蒸镀掩模用基材、蒸镀掩模用基材的制造方法、蒸镀掩模的制造方法及显示装置的制造方法制造方法及图纸

技术编号:35033561 阅读:26 留言:0更新日期:2022-09-24 23:08
本发明专利技术提供一种蒸镀掩模用基材、蒸镀掩模用基材的制造方法、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法,能够提高通过蒸镀形成的图案的精度。金属板的长度方向DL上的各位置处的沿着金属板的宽度方向DW的形状彼此不同,各形状为具有在金属板的宽度方向上反复的凹凸的波形状,金属板的表面上的宽度方向DW的长度为表面距离,金属板的长度方向的各位置处的表面距离中的最小值为最小表面距离,金属板的长度方向的各位置处的表面距离与最小距离之差相对于最小表面距离的比率为宽度方向上的伸长差率,宽度方向上的伸长差率的最大值为2

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模用基材、蒸镀掩模用基材的制造方法、蒸镀掩模的制造方法及显示装置的制造方法
[0001]本申请是申请日为2018年3月22日、申请号为201810238673.9、专利技术名称为“蒸镀掩模用基材、蒸镀掩模用基材的制造方法、蒸镀掩模的制造方法及显示装置的制造方法”的申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及蒸镀掩模用基材、蒸镀掩模用基材的制造方法、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法。

技术介绍

[0003]蒸镀掩模包括第1面、第2面及从第1面贯通至第2面的孔。第1面与基板等对象物对置,第2面位于与第1面相反的一侧。孔包括位于第1面的第1开口以及位于第2面的第2开口。从第2开口进入到孔的蒸镀物质将对第1开口的位置、第1开口的形状进行追随的图案形成于对象物(例如,参照专利文献1)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开2015-055007号公报
[0007]蒸镀掩模所具备的孔具有随着从第1开口趋近第2开口而增大的截面积,由此,提高从第2开口进入孔的蒸镀物质的数量,确保到达第1开口的蒸镀物质的数量。另一方面,从第2开口进入孔的蒸镀物质的至少一部分未到达第1开口,而是附着于划分孔的壁面。附着于壁面的蒸镀物质阻碍其他蒸镀物质通过孔,降低了图案所具有的尺寸的精度。
[0008]近年来,出于降低附着于壁面的蒸镀物质的体积的目的,探讨减薄蒸镀掩模的厚度,缩小壁面的面积自身。并且,作为减薄蒸镀掩模的厚度的技术,探讨减薄用于制造蒸镀掩模的基材即金属板的厚度。
[0009]另一方面,在向金属板形成孔的蚀刻的工序中,金属板的厚度越是减薄,则被除去的金属的体积越小。因此,向金属板供给蚀刻液的时间、所供给的蚀刻液的温度等加工条件的允许范围变窄。结果是,第1开口或第2开口的尺寸无法获得足够的精度。特别是,在制造金属板的技术中,使用利用辊子将母材延展的轧制、或将析出至电极的金属板从电极剥离的电解,在金属板自身上形成有波形状。在具有此类形状的金属板中,使金属板与蚀刻液接触的时间例如在波形状的峰部与波形状的谷部之间明显不同。因此,上述允许范围的狭窄化伴随而来的精度降低更加严重。如上,减薄蒸镀掩模的厚度的技术虽然通过降低附着于壁面的蒸镀物质的量来提高反复进行蒸镀时的图案尺寸的精度,但会引起蒸镀中难以获得图案尺寸所需精度的课题。

