与观测物平行的水平放置显微装置制造方法及图纸

技术编号:35097229 阅读:37 留言:0更新日期:2022-10-01 17:01
本发明专利技术涉及显微成像技术领域,本发明专利技术提供与观测物平行的水平放置显微装置,属于侧面观测显微镜,其中,显微镜和样品为平行放置,便于使样品正上方适用其他观察手段或者加工手段,通过两个反射镜以及超长的工作距离显微镜来达到目的,将微距功能和放大功能组合构成显微放大装置。所述与观测物平行的水平放置显微装置包括准直光源、反射光路组件、微距镜头以及显微镜组。所述反射光路组件设置于真空腔中,所述微距镜头用于接收所述反射光路组件反射的样品的光线,并经显微镜组成像于显微镜耙面。本发明专利技术的整个光路的光学放大率为5

【技术实现步骤摘要】
与观测物平行的水平放置显微装置


[0001]本专利技术涉及显微成像
,尤其涉及与观测物平行的水平放置显微装置。

技术介绍

[0002]显微镜是一种将近距离微小物体放大成像的光学系统。传统的显微镜是通过人眼来观察图像,因此将显微镜分为物镜和目镜两个部分。物镜作用是将目标成放大的实像;目镜的作用是将放大的变为放大的虚像,同时将系统出瞳拉至人眼入瞳位置,以便人眼观察。
[0003]一般的显微镜的物距较短,而某些设备(比如超高真空设备等)由于空间限制,无法使显微镜贴近被观测物,从而实现放大成像功能,尤其是观测真空中被研究样品时,由于真空内不适合安装显微镜,以至于常规镜头无特殊设计无法实现放大成像。

技术实现思路

[0004]为了解决上述现有技术中存在的技术问题,本专利技术的主要目的在于提供与观测物平行的水平放置显微装置,属于侧面观测显微镜,其中,显微镜和样品为平行放置,便于使样品正上方适用其他观察手段或者加工手段,通过两个反射镜以及超长的工作距离显微镜来达到目的,将微距功能和放大功能组合构成显微放大装置。
[0005]第一方面,本专利技术提供了一种与观测物平行的水平放置显微装置,包括准直光源、反射光路组件、微距镜头、显微镜组;所述反射光路组件设置于真空腔中,所述反射光路组件包括设置于所述准直光源出射光路上的样品置物台以及用于将所述样品置物台上样品反射的光线进行反射进入微距镜头的反射镜,所述微距镜头以及准直光源位于真空腔外部,所述微距镜头用于接收所述反射光路组件反射的样品的光线,并经显微镜组成像于显微镜耙面。
[0006]作为本专利技术的进一步方案,所述准直光源包括LED光源和准直镜头,所述准直镜头用于将LED光源发出的光线准直后照射在真空腔中的样品上,所述样品位于所述样品置物台上。
[0007]作为本专利技术的进一步方案,所述反射光路组件内包括反射镜Ⅰ和反射镜Ⅱ,所述准直光源照射在样品上的光线经过所述反射镜Ⅰ和反射镜Ⅱ反射后进入所述微距镜头,所述微距镜头的焦距为35

500mm,所述微距镜头的物距大于0.1m,所述微距镜头的放大率为0.5

2倍。
[0008]作为本专利技术的进一步方案,真空腔内设置有电子能量分析器,电子能量分析器设置在样品台正对面距离样品35mm位置处,电子能量分析器中间通孔朝向样品,为使电子能量分离的装置。
[0009]作为本专利技术的进一步方案,所述显微镜组包括显微物镜、显微镜筒以及CCD相机,所述微距镜头与所述显微物镜共焦点,样品作为被观测物通过微距镜头成的像为显微物镜的物,经显微镜组最终成像于显微镜耙面,所述显微镜耙面为CCD相机耙面。
[0010]作为本专利技术的进一步方案,所述显微镜组包括显微物镜和目镜组合。
[0011]作为本专利技术的进一步方案,所述与观测物平行的水平放置显微装置还包括计算机,所述CCD相机与所述计算机连接。
[0012]第二方面,本专利技术提供了一种与观测物平行的水平放置显微装置,所述与观测物平行的水平放置显微装置包括准直光源、反射光路组件、微距镜头以及显微镜组组成的观测显微镜组件,所述观测显微镜组件安装在超高真空设备外用于对被观测物显微放大成像,所述观测显微镜组件的反射光路组件安装在真空腔中,所述观测显微镜组件的光学放大率为5

