本实用新型专利技术公开了一种高电导率钽酸理晶片黑化用加热装置，涉及钽酸理晶片技术领域，包括加热箱，所述加热箱的内部活动安装有转动支撑装置，所述转动支撑装置的内部活动安装有晶片放置架。上述方案，转动盘活动安装在箱体的内部，在装置工作过程中，打开固定板，将钽酸理晶片放置在嵌接槽的内部，盖住固定板，通过固定栓将钽酸理晶片进行固定，根据钽酸理晶片的大小和外形，通过转动调节把手，使钽酸理晶片放置的角度可以调节，关闭开关门，驱动装置启动，使转动盘进行转动，同时加热器启动，使箱体的内部进行加热，加热的过程中钽酸理晶片进行旋转，使钽酸理晶片受热更加均匀，提高受热效果，提高黑化质量，节约时间和人力。节约时间和人力。节约时间和人力。
【技术实现步骤摘要】
一种高电导率钽酸理晶片黑化用加热装置
[0001]本技术涉及钽酸理晶片
，更具体地说，本技术涉及一种高电导率钽酸理晶片黑化用加热装置。
技术介绍
[0002]钽酸锂晶体属于应用广泛的压电晶体，典型的多功能材料，集压电、铁电、热释电、声光、电光、非线性及光折变等多种优良性能于一身，特别是随着智能手机高频率器件的发展，器件越来越小，纸条越来越细，高透过率和高热释电性已经成为钽酸锂手机声表面波器件批量生产中存在的极大问题，在真空或还原气氛(如H2、CO、N2等)下升温至晶体居里温度下保持一段时间后降至室温，处理后的晶片表面颜色会由无色变灰到棕黑甚至几乎不透明，因此也称为黑片。
[0003]现有的钽酸理晶片在黑化的过程中需要进行加热，但加热往往将钽酸理晶片固定放置在加热器的内部进行加热，由于钽酸理晶片规格不同，大小也不相同，很容易使钽酸理晶片受热不均匀，同时角度无法进行调节，影响黑化质量，降低黑化效果。
技术实现思路
[0004]为了克服现有技术的上述缺陷，本技术的实施例提供一种高电导率钽酸理晶片黑化用加热装置，以解决现有的钽酸理晶片在黑化的过程中需要进行加热，但加热往往将钽酸理晶片固定放置在加热器的内部进行加热，由于钽酸理晶片规格不同，大小也不相同，很容易使钽酸理晶片受热不均匀，同时角度无法进行调节，影响黑化质量，降低黑化效果的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本技术提供如下技术方案：一种高电导率钽酸理晶片黑化用加热装置，包括加热箱，所述加热箱的内部活动安装有转动支撑装置，所述转动支撑装置的内部活动安装有晶片放置架。
[0006]优选地，所述加热箱包括箱体，所述箱体的底部固定安装有驱动箱，所述箱体的侧边活动安装有开关门，所述箱体的内部固定安装有加热器。
[0007]优选地，所述转动支撑装置包括驱动装置，所述驱动装置的顶部活动安装有转动盘，所述转动盘顶部固定安装有支撑架，所述支撑架的一端固定安装有调节孔，所述支撑架的内部活动安装有转动孔，所述调节孔的内部活动安装有传动装置。
[0008]优选地，所述传动装置包括调节把手，所述调节把手的侧边活动安装有驱动轴，所述驱动轴的外表面固定安装有驱动齿轮，所述驱动齿轮的侧面活动安装有带动齿轮，所述驱动齿轮的外表面与带动齿轮相啮合，所述带动齿轮的侧边固定安装有转动杆，所述转动杆活动安装在转动孔的内部。
[0009]优选地，所述晶片放置架包括架体，所述架体固定安装在转动杆的内部，所述架体的内部开设有与晶片相对应的嵌接槽，所述架体顶部的一端固定安装有支撑轴，所述支撑轴的外表面活动安装有固定板，所述固定板的一端活动安装有固定栓，所述架体顶部的另
外一端开设有与固定栓相对应的紧固孔。
[0010]本技术的技术效果和优点：
[0011]上述方案中，所述转动盘活动安装在箱体的内部，在装置工作过程中，将钽酸理晶片放置在嵌接槽的内部，关闭开关门，驱动装置启动，使转动盘进行转动，同时加热器启动，使箱体的内部进行加热，加热的过程中钽酸理晶片进行旋转，使钽酸理晶片受热更加均匀，黑化效果更加理想，提高装置黑化质量；所述驱动轴活动安装在调节孔的内部，固定板活动安装在架体的顶部，在装置工作过程中，打开固定板，将钽酸理晶片放置在嵌接槽的内部，盖住固定板，通过固定栓将钽酸理晶片进行固定，根据钽酸理晶片的大小和外形，通过转动调节把手，使驱动齿轮带动带动齿轮转动，转动杆带动架体进行转动，使钽酸理晶片放置的角度可以调节，同时钽酸理晶片放置降低，安装稳定，避免加热时受热不均，同时安装便捷，节约时间和人力。
附图说明
[0012]图1为本技术的整体结构示意图；
[0013]图2为本技术的加热箱结构示意图；
[0014]图3为本技术的转动支撑装置结构示意图；
[0015]图4为本技术的传动装置结构示意图；