技术实现思路

[0010]本专利技术的目的在于提供能够提高通过蒸镀形成的图案的精度的蒸镀掩模用基材、
蒸镀掩模用基材的制造方法、蒸镀掩模的制造方法以及显示装置的制造方法。
[0011]用于解决上述课题的蒸镀掩模用基材为呈带状的金属板,通过蚀刻形成有多个孔,被使用于制造蒸镀掩模,其中,上述金属板具有长度方向和宽度方向,上述金属板的上述长度方向上的各位置处的沿着上述宽度方向的形状彼此不同,各形状为具有在上述金属板的宽度方向上反复的凹凸的波形状,上述宽度方向上的上述金属板的表面的长度为表面距离,上述金属板的上述长度方向的各位置处的上述表面距离中的最小值为最小表面距离,各表面距离与上述最小表面距离之差相对于上述最小表面距离的比率为上述宽度方向上的伸长差率,上述伸长差率的最大值为2
×
10
-5
以下。
[0012]用于解决上述课题的蒸镀掩模用基材的制造方法中,蒸镀掩模用基材为呈带状的金属板,通过蚀刻形成有多个孔,被使用于制造蒸镀掩模,将上述母材轧制成,上述蒸镀掩模用基材的制造方法包括对母材进行轧制而得到金属板的工序,上述金属板具有长度方向和宽度方向,上述金属板的上述长度方向上的各位置处的沿着上述宽度方向的形状彼此不同,各形状是具有在上述金属板的宽度方向上反复的凹凸的波形状,上述金属板的上述长度方向的各位置处的上述表面距离中的最小值是最小表面距离,各表面距离与上述最小表面距离之差相对于上述最小表面距离的比率是上述宽度方向上的伸长差率,上述伸长差率的最大值为2
×
10-5以下。
[0013]用于解决上述课题的蒸镀掩模的制造方法包括:在呈带状的金属板上形成抗蚀剂层的工序;和通过以上述抗蚀剂层为掩模的蚀刻对上述金属板形成多个孔,从而形成掩模部的工序,其中,上述金属板具有长度方向和宽度方向,上述金属板的上述长度方向上的各位置处的沿着上述宽度方向的形状彼此不同,各形状是具有在上述金属板的宽度方向上反复的凹凸的波形状,上述宽度方向上的上述金属板的表面的长度是表面距离,上述金属板的上述长度方向的各位置处的上述表面距离中的最小值是最小表面距离,各表面距离与上述最小表面距离之差相对于上述最小表面距离的比率为上述宽度方向上的伸长差率,上述伸长差率的最大值为2
×
10
-5
以下。
[0014]根据上述蒸镀掩模用基材,宽度方向上的伸长差率的最大值为2
×
10
-5
以下,因此,即便向沿长度方向搬运的蒸镀掩模用基材的表面供给液体,也容易使液体在蒸镀掩模用基材的表面均匀流动。结果是,供给至沿长度方向搬运的蒸镀掩模用基材的表面的液体在长度方向的局部淤积的情况得到抑制。并且,能够提高使用蚀刻液等液体进行处理时的长度方向上的加工的均匀性、即蒸镀掩模用基材所具有的孔的长度方向上的均匀性,进而能够提高通过蒸镀形成的图案的精度。
[0015]在上述蒸镀掩模用基材中,也可以是,上述长度方向上的上述蒸镀掩模用基材的单位长度为500mm,上述伸长差率的上述单位长度下的平均值为0.5
×
10
-5
以下。根据该蒸镀掩模用基材,宽度方向上的伸长差率在长度方向的整体中得到抑制,故而能够进一步提高图案的精度。
[0016]在上述蒸镀掩模用基材中,也可以是,上述长度方向上的上述蒸镀掩模用基材的单位长度为500mm,具有0.5
×
10
-5
以上的上述伸长差率的波峰的个数在每上述单位长度中为三个以下。与具有0.5
×
10
-5
以上的伸长差率的波峰对应的部位是与其周围相比伸长差率急剧增大的部位。根据该蒸镀掩模用基材,由于此类波峰的个数在每单位长度中为三个以下,因此能够进一步抑制蒸镀掩模用基材的表面处的液体的淤积。
[0017]在上述蒸镀掩模用基材中,也可以是,上述长度方向上的上述蒸镀掩模用基材的单位长度为500mm,具有30.5
×
10
-5
以上的上述伸长差率的波峰彼此的间隔的最小值在每上述单位长度中为100mm以上。根据该蒸镀掩模用基材,上述波峰的间隔为100mm以上,因此能够抑制因波峰的间隔狭窄而导致的波峰间的液体的淤积。
[0018]在上述蒸镀掩模的制造方法中,也可以是,形成上述掩模部是指对单个上述金属板形成多个上述掩模部,各上述掩模部分别具备具有上述多个孔的一个侧面,各上述掩模部的侧面与一个框架部以每个上述掩模部的上述多个孔整体地被上述一个框架部包围的方式彼此接合。根据该蒸镀掩模本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模用基材,该蒸镀掩模用基材为呈带状的金属板,通过蚀刻形成有多个孔,被使用于制造蒸镀掩模,其中,上述金属板具有长度方向和宽度方向,上述金属板的上述长度方向上的各位置处的沿着上述宽度方向的形状彼此不同,各形状为具有在上述金属板的宽度方向上反复的凹凸的波形状,上述宽度方向上的上述金属板的表面的长度为表面距离,上述金属板的上述长度方向的各位置处的上述表面距离中的最小值为最小表面距离,各表面距离与上述最小表面距离之差相对于上述最小表面距离的比率为上述宽度方向上的伸长差率,上述伸长差率的最大值为2
×
10
-5
以下。2.如权利要求1所述的蒸镀掩模用基材,其中,上述长度方向上的上述蒸镀掩模用基材的单位长度为500mm,上述伸长差率的上述单位长度下的平均值为0.5
×
10
-5
以下。3.如权利要求1或2所述的蒸镀掩模用基材,其中,上述长度方向上的上述蒸镀掩模用基材的单位长度为500mm,具有0.5
×
10
-5
以上的上述伸长差率的波峰的个数在每上述单位长度中为三个以下。4.如权利要求1或2所述的蒸镀掩模用基材,其中,上述长度方向上的上述蒸镀掩模用基材的单位长度为500mm,具有0.5
×
10
-5
以上的上述伸长差率的波峰彼此的间隔的最小值在每上述单位长度中为100mm以上。5.如权利要求1或2所述的蒸镀掩模用基材,其中,构成上述金属板的材料是镍或者铁镍合金。6.如权利要求1或2所述的蒸镀掩模用基材,其中,上述金属板所具有的厚度为10μm以上且50μm以下。7.一种蒸镀掩模用基材的制造方法,该蒸镀掩模用基材为呈带状的金属板,通过蚀刻形成有多个孔,被使用于制造蒸镀掩模,上述蒸镀掩模用基材的制造...

【专利技术属性】
技术研发人员:新纳干大
申请(专利权)人:凸版印刷株式会社
类型:发明
国别省市:

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