200倍。
[0013]第三方面,本专利技术提供了一种与观测物平行的水平放置显微装置,包括放大装置,所述放大装置包括安装在超高真空设备外的观测显微镜组件、与所述观测显微镜组件搭配组合的微距镜头、显微镜以及CCD相机,所述微距镜头、显微镜以及CCD相机设置在所述观测显微镜组件的反射光路上,被观测物通过微距镜头成的像为显微物镜的物,经显微镜组最终成像于显微镜耙面。
[0014]本专利技术提供的技术方案,具有如下有益效果:
[0015]本专利技术提供与观测物平行的水平放置显微装置,属于侧面观测显微镜,其中,显微镜和样品为平行放置,便于使样品正上方适用其他观察手段或者加工手段,通过两个反射镜以及超长的工作距离显微镜来达到目的,将微距功能和放大功能组合构成显微放大装置,通过准直光源对真空腔内反射光路组件的被观测物照射,被观测物的反射光通过微距镜头、显微镜组后,最终成像于显微镜耙面,整个光路的光学放大率为5

200倍,解决了真空腔内不适合安装显微镜的问题,在真空腔中安装两个反射镜,真空腔外面比较远的地方放置微距镜头、显微镜以及CCD相机组成一种放大装置,可以解决上述真空腔内不适合安装显微镜,样品无法放大的难题,适用于某些设备(比如超高真空设备等)内样品的真空显微成像镜头组的观察使用。
[0016]本专利技术的这些方面或其他方面在以下实施例的描述中会更加简明易懂。应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本专利技术。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例。在附图中:
[0018]图1为本专利技术实施例中一种与观测物平行的水平放置显微装置的光路图。
[0019]图中:1

准直光源、11

LED光源、12

准直镜头、2

反射光路组件、21

样品置物台、22

反射镜Ⅰ、23

反射镜Ⅱ、24

电子能量分析器、3

微距镜头、4

显微镜组、41

显微物镜、42

显微镜筒、43

CCD相机、5

计算机。
[0020]本专利技术目的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0021]本部分将详细描述本专利技术的具体实施例,本专利技术之较佳实施例在附图中示出,附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述,使人能够直观地、形象地理解本专利技术的每个技术特征和整体技术方案,但其不能理解为对本专利技术保护范围的限制。
[0022]在本专利技术的描述中,若干的含义是一个或者多个,多个的含义是两个以上,大于、小于、超过等理解为不包括本数,以上、以下、以内等理解为包括本数。
[0023]在本专利技术的描述中,对方法步骤的连续标号是为了方便审查和理解,结合本专利技术的整体技术方案以及各个步骤之间的逻辑关系,调整步骤之间的实施顺序并不会影响本专利技术技术方案所达到的技术效果。
[0024]本专利技术的描述中,除非另有明确的限定,设置等词语应做广义理解,所属
技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本专利技术中的具体含义。
[0025]在本专利技术的实施方式中,提供了与观测物平行的水平放置显微装置,其中,与观测物平行的水平放置显微装置可以应用在超高真空设备本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种与观测物平行的水平放置显微装置,其特征在于,观测显微镜组件包括准直光源(1)、反射光路组件(2)、微距镜头(3)以及显微镜组(4);所述反射光路组件(2)设置于真空腔中,所述反射光路组件(2)包括设置于所述准直光源(1)出射光路上的样品置物台(21)以及用于将所述样品置物台(21)上样品反射的光线进行反射进入微距镜头(3)的反射镜,所述微距镜头(3)以及准直光源(1)位于真空腔外部,所述微距镜头(3)用于接收所述反射光路组件(2)反射的样品的光线,并经显微镜组(4)成像于显微镜耙面。2.根据权利要求1所述的与观测物平行的水平放置显微装置,其特征在于,所述准直光源(1)包括LED光源(11)和准直镜头(12),所述准直镜头(12)用于将LED光源(11)发出的光线准直后照射在真空腔中的样品上,所述样品位于所述样品置物台(21)上。3.根据权利要求1所述的与观测物平行的水平放置显微装置,其特征在于,所述反射光路组件(2)内包括反射镜Ⅰ(22)和反射镜Ⅱ(23),所述反射镜Ⅰ(22)和反射镜Ⅱ(23)用于将所述准直光源(1)照射在样品上的光线反射后进入所述微距镜头(3)。4.根据权利要求1或3所述的与观测物平行的水平放置显微装置,其特征在于,所述微距镜头(3)的焦距为35

500mm,所述微距镜头(3)的物距大于0.1m,所述微距镜头(3)的放大率为0.5

2倍。5.根据权利要求3所述的与观测物平行的水平放置显微装置,其特征在于,真空腔内设置有电子能量分析器(24),电子能量分析器(24)设置在样品台正对面距离样品35mm位置处,电子能量分析器(2...

【专利技术属性】
技术研发人员:张超凡江虹李永斌王淞岳晨阳
申请(专利权)人:中国人民解放军国防科技大学
类型:发明
国别省市:

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