一种载玻片样品染色处理微环境装置及使用方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种载玻片样品染色处理微环境装置及使用方法，包括用于玻片的放置的玻片架、其前端限制在支架本体的滑槽内，沿滑槽前后移动实现对玻片样品区域部分覆盖的盖板、扣紧模块及传动杆。本发明专利技术相较于传统的手工染色，效率更高，染色效果更好；相较于现有的自动化染色方案，通过对盖板结构进行改进，实现在提供自动化染色全流程微环境的同时，方便对染色过程进行监控，并缩小水平空间占用尺寸。并缩小水平空间占用尺寸。并缩小水平空间占用尺寸。

【技术实现步骤摘要】
一种载玻片样品染色处理微环境装置及使用方法


[0001]本专利技术属于免疫组化染色
，具体涉及一种载玻片样品染色处理微环境装置及使用方法。

技术介绍

[0002]对病理切片进行免疫组化染色时，试剂反应的微环境至关重要。尤其是在蛋白修复环节，微环境装置除了为切片样品提供试剂浸润环境外，还要防止高温条件下试剂挥发造成样品干片，致使蛋白修复效果不佳，进而影响最终病理切片染色质量。手工染色方法多是将切片样品浸没在试剂中并封闭的压力锅或者水浴锅内，实现蛋白修复后，配合滴加其他试剂以及清洗，最终实现染色，过程繁琐耗时，并且极易引入人为误操作或误差，影响染片质量。
[0003]现有自动化染色方案将切片样品放置在密闭的自动加液，温控的湿盒内，配合自动添加其他试剂以及清洗流程实现样品自动染色，但该方法因为遮挡无法实时监测染色过程。另外一种自动化染色方案采用在玻片上加特殊盖板，并按照水平小角度（一般小于5℃）拖动盖板，不同运动状态下为样品提供流程所需要的微环境，然而该方案存在水平方向占用空间较大的问题。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中存在的问题，本专利技术设计的目的在于提供一种载玻片样品染色处理微环境装置及使用方法，以提供自动化染色全流程微环境的同时，方便对染色过程进行监控，并缩小水平空间占用尺寸。
[0005]具体通过以下技术方案加以实现：一种载玻片样品染色处理微环境装置，包括：玻片架：用于玻片的放置，包括支架本体及设置在支架本体两侧的滑槽；盖板：其前端限制在支架本体的滑槽内，沿滑槽前后移动实现对玻片的样品区域部分覆盖，包括盖板本体、盖板把手及导向块，所述盖板把手及导向块分设在盖板本体的两端，且导向块与滑槽滑动连接；扣紧模块：与传动杆配合用于盖板把手的扣紧；扣紧模块并非全程扣紧，其可在竖直方向上位移，已实现对盖板把手的扣紧及松开；传动杆：由传动机构驱动，传动杆的上端设置有沟槽，该沟槽与扣紧模块配合，传动机构驱动传动杆向上或斜上方运动，进而带动盖板在玻片上滑动。
[0006]进一步地，支架本体靠近扣紧模块的一端设置有限位块，用于对盖板位移距离进行限位。确保盖板在支架本体合适的位置移动。
[0007]进一步地，支架本体靠近扣紧模块的一端还设置有定位孔，所述盖板本体上对应定位孔的位置处设置有定位块，支架本体的底板上靠近定位孔的一端还设置有漏液孔。
[0008]进一步地，盖板本体的下表面设置有垂直于盖板本体的挡板，所述挡板围成半封
闭矩形空间，该矩形空间与玻片外尺寸相吻合，便于为玻片样品提供染色流程下不同状态的微环境。
[0009]进一步地，所述盖板本体远离扣紧模块的一端的下表面分别设置有滑动圆弧区和顶板圆弧区，所述滑动圆弧区和顶板圆弧区之间存在高度差。更具体地，滑动圆弧区高于顶板圆弧区。
[0010]一种载玻片样品染色处理微环境装置的使用方法，包括以下步骤：1）盖板通过其上设置的导向块安装于支架本体内，传动杆（4）通过其上设置的沟槽及扣紧模块与盖板把手装配，完成载玻片样品染色微环境装置的组装；2）工作时，传动机构动作，带动传动杆向上方或斜上方运动进而带动盖板在玻片上滑动；3）工作状态一，盖板与玻片在交接区域形成夹角，由于试剂溶液的张力作用致使试剂在靠近顶板圆弧区位置聚集，并随着盖板在玻片上滑动，将试剂均匀涂抹在样品上或者对样品进行清洗；4）工作状态二，传动杆到达最高位置，盖板与玻片夹角达到最大值，顶板圆弧区拖带试剂至漏液孔位置，试剂通过漏液孔导流排出，实现试剂排废。
[0011]进一步地，当盖板水平盖在玻片上时，挡板的下边缘与玻片完全接触，挡板与玻片之间形成半封闭的矩形空间，为样品提供染色流程下不同状态的微环境。
[0012]进一步地，盖板把手装配在传动杆的沟槽及扣紧模块内，传动杆向上或者斜向上方向运动时，盖板把手在传动杆的沟槽及扣紧模块内存在相对转动，并带动盖板主体运动。
[0013]进一步地，当盖板在玻片上滑动过程中，盖板与玻片的夹角不断变化，并且接触点位置在滑动圆弧区区域内同步变动。
[0014]本专利技术相较于传统的手工染色，效率更高，染色效果更好；相较于现有的自动化染色方案，通过对盖板结构进行改进，实现在提供自动化染色全流程微环境的同时，方便对染色过程进行监控，并缩小水平空间占用尺寸。
