一种蒸镀设备及其应用方法技术

本申请实施例公开了一种蒸镀设备及其应用方法，蒸镀设备包括蒸镀腔，其内部设有蒸镀基台和蒸镀源；所述蒸镀基台用以固定待蒸镀基板；所述蒸镀源包括至少两个蒸镀单元，所述蒸镀单元包括喷嘴，所述蒸镀单元通过所述喷嘴在蒸镀过程中在所述待蒸镀基板的表面形成镀层；其中，在所述蒸镀过程中，至少一个蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离大于其他蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离。本申请实施例的有益效果在于，本申请实施例的蒸镀设备及其应用方法通过在蒸镀时移动掺杂材料的蒸镀源，使其以固定速率逐渐远离待蒸镀基板，从而实现对待蒸镀基板上蒸镀膜层的渐变掺杂，能够精确控制膜层的厚度以及掺杂比，有利于提升膜层的良率以及使用寿命。寿命。寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀设备及其应用方法


[0001]本申请涉及蒸镀领域，具体涉及一种蒸镀设备及其应用方法。

技术介绍

[0002]对于WOLED器件中CGL(电荷发生层)层的膜厚很难控制，从电路仿真和实际测试结果看，加入CGL中主体材料和客体材料能够做到渐变参杂，其器件效率和寿命会有大幅提高，但目前的工艺设备很难做到高效稳定的渐变参杂工艺。
[0003]同样的在忆阻器件中，其也涉及到需要将参杂电阻部分进行渐变参杂，以到达较好的开关曲线特性和寿命特性，目前其制备工艺依靠高参杂比到低参杂比的多层反复制备的方式实现，虽然是有一定的改善效果，但是存在效率太低，厚度难以控制，参杂比难以控制等问题。

