脂氧合酶抑制剂制造技术

技术编号:35090433 阅读:21 留言:0更新日期:2022-10-01 16:47
本公开的各种实施方式涉及具有式I、式II、式IIA、式III、式IIIA、式IIIB的化合物和/或其药学上可接受的盐。所述化合物可适用于抑制脂氧合酶和/或治疗相关疾病。在一些实施方式中,主题化合物用于制备有效治疗神经退行性疾病的组合物。的组合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】脂氧合酶抑制剂

技术介绍

[0001]脂氧合酶(LOX)及其催化产物,例如炎性白三烯(LT)和羟基二十碳四烯酸(HETE),与多种人类疾病的发病机制有关,包括炎性疾病、癌症和神经退行性疾病。已知脂氧合酶抑制剂可用于治疗各种与LOX相关的炎性疾病,包括神经退行性疾病,例如阿尔茨海默病。

技术实现思路

[0002]本专利技术旨在克服上述挑战以及与化合物有关的其他挑战,例如作为LOX抑制剂的化合物。
[0003]本公开的各种实施方式涉及具有式I的化合物及其药学上可接受的盐:
[0004][0005]其中:n是0

2,使得当n=0时,B和NH基之间存在直接键,并且没有R3,而当n=1或2时,这些键中的碳任选地被一个R3基取代;A是6元杂芳基或6元芳基,其中6元杂芳基或6元芳基进一步独立地被1

3个R1基取代;B是5

6元杂环,5

6元芳基,或5

6元环己基,其中5

6元杂环、5

6元芳基或5

6元环己基是未被取代的或独立地被最多3个R2基取代;X1、X2、X3、X4、X5和X6各自独立地是C、N或O;各R1独立地包括:卤素,C1‑4烷基,

NR
x
R
y


O(CH2)2R
x


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x
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NHC(O)

C2‑4烷基,

(CH2)3NR
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NH(CH2)2R
x
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y


NHCH2CR
x
R
y
R
z
,5

6元芳基,5

10元杂环,5

10元杂芳基,或5

10元杂环芳基,其中1

3个R1基任选地进一步被R
a
和/或R
b
取代,其中两个R1基任选地一起形成5

6元杂芳基,[5

6元杂环,5

6元环烷基,5

6元芳基],其中5

6元杂芳基,[5

6元杂环,5

6元环烷基,5

6元芳基]任选地进一步被1

3个R
a
基取代;各R2独立地包括:卤素,C1‑2甲氧基,或

C(O)OR
x
;其中相邻原子上的2个R2基任选地一起形成5

6元芳基,其中5

6元芳基任选地进一步被1

3个R
a
基取代;R3包括:C1‑3卤代烷基,或氧代;R
x
、R
y
和R
z
各自独立地包括:H,卤素,C1‑2烷基,C1‑2醇,C1‑2烷氧基,C1‑2卤代烷基,或

NR
a
R
b
,其中R
x
、R
y
或R
z
中的任何两个任选地一起形成4

6元杂环,5

6元芳基,其中R
x
、R
y
和R
z
各自任选地进一步被R
a
和R
b
取代;R
a
和R
b
各自独立地包括:H,卤素,氰基,氧代,C1‑3烷基,

C(O)OR

,C1‑3卤代烷基,5

6元芳基,5

6元杂芳基,或4

6元杂环,其中R
a
和R
b
各自任选地进一步被R

取代;并且R

是C1‑3烷基,C1‑3卤代烷基,或C5‑6元杂芳基。
[0006]在一些实施方式中,各R1独立地选自:
[0007][0008][0009]在一些实施方式中,其中各R2独立地选自:F,Cl和
[0010][0011]在一些实施方式中,化合物(式I的化合物)选自:
[0012][0013][0014][0015][0016]及其药学上可接受的盐。
[0017]本公开的各种实施方式涉及具有式II的化合物或其药学上可接受的盐:
[0018][0019]其中A是6元杂芳基或6元芳基,其中6元杂芳基或6元芳基独立地被1

3个R1基取代;B是6元杂环,6元芳基,或6元环己基,其中6元杂环、6元芳基或6元环己基是未被取代的或独立地被最多2个R2基取代;各X1、X2、X3和X4独立地包括:C,N,或O;各R1独立地包括:卤素,C1‑4烷基,

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R
y


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6元杂芳基,[5

6元杂环,5

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或R
b
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;各R
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、R
y
和R
z
独立地包括:H,卤素,C1‑2烷基,C本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种具有式I的化合物及其药学上可接受的盐:其中:n是0

2,使得当n=0时,B和NH基之间存在直接键,并且没有R3,而当n=1或2时,这些键中的碳任选地被一个R3基取代;A是6元杂芳基或6元芳基,其中6元杂芳基或6元芳基进一步独立地被1