附图说明
[0015]图1为本专利技术整体结构示意图；图2为玻片架俯视结构示意图；图3为盖板底部结果示意图；图中，1
‑
玻片架，101
‑
支架本体，102
‑
限位块，103
‑
定位孔，104
‑
漏液孔，2
‑
盖板，201
‑
盖板本体，202
‑
盖板把手，203
‑
导向块，204
‑
定位块，205
‑
挡板，206
‑
矩形空间，207
‑
滑动圆弧区，208
‑
顶板圆弧区，3
‑
扣紧模块，4
‑
传动杆，5
‑
玻片。
具体实施方式
[0016]以下结合说明书附图对本专利技术做进一步详细说明，以便更好地理解本技术方案。
[0017]如图1所示，本专利技术一种载玻片样品染色处理微环境装置，该微环境包括玻片架、盖板、扣紧模块及传动杆，其中，玻片架主要用于玻片的放置及盖板后端的安装，盖板用于对玻片进行全覆盖或部分覆盖，为玻片样品染色流程提供不同的微环境，扣紧模块与传动杆上端的沟槽配合，实现对盖板一端的扣紧及松开，传动杆由传动机构驱动，具体传动机构
可采用现有的皮带传动、链条传动等结构，传动机构驱动传动杆动作，进而带动盖板在玻片上滑动。
[0018]如图2所示，玻片架包括包括支架本体及设置在支架本体两侧的滑槽，支架本体靠近扣紧模块的一端分别设置有限位块和定位孔，定位块用于对盖板位移距离进行限位，定位孔用于再次对盖板进行限位，支架本体的底板上靠近定位孔的一端还设置有漏液孔。
[0019]如图3所示，盖板的前端限制在支架本体的滑槽内，沿滑槽前后移动实现对玻片的样品区域部分覆盖，包括盖板本体、盖板把手及导向块，盖板把手及导向块分设在盖板本体的两端，且导向块与滑槽滑动连接；盖板本体上对应定位孔的位置处设置有定位块， 定位块与定位孔配合使用，实现盖板的限位。
[0020]继续参阅图3，盖板本体的下表面设置有垂直于盖板本体的挡板，该挡板围成半封闭矩形空间，该矩形空间与玻片外尺寸相吻合，便于为玻片样品提供染色流程下不同状态的微环境。盖板本体远离扣紧模块的一端的下表面分别设置有滑动圆弧区和顶板圆弧区，滑动圆弧区和顶板圆弧区之间存在高度差。更具体地，滑动圆弧区高于顶板圆弧区。
[0021]本专利技术具体的使用方法：盖板放置在玻片架内的玻片上，导向块位于玻片架内，并且与其内壁接触，工作时扣紧模块把盖板把手压在传动杆的沟槽内，传动杆向上方或者本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种载玻片样品染色处理微环境装置，其特征在于，该微环境包括：玻片架（1）：用于玻片（5）的放置，包括支架本体（101）及设置在支架本体（101）两侧的滑槽；盖板（2）：其前端限制在支架本体（101）的滑槽内，沿滑槽前后移动实现对玻片（5）的样品区域部分覆盖，包括盖板本体（201）、盖板把手（202）及导向块（203），所述盖板把手（202）及导向块（203）分设在盖板本体（201）的两端，且导向块（203）与滑槽滑动连接；扣紧模块（3）：与传动杆（4）配合用于盖板把手（202）的扣紧；传动杆（4）：由传动机构驱动，传动杆（4）的上端设置有沟槽，该沟槽与扣紧模块（3）配合，传动机构驱动传动杆（4）动作，进而带动盖板（2）在玻片（5）上滑动。2.如权利要求1所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置，其特征在于所述支架本体（101）靠近扣紧模块（3）的一端设置有限位块（102），用于对盖板（2）位移距离进行限位。3.如权利要求1所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置，其特征在于所述支架本体（101）靠近扣紧模块（3）的一端还设置有定位孔（103），所述盖板本体（201）上对应定位孔（103）的位置处设置有定位块（204），支架本体（101）的底板上靠近定位孔（103）的一端还设置有漏液孔（104）。4.如权利要求1所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置，其特征在于所述盖板本体（201）的下表面设置有垂直于盖板本体（201）的挡板（205），所述挡板（205）围成半封闭矩形空间（206），该矩形空间（206）与玻片（5）外尺寸相吻合，便于为玻片样品提供染色流程下不同状态的微环境。5.如权利要求1所述的一种载玻片样品染色处理微环境装置，其特征在于所述盖板本体（201）远离扣紧模块（3）的一端的下表面分别设置有滑动圆弧区（207）和顶板圆弧区（208），所述滑动圆弧区...

【专利技术属性】
技术研发人员：华道柱，兰敬隆，方奕彪，徐文潭，张立琛，吴逸，吉海泉，
申请(专利权)人：谱视科技杭州有限公司，
类型：发明
国别省市：