[0016]图5为本技术的晶片放置架结构示意图。
[0017]附图标记为：1、加热箱；2、转动支撑装置；3、晶片放置架；4、传动装置；11、驱动箱；12、开关门；13、加热器；14、箱体；21、驱动装置；22、转动盘；23、支撑架；24、调节孔；25、转动孔；31、架体；32、嵌接槽；33、固定板；34、支撑轴；35、固定栓；36、紧固孔；41、调节把手；42、驱动轴；43、驱动齿轮；44、带动齿轮；45、转动杆。
具体实施方式
[0018]为使本技术要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
[0019]如附图1至附图5，本技术的实施例提供一种高电导率钽酸理晶片黑化用加热装置，包括加热箱1，加热箱1的内部活动安装有转动支撑装置2，转动支撑装置2的内部活动安装有晶片放置架3。
[0020]如附图2和附图3，加热箱1包括箱体14，箱体14的底部固定安装有驱动箱11，箱体14的侧边活动安装有开关门12，箱体14的内部固定安装有加热器13；转动支撑装置2包括驱动装置21，驱动装置21的顶部活动安装有转动盘22，转动盘22顶部固定安装有支撑架23，支撑架23的一端固定安装有调节孔24，支撑架23的内部活动安装有转动孔25，调节孔24的内部活动安装有传动装置4。
[0021]具体的，转动盘22活动安装在箱体14的内部，在装置工作过程中，将钽酸理晶片放置在嵌接槽32的内部，关闭开关门12，驱动装置21启动，使转动盘22进行转动，同时加热器13启动，使箱体14的内部进行加热，加热的过程中钽酸理晶片进行旋转，使钽酸理晶片受热更加均匀，黑化效果更加理想，提高装置黑化质量。
[0022]如附图4和附图5，传动装置4包括调节把手41，调节把手41的侧边活动安装有驱动
轴42，驱动轴42的外表面固定安装有驱动齿轮43，驱动齿轮43的侧面活动安装有带动齿轮44，驱动齿轮43的外表面与带动齿轮44相啮合，带动齿轮44的侧边固定安装有转动杆45，转动杆45活动安装在转动孔25的内部；晶片放置架3包括架体31，架体31固定安装在转动杆45的内部，架体31的内部开设有与晶片相对应的嵌接槽32，架体31顶部的一端固定安装有支撑轴34，支撑轴34的外表面活动安装有固定板33，固定板33的一端活动安装有固定栓35，架体31顶部的另外一端开设有与固定栓35相对应的紧固孔36。
[0023]具体的，驱动轴42活动安装在调节孔24的内部，固定板33活动安装在架体31的顶部，在装置工作过程中，打开固定板33，将钽酸理晶片放置在嵌接槽32的内部，盖住固定板33，通过固定栓35将钽酸理晶片进行固定，根据钽酸理晶片的大小和外形，通过转动调节把手41，使驱动齿轮43带动带动齿轮44转动，转动杆45带动架体31进行转动，使钽酸理晶片放置的角度可以调节，同时钽酸理晶片放置稳固，使钽酸理晶片转动稳定，避免加热时受热不均，同时安装便捷，节约时间和人力。
[0024]本技术的工作过程如下：
[0025本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种高电导率钽酸理晶片黑化用加热装置，包括加热箱(1)，其特征在于，所述加热箱(1)的内部活动安装有转动支撑装置(2)，所述转动支撑装置(2)的内部活动安装有晶片放置架(3)。2.根据权利要求1所述的高电导率钽酸理晶片黑化用加热装置，其特征在于，所述加热箱(1)包括箱体(14)，所述箱体(14)的底部固定安装有驱动箱(11)，所述箱体(14)的侧边活动安装有开关门(12)，所述箱体(14)的内部固定安装有加热器(13)。3.根据权利要求1所述的高电导率钽酸理晶片黑化用加热装置，其特征在于，所述转动支撑装置(2)包括驱动装置(21)，所述驱动装置(21)的顶部活动安装有转动盘(22)，所述转动盘(22)顶部固定安装有支撑架(23)，所述支撑架(23)的一端固定安装有调节孔(24)，所述支撑架(23)的内部活动安装有转动孔(25)，所述调节孔(24)的内部活动安装有传动装置(4)。4.根据权利要求3所述的高电导率钽酸理晶片黑化...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘砚滨，赵中阳，赵春锋，于会永，
申请(专利权)人：大庆溢泰半导体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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