3个R1基取代;B是5

6元杂环,5

6元芳基,或5

6元环己基,其中5

6元杂环、5

6元芳基或5

6元环己基是未被取代的或独立地被最多3个R2基取代;X1、X2、X3、X4、X5和X6各自独立地包括:C、N或O;各R1独立地包括:卤素,C1‑4烷基,

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6元杂芳基,[5

6元杂环,5

6元环烷基,5

6元芳基]任选地进一步被1

3个R
a
基取代;各R2独立地包括:卤素,C1‑2甲氧基,或

C(O)OR
x
;其中相邻原子上的2个R2基任选地一起形成5

6元芳基,其中5

6元芳基任选地进一步被1

3个R
a
基取代;R3包括:C1‑3卤代烷基,或氧代;R
x
、R
y
和R
z
各自独立地包括:H,卤素,C1‑2烷基,C1‑2醇,C1‑2烷氧基,C1‑2卤代烷基,或

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a
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,其中R
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中的任何两个任选地一起形成4

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、R
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和R
z
各自任选地进一步被R
a
和R
b
取代;R
a
和R
b
各自独立地包括:H,卤素,氰基,氧代,C1‑3烷基,

C(O)OR

,C1‑3卤代烷基,5

6元芳基,5

6元杂芳基,或4

6元杂环,其中R
a
和R
b
各自任选地进一步被R

取代;R

是C1‑3烷基,C1‑3卤代烷基,或C5‑6元杂芳基。2.如权利要求1所述的化合物,其中,各R1独立地选自:
3.如权利要求1所述的化合物,其中,各R2独立地选自:F,Cl,和4.如权利要求1所述的化合物,其中,所述化合物选自:
以及其药学上可接受的盐。5.一种具有式II的化合物及其药学上可接受的盐:其中:A是6元杂芳基或6元芳基,其中6元杂芳基或6元芳基独立地被1

3个R1基取代;B是6元杂环,6元芳基,或6元环己基,其中6元杂环、6元芳基或6元环己基是未被取代的或独立地被最多2个R2基取代;X1、X2、X3和X4各自独立地包括:C、N或O;各R1独立地包括:卤素,C1‑4烷基,

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10元杂环芳基,其中两个R1基任选地一起形成5

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6元芳基]任选地进一步被1

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各R2独立地包括:卤素,C1‑2甲氧基,或

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和R
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各自独立地包括:H,卤素,C1‑2烷基,C1‑2醇,C1‑2烷氧基,C1‑2卤代烷基,或

NR
a
R
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,其中R
x
、R
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或R
z
中的两个任选地一起形成4

6元杂环,5

6元芳基,其中R
x
、R
y
和R
z
各自任选地进一步被R
a
和R
b
取代;R
a
和R
b
各自独立地包括:H,卤素,氰基,氧代,C1‑3烷基,

C(O)OR

,C1‑3卤代烷基,5

6元芳基,5

6元杂芳基,或4

6元杂环,其中R
a
和R
b
任选地且独立地进一步被R

取代;R

是C1‑3烷基,C1‑3卤代烷基,或5

6元杂芳基。6.如权利要求5所述的化合物,其中,各R1独立地选自:
7.如权利要求5所述的化合物,其中各R2独立地选自:独立地选自:8.如权利要求5所述的化合物,其中,所述化合物选自:
以及其药学上可接受的盐。9.一种具有式IIA的化合物及其药学上可接受的盐:其中:B是环己基,6元杂环,6元芳基,或6元杂芳基;X1、X3和X4各自独立地是C,N,或O;R1是

C1‑3烷基

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x
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CH2C(R
x
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a
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6元芳基,其中R1任选地进一步被R
a
或R
b
取代;R2是H,卤素,C1‑3烷基,C1‑3卤代烷基,或C1‑3卤代烷氧基,其中R1和R2任选地一起形成5

6元杂环,其中5

6元杂环任选地进一步被R
a
、R
b
或R
a
和R
b
两者取代;R3是H或卤素;R4是卤素,或C1‑3烷基;R
x
和R
y
各自独立地是C5‑6元杂环,R
a
和R
b
各自独立地是C1‑3烷基或C1‑3卤代烷基,
其中R
a
和R
b
任选地进一步被R

基取代;R

基是5元杂芳基或5

6元杂环。10.如权利要求9所述的化合物,其中,R1选自:11.如权利要求9所述的化合物,其中,各R2独立地选自:12.如权利要求9所述的化合物,其中,所述化合物选自:
以及其药学上可接受的盐。13.一种具有式IIB的化合物及其药学上可接受的盐:
其中:B是环己基,6...

【专利技术属性】
技术研发人员:L
申请(专利权)人:思研SRI国际顾问与咨询公司
类型:发明
国别省市:

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