真空泵制造技术

本发明专利技术的真空泵具备罩(11)、在罩(11)的内侧配设的定子(17)、具有被相对于定子(17)旋转自如地支承的轴(20)并且与轴(20)一同被能够旋转地内置于罩(11)的圆筒状的转子(18)，其特征在于，在罩(11)内，配设有作为生成自由基的自由基发生装置(10C)的一部分的电极部(36A)。自由基发生装置(10C)的一部分的电极部(36A)。自由基发生装置(10C)的一部分的电极部(36A)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空泵


[0001]本专利技术涉及真空泵，特别地，涉及能够在真空泵内消除气体固化而生成的堆积物等的真空泵。

技术介绍

[0002]近年来，在从作为被处理基板的晶圆形成半导体元件的工艺中，采用将晶圆在保持成高真空的半导体制造装置的处理室内处理来制作产品的半导体元件的方法。将晶圆在真空室加工处理的半导体制造装置中，使用为了实现高真空度来保持而具备涡轮分子泵部及螺纹槽泵部等的真空泵(例如，参照专利文献1)。
[0003]涡轮分子泵部在罩的内部具有薄的金属制的能够旋转的旋转翼和在罩处固定的定子翼。并且，使旋转翼例如以数百米/秒的高速运转，将从吸气口侧进入的用于处理的工艺气体在泵内部压缩而从排气口侧排出。
[0004]但是，从真空泵的吸气口侧进入的工艺气体的分子由于基于旋转翼叶片的向排气口侧的移动而在向排气口侧前进的期间与定子翼叶片碰撞，在定子翼叶片、罩内表面等吸附而堆积。在该定子翼叶片、罩内表面处吸附的堆积物妨碍朝向排气口侧的气体分子的前进通路。因此，发生涡轮分子泵的排气能力的下降、处理压力的异常、堆积物的处理中断引起的生产效率的下降等的问题。
[0005]此外，发生从定子翼、罩内表面剥离的堆积物向半导体制造装置的处理室逆流而污染晶圆的问题。
[0006]作为其对策，在真空泵的吸气口处设置有自由基供给装置的真空泵也被提出，前述自由基供给装置产生将在定子翼叶片、罩内表面等吸附而堆积的堆积物剥离而分解的自由基(例如，参照专利文献2)。
[0007]专利文献2中已知的技术为，在真空泵的吸气口的附近设置自由基供给部，从自由基供给部的喷嘴向内侧中心喷出自由基来进行供给。
[0008]专利文献1：日本特开2019
‑
82120公报。
[0009]专利文献2：日本特开2008
‑
248825号公报。
[0010]专利文献2中记载的专利技术采用将来自自由基供给部的自由基从在吸气口的附近设置的喷嘴向内侧中心喷出来供给的结构。并且，被从自由基供给部供给的自由基在罩内与工艺气体一同流向排气口侧，中途将在定子翼叶片、罩内表面等吸附的堆积物分解，与工艺气体一同从排气口排出。这样的自由基对原料气体施加大的能量，是将分子结合强制拉开的不稳定的物质，所以在比较短的时间内再结合而失去活性。因此，即使从真空泵的吸气口供给，由于自由基彼此的碰撞、与定子翼叶片、罩的碰撞等，在到达真空泵的排气口附近前再结合而失去活性。
[0011]另一方面，工艺气体主要在真空泵的排气口附近堆积，所以有即使将自由基向吸气口附近供给也不能有效地清洁的问题。
[0012]此外，在真空泵的吸气口附近设置自由基供给部的情况下，从自由基供给部的喷
嘴向内侧中心喷出自由基来供给的结构中，不能使自由基在工艺气体穿过的通路整体均匀地流动。即，在距喷嘴流出口近的位置自由基被充分供给，所以能够有效地清洁，但在从喷嘴流出口离开的部位自由基的供给少，无法清洁。因此，即使借助集合管等将自由基沿圆周方向引导，也会在集合管内再结合，有洗涤能力减少的问题。因此，为了清洁真空泵整体，需要将自由基供给部的喷嘴沿圆周方向并列设置多个，也有花费成本的问题。

