专利技术关于一种投影装置以及校正方法。
技术介绍
[0002]现有的投影机的镜头装置的镜头位移模块在完成镜头校正后,可通过转动镜头上的变焦环,以调整镜头位置来进入广角模式或远距模式。然而,由于结构上零件的累积公差与组装公差,因此可能会造成广角模式的成像画面的原点或远距模式的成像画面的原点的偏移。一般而言,不同的镜头规格对于此种偏移有不同的容许范围,当偏移在容许范围值内,成像画面尚不致受影响,但一旦偏移超出容许范围值外,则广角模式的成像画面与远距模式的成像画面之间的效能会有所差异,且会有暗角产生,而对画面品质有不利的影响。并且,这种结构上零件的公差所形成的成像画面的中心的飘移是难以掌控的。
[0003]一般而言,为了减少上述的偏移,需要限缩零件公差与组装公差,以提高镜头位移模块的加工零件的精度,然而,如此一来,其良率会随之降低,零件成本也会随之上升,并且组装难度也会提高。
[0004]“
技术介绍
”段落只是用来帮助了解本
技术实现思路
,因此在“
技术介绍
”段落所公开的内容可能包含一些没有构成本领域技术人员所知道的现有技术。在“
技术介绍
”段落所公开的内容,不代表该内容或者本专利技术一个或多个实施例所要解决的问题,在本专利技术申请前已被本领域技术人员所知晓或认知。
技术实现思路
[0005]本专利技术提供一种投影装置以及校正方法,能够在远距模式以及广角模式下具有良好的画面品质。
[0006]本专利技术的其他目的和优点可以从本专利技术所公开的技术特征中得到 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种投影装置,其特征在于,所述投影装置包括镜头模块、移动单元、感测单元以及镜头控制单元,其中所述镜头模块具有远距模式以及广角模式,且所述镜头模块用于使影像光束在所述远距模式与所述广角模式的其中一个下聚焦于参考平面上;所述移动单元用于调整所述镜头模块的位置;所述感测单元用于侦测所述镜头模块的位置;以及所述镜头控制单元用于电连接所述镜头模块、所述移动单元以及所述感测单元,其中当所述镜头模块移动至原点位置时,所述镜头控制单元控制所述影像光束在所述远距模式与所述广角模式的其中一个下聚焦于所述参考平面的第一位置上,并且所述镜头控制单元控制所述影像光束在所述远距模式与所述广角模式的另一个下聚焦于所述参考平面上的第二位置,所述镜头控制单元判断所述第二位置与所述第一位置是否产生偏差,当所述镜头控制单元判断所述第二位置与所述第一位置产生偏差值时,所述镜头控制单元基于所述第二位置与所述第一位置的所述偏差值,对应地对调整所述移动单元在所述远距模式与所述广角模式的移动参数值,以使所述影像光束在调整后的所述远距模式与所述广角模式下聚焦于所述参考平面的同一位置上。2.根据权利要求1所述的投影装置,其特征在于,所述影像光束在调整后的所述远距模式与所述广角模式下聚焦于所述参考平面的同一位置为所述第一位置与所述第二位置的其中一个。3.根据权利要求2所述的投影装置,其特征在于,所述移动单元在所述远距模式与所述广角模式的其中一个下的移动参数值保持不变,而调整所述移动单元在所述远距模式与所述广角模式的另一个下的移动参数值,直至所述影像光束在调整后的所述远距模式与所述广角模式下聚焦于所述参考平面的所述第一位置与所述第二位置的其中一个。4.根据权利要求3所述的投影装置,其特征在于,当所述影像光束在调整后的所述远距模式与所述广角模式下聚焦于所述参考平面的所述第一位置或所述第二位置时,所述镜头控制单元记录此时的所述移动单元的移动参数值,并储存至储存单元中,以制作偏移补偿表信息。5.根据权利要求1所述的投影装置,其特征在于,所述投影装置还包括:储存单元,储存有偏移补偿表信息,所述镜头控制单元基于所述第二位置与所述第一位置的所述偏差值,读取所述偏移补偿表信息纪录的对应的所述移动单元在所述远距模式与所述广角模式的移动参数值。6.根据权利要求1所述的投影装置,其特征在于,当所述镜头模块移动至所述原点位置时,所述感测单元提供原点位置信息信号,当所述感测单元提供所述原点位置信息信号时,所述镜头控制单元控制所述移动单元使所述镜头模块停止移动,并设定所述移动单元的移动参数值为原点参数值。7.根据权利要求6所述的投影装置,其特征在于,所述原点位置设置有凸挡结构,当所述镜头模块移动至所述原点位置时,所述凸挡结构触发所述感测单元提供所述原点位置信息信号。8.根据权利要求1所述的投影装置,其特征在于,所述移动单元包括在多个方向上对应设置的多个步进马达,且在同一方向仅设置一个所述步进马达,所述移动单元的移动参数
值为所述步进马达的步数。9.根据权利要求1所述的投影装置,其特征在于,所述感测单元包括在多个方向上对应设...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴佳政,钟佳琪,
申请(专利权)人:中强光电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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