技术实现思路

[0004]本申请实施例提供一种蒸镀设备及其应用方法，可以解决现有技术中蒸镀设备无法做到渐变掺杂的技术问题。
[0005]本申请实施例提供一种蒸镀设备，包括蒸镀腔，其内部设有蒸镀基台和蒸镀源；所述蒸镀基台用以固定待蒸镀基板；所述蒸镀源包括至少两个蒸镀单元，所述蒸镀单元包括喷嘴，所述蒸镀单元通过所述喷嘴在蒸镀过程中在所述待蒸镀基板的表面形成镀层；其中，在所述蒸镀过程中，至少一个蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离大于其他蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离。
[0006]可选的，在本申请的一些实施例中，蒸镀设备还包括移动组件，所述移动组件用以控制至少一蒸镀单元朝远离所述蒸镀基台的方向平移。
[0007]可选的，在本申请的一些实施例中，蒸镀设备还包括防着板，所述防着板与所述喷嘴平齐。
[0008]可选的，在本申请的一些实施例中，所述蒸镀源包括第一蒸镀单元和第二蒸镀单元，其中，第一蒸镀单元内设有主体材料，所述第二蒸镀单元内设有掺杂材料，所述第二蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离大于所述第一蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离。
[0009]可选的，在本申请的一些实施例中，所述蒸镀源还包括蒸镀平台，所述蒸镀单元设于所述蒸镀平台的一侧表面上。
[0010]可选的，在本申请的一些实施例中，至少两个蒸镀单元的所述喷嘴之间具有一高度差。
[0011]可选的，在本申请的一些实施例中，至少一个蒸镀单元的所述喷嘴的所在平面与所述蒸镀平台相交。
[0012]相应的，本申请实施例还提供了一种蒸镀设备的应用方法，包括以下步骤：
[0013]提供一蒸镀设备，所述蒸镀设备包括蒸镀腔，所述蒸镀腔内设有蒸镀基台和蒸镀源；
[0014]将一待蒸镀基板固定于所述蒸镀基台上；
[0015]通过所述蒸镀源在所述待蒸镀基板的表面蒸镀形成膜层，所述蒸镀源包括至少两个蒸镀单元，所述蒸镀单元内部设有蒸镀材料，所述蒸镀单元包括喷嘴；
[0016]其中，至少两个蒸镀单元内部的蒸镀材料不同，且至少一个蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离大于其他蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离。
[0017]可选的，在本申请的一些实施例中，在所述通过所述蒸镀源在所述待蒸镀基板的表面蒸镀形成膜层的步骤中，
[0018]至少一个蒸镀单元以一预设速度朝远离所述蒸镀基台的方向平移。
[0019]可选的，在本申请的一些实施例中，在所述通过所述蒸镀源在所述待蒸镀基板的表面蒸镀形成膜层的步骤中，
[0020]所述蒸镀源包括点状结构的蒸镀单元和线性结构的蒸镀单元，其中，所述蒸镀源设于一蒸镀平台上，所述点状结构的蒸镀单元的开口面和所述线性结构的蒸镀单元的开口面之间具有一高度差；
[0021]所述蒸镀平台从所述蒸镀基台的一端线性移动到所述蒸镀基台的另一端。
[0022]本申请实施例的有益效果在于，本申请实施例的蒸镀设备及其应用方法通过在蒸镀时移动掺杂材料的蒸镀源，使其以固定速率逐渐远离待蒸镀基板，从而实现对待蒸镀基板上蒸镀膜层的渐变掺杂，能够精确控制膜层的厚度以及掺杂比，有利于提升膜层的良率以及使用寿命；采用具有台阶安装面的蒸镀平台安装蒸镀源，从而使得掺杂材料的蒸镀源低于主体材料的蒸镀源，通过蒸镀源线性移动使得蒸镀源上方的蒸镀气体附着在待蒸镀基板上形成掺杂膜层，掺杂材料的蒸镀源采用线性蒸镀源、主体材料的蒸镀源采用点状蒸镀源，点状蒸镀源的T/S(蒸镀源到待蒸镀基板之间的距离)比线性蒸镀源的T/S大，可以保证较大范围内蒸镀膜层的均一性。
附图说明
[0023]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0024]图1是本申请实施例1提供的蒸镀设备的结构示意图；
[0025]图2是本申请实施例1提供的移动蒸镀单元时的平面图；
[0026]图3是本申请实施例2提供的蒸镀设备的结构示意图；
[0027]图4是本申请实施例2提供的蒸镀源的结构示意图；
[0028]图5是本申请实施例2提供的掺杂比和膜层厚度的坐标关系图。
[0029]附图标记说明：
[0030]蒸镀设备1、1a；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
蒸镀腔100、100a；
[0031]蒸镀基台200、200a；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
蒸镀源300、300a；
[0032]移动组件400；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
驱动组件500；
[0033]第一蒸镀单元310、310a；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第二蒸镀单元320、320a；
[0034]防着板600；
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
蒸镀平台330；
[0035]遮挡罩340。
具体实施方式
[0036]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
[0037]本申请实施例提供一种蒸镀设备及其应用方法。以下进行详细说明。
[0038]实施例1
[0039]本实施例主要用于解释本专利技术的蒸镀设备以及蒸镀设备的应用方法，本实施例的蒸镀设备1为旋转蒸镀设备，主要用于蒸镀小尺寸的膜层，具体的，如图1所示，所述蒸镀设备包括蒸镀腔100、蒸镀基台200、蒸镀源300、移动组件400以及驱动组件500。
[0040]蒸镀腔100为真空腔体，在所述蒸镀设备工作时，蒸镀腔100完全封闭且内部真空，避免蒸镀时气体在待蒸镀基板1上形成气泡，影响蒸镀成膜的效果，提升所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括蒸镀腔，其内部设有蒸镀基台和蒸镀源；所述蒸镀基台用以固定待蒸镀基板；所述蒸镀源包括至少两个蒸镀单元，所述蒸镀单元包括喷嘴，所述蒸镀单元通过所述喷嘴在蒸镀过程中在所述待蒸镀基板的表面形成镀层；其中，在所述蒸镀过程中，至少一个蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离大于其他蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离。2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，还包括移动组件，所述移动组件用以控制至少一蒸镀单元朝远离所述蒸镀基台的方向平移。3.根据权利要求2述的蒸镀设备，其特征在于，还包括防着板，所述防着板与所述喷嘴平齐。4.根据权利要求2述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀源包括第一蒸镀单元和第二蒸镀单元，其中，第一蒸镀单元内设有主体材料，所述第二蒸镀单元内设有掺杂材料，所述第二蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离大于所述第一蒸镀单元与所述蒸镀基台的距离。5.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀源还包括蒸镀平台，所述蒸镀单元设于所述蒸镀平台的一侧表面上。6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，至少两个蒸镀单元的所述喷嘴之间具有一高度差。7.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，至...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾苏伟，曾辉，孙凌霄，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：