技术实现思路

[0013]因此，产生为了提供能够将堆积物借助自由基分解来有效地排出的真空泵而应解决的技术问题，本专利技术以解决该问题为目的。
[0014]本专利技术是为了达成上述目的而被提出的，技术方案1中记载的专利技术提供一种真空泵，前述真空泵具备罩、定子、转子，前述定子配设于前述罩的内侧，前述转子具有被相对于前述定子旋转自如地支承的轴，并且与前述轴一同被能够旋转地内置于前述罩，前述转子为圆筒状，前述真空泵的特征在于，在前述罩内配设有至少一对生成自由基的电极。
[0015]根据该结构，在罩内设置有产生自由基的自由基发生装置的至少一对电极。一对电极在罩内生成将在罩内部堆积的堆积物分解的自由基。并且，在罩内生成的自由基在罩内与堆积物接触时，堆积物的表面的分子链被切断，堆积物分解成低分子量的气体。此外，分解成低分子量的气体被移送至真空泵的排气口，被从真空泵的排气口向外部有效地排出。
[0016]此外，将自由基发生装置的至少一对电极在罩内在容易产生工艺气体的堆积物的部位设置，由此，能够将堆积物有效地分解来向外部有效地排出。
[0017]技术方案2中记载的专利技术提供一种真空泵，其在技术方案1中记载的结构中，还具备对前述电极施加高频电压的电源。
[0018]根据该结构，在罩内的工艺气体穿过的通路中配置至少一对电极，若从电源对该电极间施加高频电压，则能够在罩内的工艺气体穿过的通路中有效地生成自由基。另外，电源也能够配置于罩的外侧或内侧的任一侧。
[0019]技术方案3中记载的专利技术提供一种真空泵，其在技术方案1或2中记载的结构中，前述电极构成为，将形成为圆筒状的板材与前述轴的轴中心同心地大致等间隔地配设多个。
[0020]根据该结构，若将自由基发生装置的生成自由基的电极的板材设为圆筒状，并且例如改变直径地形成多个，将设为该圆筒状的多个板材与轴的轴中心同心地大致等间隔配设，且以将罩内的工艺气体穿过的通路整体横切的方式配置，则自由基发生装置的电极能够在罩内的工艺气体穿过的通路整体大致均等地配置。由此，在罩内的工艺气体穿过的通路整体大致均等地生成自由基，与在罩内堆积的堆积物整体接触，能够有效地进行清洁。此外，将自由基发生装置的多个电极设为圆筒状，以将罩内的工艺气体穿过的通路整体横切的方式配置，由此，能够使罩内的自由基发生装置所占的空间少且紧凑，所以能够使真空泵小型化。
[0021]技术方案4中记载的专利技术提供一种真空泵，其在技术方案1至3中任一项记载的结构中，具备涡轮分子泵部，前述涡轮分子泵部构成为，设置从前述转子的外周部突出的多个旋转翼叶片，并且设置定子翼叶片，前述定子翼叶片相对于前述旋转翼叶片在轴向上离开，从前述罩的内周部突出，配置成面对前述旋转翼叶片。
[0022]根据该结构，在具备涡轮分子部的真空泵中，得到能够将在罩内产生的工艺气体的堆积物有效地分解来排出的构造。
[0023]技术方案5中记载的专利技术提供一种真空泵，其在技术方案1至4中任一项记载的结构中，还具备螺纹槽泵部，前述螺纹槽泵部构成为，在前述转子的外周部和前述定子的内周部的至少某一方设置螺旋状或漩涡状的螺纹槽。
[0024]根据该结构，在具备螺纹槽泵部、或者具备螺纹槽泵部和涡轮分子部的两方的真空泵中，得到能够将在罩内产生的工艺气体的堆积物有效地分解来排出的构造。
[0025]技术方案6中记载的专利技术提供一种真空泵，其在技术方案1至3中任一项记载的结构中，具备涡轮分子泵部和螺纹槽泵部，前述涡轮分子泵部构成为，设置从前述转子的外周部突出的多个旋转翼叶片，并且设置定子翼叶片，前述定子翼叶片相对于前述旋转翼叶片在轴向上离开，从前述罩的内周部突出，配置成面对前述旋转翼叶片，前述螺纹槽泵部构成为，在前述转子的外周部和前述定子的内周部的至少某一方设置螺旋状或漩涡状本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种真空泵，前述真空泵具备罩、定子、转子，前述定子配设于前述罩的内侧，前述转子具有被相对于前述定子旋转自如地支承的轴，并且与前述轴一同被能够旋转地内置于前述罩，前述转子为圆筒状，前述真空泵的特征在于，在前述罩内配设有至少一对生成自由基的电极。2.如权利要求1所述的真空泵，其特征在于，还具备对前述电极施加高频电压的电源。3.如权利要求1或2所述的真空泵，其特征在于，前述电极构成为，将形成为圆筒状的板材与前述轴的轴中心同心地大致等间隔地配设多个。4.如权利要求1至3中任一项所述的真空泵，其特征在于，具备涡轮分子泵部，前述涡轮分子泵部构成为，设置从前述转子的外周部突出的多个旋转翼叶片，并且设置定子翼叶片，前述定子翼叶片相对于前述旋转翼叶片在轴向上离开，从前述罩的内周部突出，配置成面对前述旋转翼叶片。5.如权利要求1至4中任一项所述的真空泵，其特征在于，还具备螺纹槽泵部，前述螺纹槽泵部构成为，在前述转子的外周部和前述定子的内周部的至少某一方设置螺旋状或漩涡状的螺纹槽。6.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：桦泽刚志，
申请(专利权)人：埃地沃兹日本有限公司，
类型：发明
国别省市：