显示基板中膜层厚度的测量方法技术

本申请实施例提供一种显示基板中膜层厚度的测量方法。涉及显示技术领域，用于解决因显示基板中的第一膜层和第二膜层的膜层特性相近而导致检测结果存在偏差的技术问题。显示基板中膜层厚度的测量方法，显示基板包括层叠设置的第一膜层和第二膜层，测量方法包括：提供第一基片，在第一基片表面形成直接与第一基片接触的第一膜层；检测并获取第一膜层的第一厚度；提供第二基片，在第二基片表面形成直接与第二基片接触的第二膜层；检测并获取第二膜层的第二厚度。层的第二厚度。层的第二厚度。

【技术实现步骤摘要】
显示基板中膜层厚度的测量方法


[0001]本申请涉及显示
，尤其涉及一种显示基板中膜层厚度的测量方法。

技术介绍

[0002]有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示面板是一种利用有机电致发光材料的自发光原理实现显示的显示器件。相对于液晶显示器件，有机发光二极管显示面板具有自发光、响应速度快、低压驱动、亮度高、轻薄等诸多优点，因而逐渐成为显示领域的主流。
[0003]显示基板包括衬底、设于衬底上的遮光层、设于衬底基板上且覆盖遮光层的缓冲层、设于缓冲层上且对应于遮光层上方的有源层、设于有源层上的栅极绝缘层、设于栅极绝缘层上的栅极层、设于缓冲层上且覆盖栅极层与有源层的层间绝缘层以及设于层间绝缘层上的源漏极金属层。在显示基板制程中，需要监控相应膜层的厚度，以保证膜层的厚度满足设计要求。然而，现有的测量方法对实际生产过程中的显示基板进行膜层厚度测量。现有的测量方法对显示基板中相邻两个膜层特性相近的膜层进行厚度测量时，由于两个膜层难以区分，存在两个膜层的厚度测量值出现较大误差的情况，导致测量值不能准确反应各个膜层的真实厚度值，从而导致实际生产的显示基板存在缺陷。

