本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。该显示面板，包括依次层叠的衬底基板、驱动器件层、第一平坦层、发光器件层和彩色滤光层；第一平坦层具有露出驱动器件层的第一过孔；发光器件层包括：通过第一过孔与驱动器件层连接的发光器件，以及围合于发光器件周围的像素界定结构；像素界定结构包括：填充第一过孔的第一像素界定子结构、和覆盖至少部分第一像素界定子结构的第二像素界定子结构。本申请实施例采用层叠的多层像素界定子结构，可以在制备过程中实现多层像素界定子结构的多次流平，可有效填补第一过孔带来的段差，提高发光器件层中像素界定区的平坦度，减少采用COE技术的显示面板内不规则反射的发生概率，提高色分离性能。提高色分离性能。提高色分离性能。
【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法、显示装置
[0001]本申请涉及显示
，具体而言，本申请涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
[0002]POL
‑
Less即无偏光技术，COE(Color On Encapsulation，将彩膜或彩色滤光片集成于封装层)技术是其中的代表之一。COE技术自身的低功耗，高色域，可控性强，相比于圆偏光片具有较大的优势。
[0003]COE结构可以提升透过率，本身的光透性会让内部的出射光线更多，也会将内部的杂乱反射光从像素孔内反射出来，容易出现不规则反射，影响色分离等恶化黑态下的光学效果的缺陷。
技术实现思路
[0004]本申请针对现有方式的缺点，提出一种显示面板及其制备方法、显示装置，用以解决现有的COE技术存在容易出现不规则反射，影响色分离的技术问题。
[0005]第一个方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括依次层叠的衬底基板、驱动器件层、第一平坦层、发光器件层和彩色滤光层；
[0006]第一平坦层具有露出驱动器件层的第一过孔；
[0007]发光器件层包括：通过第一过孔与驱动器件层连接的发光器件，以及围合于发光器件周围的像素界定结构；
[0008]像素界定结构包括：填充第一过孔的第一像素界定子结构、和覆盖至少部分第一像素界定子结构的第二像素界定子结构。
[0009]可选地，发光器件包括：通过第一过孔与驱动器件层连接的阳极层，以及依次位于阳极层远离衬底基板一侧的发光层和阴极层；
[0010]第一像素界定子结构还覆盖部分阳极层。
[0011]可选地，彩色滤光层包括多个彩色滤光膜，第一过孔在衬底基板的正投影与对应的彩色滤光膜在衬底基板的正投影交叠。
[0012]可选地，第一像素界定子结构还覆盖部分第一平坦层。
[0013]可选地，第一像素界定子结构包括：第一平坦区、和位于第一平坦区周缘的第一斜面区；
[0014]第一平坦区具有远离衬底基板的第一表面，第一表面与衬底基板所在平面平行；第一斜面区具有远离衬底基板的第二表面，第二表面与衬底基板所在平面相交；
[0015]第一过孔在衬底基板的正投影位于第一像素界定子结构的第一平坦区在衬底基板的正投影以内。
[0016]可选地，第一像素界定子结构的第一斜面区沿第一方向的尺寸不小于0.5微米，第一方向与衬底基板所在平面平行；
[0017]和/或，第一像素界定子结构的第一斜面区沿第二方向的尺寸不小于0.5微米且不大于2.0微米，第二方向与衬底基板所在平面垂直。
[0018]可选地，第二像素界定子结构在衬底基板的正投影位于第一像素界定子结构在衬底基板的正投影以内，且第二像素界定子结构在衬底基板的正投影的边缘与第一像素界定子结构在衬底基板的正投影的边缘沿第一方向的尺寸不小于0.5微米。
[0019]可选地，发光器件包括：与第一过孔连接的阳极层，以及依次位于阳极层远离衬底基板一侧的发光层和阴极层；
[0020]第二像素界定子结构还覆盖部分阳极层，和/或，第二像素界定子结构与阳极层直接接触。
[0021]可选地，第二像素界定子结构还覆盖部分第一平坦层，和/或，第二像素界定子结构与第一平坦层直接接触。
[0022]可选地，第二像素界定子结构包括：第二平坦区、和位于第二平坦区周缘的第二斜面区；
[0023]第一过孔在衬底基板的正投影位于第二像素界定子结构的第二平坦区在衬底基板的正投影以内。
[0024]可选地，第二像素界定子结构的第二斜面区沿第二方向的尺寸不小于0.5微米且不大于2.0微米，第二方向与衬底基板所在平面垂直。
[0025]第二个方面，本申请实施例提供了一种显示装置，包括：如上述第一个方面提供的显示面板。
[0026]第三个方面，本申请实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括：
[0027]在衬底基板的一侧依次制备驱动器件层和第一平坦层；
[0028]在第一平坦层制备露出驱动器件层的第一过孔；
[0029]在第一平坦层远离衬底基板的一侧制备通过第一过孔与驱动器件层连接的阳极层；
[0030]在第一平坦层远离衬底基板的一侧依次制备填充第一过孔的第一像素界定子结构、和覆盖至少部分第一像素界定子结构的第二像素界定子结构，以形成像素界定结构；
[0031]在阳极层远离衬底基板的一侧依次制备发光层和阴极层，以形成发光器件；包括发光器件以及围合于发光器件周围的像素界定结构的膜层结构形成发光器件层；
[0032]在发光器件层远离衬底基板的一侧制备彩色滤光层。
[0033]可选地，在第一平坦层远离衬底基板的一侧制备填充第一过孔的第一像素界定子结构，包括：