技术实现思路

[0004]鉴于上述问题，本申请实施例提供一种显示基板中膜层厚度的测量方法，可以有效降低因第一膜层和第二膜层的膜层特性相近而导致检测结果存在偏差的可能性。
[0005]为了实现上述目的，本申请实施例提供如下技术方案：
[0006]本申请实施例的提供一种显示基板中膜层厚度的测量方法，显示基板包括层叠设置第一膜层和第二膜层，测量方法包括：
[0007]提供第一基片，在第一基片表面形成直接与第一基片接触的第一膜层；
[0008]检测并获取第一膜层的第一厚度；
[0009]提供第二基片，在第二基片表面形成直接与第二基片接触的第二膜层；
[0010]检测并获取第二膜层的第二厚度。
[0011]本申请实施例的测量方法，通过在第一基片表面形成第一膜层，而在第二基片表面形成第二膜层，并对第一膜层和第二膜层各自的厚度进行单独检测，从而一方面，在第一膜层和第二膜层中的一者进行厚度检测的过程中，第一膜层和第二膜层中的一者不会受到另一者的影响，可以有效降低因第一膜层和第二膜层的膜层特性相近而导致检测结果存在偏差的可能性；另一方面，使用第一基片或第二基片作为载体，不需要使用实际生产的显示基板对第一膜层或第二膜层的厚度进行检测，减少实际生产的显示基板的损耗和浪费；再一方面，分别对第一膜层和第二膜层进行检测，可以获取第一膜层和第二膜层各自的厚度，保证检测结果更加准确，具有更高的可信度。
[0012]在一种可能的实现方式中，检测并获取第一膜层的第一厚度的步骤包括：
[0013]在第一膜层上设置多个第一检测位，分别测量第一检测位所对应的第一膜层的厚度；
[0014]计算得到第一厚度，第一检测位所对应的第一膜层的厚度的平均值即为第一厚度。
[0015]在一种可能的实现方式中，第一基片包括玻璃片；或者，第一基片包括依次层叠设置的第一衬底、第一栅极绝缘层和第一电容绝缘层，第一膜层设置于第一电容绝缘层背离第一栅极绝缘层的一侧。
[0016]在一种可能的实现方式中，检测并获取第二膜层的第二厚度步骤包括：
[0017]在第二膜层上设置多个第二检测位，分别测量第二检测位所对应的第二膜层的厚度；
[0018]计算得到第二厚度，第二检测位所对应的第二膜层的厚度的平均值即为第二厚度。
[0019]在一种可能的实现方式中，第二基片包括玻璃片；或者，第二基片包括依次层叠设置的第二衬底、第二栅极绝缘层和第二电容绝缘层，第二膜层设置于第二电容绝缘层背离第二栅极绝缘层的一侧。
[0020]在一种可能的实现方式中，检测并获取第二膜层的第二厚度步骤之后还包括步骤：
[0021]展示第一厚度、第二厚度与预设厚度的对应关系，预设厚度为第一膜层和第二膜层的预先设置的厚度总和。
[0022]在一种可能的实现方式中，第一膜层和第二膜层均为无机膜层。
[0023]在一种可能的实现方式中，第一膜层的折射率与第二膜层的折射率差值小于0.5。
[0024]在一种可能的实现方式中，第一膜层的折射率大于第二膜层的折射率。
[0025]在一种可能的实现方式中，显示基板包括有源层，第一膜层和第二膜层层叠形成有源层。
[0026]在一种可能的实现方式中，第一膜层的材料为非晶硅，第二膜层的材料为多晶硅；或者，第一膜层的材料为多晶硅，第二膜层的材料为氧化物半导体层材料。
[0027]在一种可能的实现方式中，显示基板包括层间绝缘层，第一膜层和第二膜层层叠形成层间绝缘层；
[0028]在一种可能的实现方式中，第一膜层上设置第二膜层，第一膜层的材料包括氮氧化硅，第二膜层的材料包括氧化硅。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0030]图1为本申请一实施例的显示基板中膜层厚度的测量方法流程示意图；
[0031]图2为本申请实施例的第一基片和第一膜层的结构示意图；
[0032]图3为本申请实施例的第二基片和第二膜层的结构示意图；
[0033]图4为本申请一实施例的显示基板中膜层厚度的测量方法流程示意图；
[0034]图5为本申请实施例的厚度检测设备测量过程示意图；
[0035]图6为本申请一实施例的显示基板的结构示意图。
[0036]附图标记说明：
[0037]10、第一基片；
[0038]20、第一膜层；
[0039]30、第二基片；
[0040]40、第二膜层；
[0041]50、厚度检测设备；51、光发射部件；52、光接收部件；
[0042]100、显示基板；
[0043]110、衬底；
[0044]120、遮光层；
[0045]130、缓冲层；
[0046]140、有源层；141、第一有源层；142、第二有源层；
[0047]150、栅极绝缘层；
[0048]160、栅极层；
[0049]170、层级绝缘层；171、第一层结构；172、第二层结构；
[0050]180、源极；
[0051]190、漏极；
[0052]200、电容绝缘层；
[0053]300、电极；
[0054]aa、第一检测位；
[0055]bb、第二检测位。
具体实施方式
[0056]在显示基板的实际制程中，需要定期对显示基板中的相应膜层进行厚度监控，并且计算分析相应膜层的实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板中膜层厚度的测量方法，所述显示基板包括层叠设置第一膜层和第二膜层，其特征在于，所述测量方法包括：提供第一基片，在所述第一基片表面形成直接与所述第一基片接触的所述第一膜层；检测并获取所述第一膜层的第一厚度；提供第二基片，在所述第二基片表面形成直接与所述第二基片接触的所述第二膜层；检测并获取所述第二膜层的第二厚度。2.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述检测并获取所述第一膜层的第一厚度的步骤包括：在所述第一膜层上设置多个第一检测位，分别测量所述第一检测位所对应的所述第一膜层的厚度；计算得到所述第一厚度，所述第一检测位所对应的所述第一膜层的厚度的平均值即为所述第一厚度。3.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述第一基片包括玻璃片；或者，所述第一基片包括依次层叠设置的第一衬底、第一栅极绝缘层和第一电容绝缘层，所述第一膜层设置于所述第一电容绝缘层背离所述第一栅极绝缘层的一侧。4.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述检测并获取所述第二膜层的第二厚度步骤包括：在所述第二膜层上设置多个第二检测位，分别测量所述第二检测位所对应的所述第二膜层的厚度；计算得到所述第二厚度，所述第二检测位所对应的所述第二膜层的厚度的平均值即为所述第二厚度。5.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述第二基片包括玻璃片；或...

【专利技术属性】
技术研发人员：何志飞，张水兵，褚红亮，张杨，彭兆基，
申请(专利权)人：维信诺科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：