[0034]在第一平坦层的第一过孔内填充第一像素界定材料，固化后形成第一像素界定子结构；
[0035]或，在第一平坦层的第一过孔内、以及第一过孔周围的阳极层上和/或第一平坦层上涂覆第一像素界定材料，流平固化后形成第一像素界定子结构。
[0036]可选地，在第一平坦层远离衬底基板的一侧制备覆盖至少部分第一像素界定子结构的第二像素界定子结构，包括：
[0037]在第一像素界定子结构上涂覆第二像素界定材料，流平固化后形成第二像素界定子结构；
[0038]或，在第一像素界定子结构上、以及第一像素界定子结构周围的阳极层上和/或第一平坦层上涂覆第二像素界定材料，流平固化后形成第二像素界定子结构。
[0039]可选地，在第一平坦层制备与驱动器件层连接的第一过孔，以及在第一平坦层远离衬底基板的一侧制备与过孔连接的阳极层，包括：
[0040]对第一平坦层进行图案化，使得第一平坦层形成露出驱动器件层至少部分导电结构的第一通孔；
[0041]在第一平坦层远离衬底基板的一侧、第一通孔的孔壁和露出的驱动器件层至少部分导电结构上沉积第一金属材料层；
[0042]对金属材料层图案化，使得第一通孔形成第一过孔，并得到位于第一平坦层远离衬底基板的一侧、且与过孔连接的阳极层。
[0043]本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：显示面板采用包括填充第一过孔的第一像素界定子结构、和覆盖至少部分第一像素界定子结构的第二像素界定子结构的多层像素界定子结构，可以在制备过程中实现多层像素界定子结构的多次流平，可有效填补第一平坦层的第一过孔带来的段差，从而提高发光器件层中像素界定区的平坦度，即提高显示面板内反射面的整体平坦度，进而有效减少采用COE技术的显示面板内不规则反射的发生概率，提高色分离性能，提高显示效果。
[0044]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0045]本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0046]图1为相关技术中的一种显示面板的结构示意本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括依次层叠的衬底基板、驱动器件层、第一平坦层、发光器件层和彩色滤光层；所述第一平坦层具有露出所述驱动器件层的第一过孔；所述发光器件层包括：通过所述第一过孔与所述驱动器件层连接的发光器件，以及围合于所述发光器件周围的像素界定结构；所述像素界定结构包括：填充所述第一过孔的第一像素界定子结构、和覆盖至少部分所述第一像素界定子结构的第二像素界定子结构。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光器件包括：通过所述第一过孔与所述驱动器件层连接的阳极层，以及依次位于所述阳极层远离所述衬底基板一侧的发光层和阴极层；所述第一像素界定子结构还覆盖部分所述阳极层。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述彩色滤光层包括多个彩色滤光膜，所述第一过孔在所述衬底基板的正投影与对应的所述彩色滤光膜在所述衬底基板的正投影交叠。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素界定子结构还覆盖部分所述第一平坦层。5.根据权利要求2
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4中任一所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素界定子结构包括：第一平坦区、和位于所述第一平坦区周缘的第一斜面区；所述第一平坦区具有远离所述衬底基板的第一表面，所述第一表面与所述衬底基板所在平面平行；所述第一斜面区具有远离所述衬底基板的第二表面，所述第二表面与所述衬底基板所在平面相交；所述第一过孔在所述衬底基板的正投影位于所述第一像素界定子结构的所述第一平坦区在所述衬底基板的正投影以内。6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述第一像素界定子结构的所述第一斜面区沿第一方向的尺寸不小于0.5微米，所述第一方向与所述衬底基板所在平面平行；和/或，所述第一像素界定子结构的所述第一斜面区沿第二方向的尺寸不小于0.5微米且不大于2.0微米，所述第二方向与所述衬底基板所在平面垂直。7.根据权利要求2
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4中任一所述的显示面板，其特征在于，所述第二像素界定子结构在所述衬底基板的正投影位于所述第一像素界定子结构在所述衬底基板的正投影以内，且所述第二像素界定子结构在所述衬底基板的正投影的边缘与所述第一像素界定子结构在所述衬底基板的正投影的边缘沿第一方向的尺寸不小于0.5微米。8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光器件包括：与所述第一过孔连接的阳极层，以及依次位于所述阳极层远离所述衬底基板一侧的发光层和阴极层；所述第二像素界定子结构还覆盖部分所述阳极层，和/或，所述第二像...
【专利技术属性】
技术研发人员：侯鹏，王冀星，罗利辉，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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