定位机构及检测设备制造技术

本申请提供了一种定位机构及检测设备，该定位机构包括转盘，用于支撑产品；驱动组件，与转盘连接；定位座，与转盘间隔设置；静电发生器，安装于定位座上并设于转盘的下方；吸嘴座，安装于定位座上并设于转盘的上方；真空发生器，安装于定位座上并与吸嘴座连接。本申请通过转盘可实现对产品的支撑，驱动组件驱动转盘转动的同时，产品和转盘可实现同步匀速转动。位于转盘下方的静电发生器可通过静电吸附产品，位于转盘上方的吸嘴座在真空发生器的作用下可吸附并校正产品。因此，本申请通过静电发生器和吸嘴座的双重吸附，以及吸嘴座对产品的校正，产品的校正定位效果好，有效提高检测设备对产品的检测效果。备对产品的检测效果。备对产品的检测效果。

【技术实现步骤摘要】
定位机构及检测设备


[0001]本申请属于检测
，更具体地说，是涉及一种定位机构及使用该定位机构的检测设备。

技术介绍

[0002]在对产品进行检测之前，需要通过定位机构对产品进行校正定位，以提高产品的位置精度，从而提高检测机构对产品的检测效果。目前对于产品的定位通常是在转盘上环型阵列开设多个负压通道，通过各负压通道内的负压实现对产品的吸附固定。然而，通过负压通道对产品的校正定位效果差，以致检测设备对产品的检测效果差。

技术实现思路

[0003]本申请实施例的目的在于提供一种定位机构及检测设备，以解决相关技术中存在的：通过负压通道对产品的校正定位效果差，以致检测设备对产品的检测效果差的问题。
[0004]为实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案是：
[0005]一方面，提供一种定位机构，包括：
[0006]转盘，用于支撑产品；
[0007]驱动组件，与所述转盘连接，用于驱动所述转盘转动；
[0008]定位座，与所述转盘间隔设置；
[0009]静电发生器，安装于定位座上并设于所述转盘的下方，用于静电吸附所述产品；
[0010]吸嘴座，安装于所述定位座上并设于所述转盘的上方，用于吸附并校正所述产品；
[0011]真空发生器，安装于所述定位座上并与所述吸嘴座连接。
[0012]在一个实施例中，所述定位机构还包括连接所述吸嘴座与所述真空发生器的导管；所述吸嘴座上开设有负压通道，所述导管的一端与所述负压通道的抽气端连通，所述导管的另一端与所述真空发生器连接。
[0013]此结构，真空发生器产生的负压可通过导管作用于负压通道，负压通道的吸气端可将产品吸附并校正。
[0014]在一个实施例中，所述定位机构还包括安装于所述导管上的过滤器。
[0015]此结构，通过过滤器可将导管中的杂质吸附，避免杂质进入真空发生器中而造成损伤。
[0016]在一个实施例中，所述吸嘴座具有与所述产品抵接的抵接面，所述抵接面倾斜于所述转盘所在的平面。
[0017]此结构，通过抵接面与产品的抵接，可对产品的平整度进行调节。
[0018]在一个实施例中，所述负压通道的吸气端设于所述吸嘴座面向所述转盘的侧面上，所述吸嘴座与所述转盘间隔形成与所述负压通道连通的吸附通道。
[0019]此结构，负压通道形成负压并作用于吸附通道时，由于吸附通道与产品的接触面积大，从而可提高对产品的定位校正效果。
[0020]在一个实施例中，所述吸嘴座面向所述转盘的侧面上开设有凹槽，所述负压通道的吸气端伸入所述凹槽中。
[0021]此结构，通过凹槽可将气流汇集后由负压通道及导管吸入真空发生器中，负压吸附效果好。
[0022]在一个实施例中，所述吸嘴座上开设有第一安装孔，所述第一安装孔中安装有锁紧件；所述定位座对应于所述第一安装孔的位置开设有第二安装孔，所述锁紧件穿过所述第一安装孔并锁紧于所述第二安装孔中。
[0023]此结构，通过锁紧件分别与第一安装孔和第二安装孔的配合，可实现吸嘴座与定位座的可拆卸连接。
[0024]在一个实施例中，所述定位座包括分别支撑所述静电发生器和所述吸嘴座的支撑座、用于调节所述支撑座的位置的方位调节组件和支撑所述方位调节组件的底座，所述方位调节组件与所述支撑座连接，所述真空发生器安装于所述底座上。
[0025]此结构，通过方位调节组件对支撑座的位置进行调节，从而可调节静电发生器和吸嘴座的位置，以适应于不同产品的定位需求。
[0026]在一个实施例中，所述方位调节组件包括用于驱动所述支撑座横向移动的横移单元和用于驱动所述支撑座纵向移动的纵移单元，所述纵移单元安装于所述底座上，所述横移单元安装于所述纵移单元上，所述支撑座安装于所述横移单元上。
[0027]此结构，通过横移单元和纵移单元，可对静电发生器和吸嘴座在XY面上的位置进行调节。
[0028]另一方面，提供一种检测设备，包括上述的定位机构。
[0029]本申请上述实施例提供的定位机构及检测设备至少具有以下有益效果：通过转盘可实现对产品的支撑，驱动组件驱动转盘转动的同时，产品和转盘可实现同步匀速转动。位于转盘下方的静电发生器可通过静电吸附产品，位于转盘上方的吸嘴座在真空发生器的作用下可吸附并校正产品。因此，本申请通过静电发生器和吸嘴座的双重吸附，以及吸嘴座对产品的校正，产品的校正定位效果好，有效提高检测设备对产品的检测效果。
附图说明
[0030]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或示范性技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0031]图1为本申请实施例提供的定位机构的立体结构示意图；
[0032]图2为本申请实施例提供的定位机构去掉转盘和驱动组件后的立体结构示意图一；
[0033]图3为本申请实施例提供的定位机构去掉转盘和驱动组件后的立体结构示意图二；
[0034]图4为本申请实施例提供的吸嘴座的立体结构示意图；
[0035]图5为图2中A处的放大示意图；
[0036]图6为图3中B处的放大示意图。
[0037]其中，图中各附图主要标记：
[0038]1、转盘；2、驱动组件；3、静电发生器；4、真空发生器；5、底板；
[0039]6、定位座；61、负压表；62、节流阀；63、导管；64、过滤器；65、支撑座；66、方位调节组件；661、横移单元；6611、横移座；6612、横移调节螺杆；6613、横移滑动座；6614、横移限位模组；6615、横移限位板；66150、横移限位孔；6616、横移限位杆；662、纵移单元；6621、纵移座；6622、纵移调节螺杆；6623、纵移滑动座；6624、纵移限位模组；6625、纵移限位板；66250、纵移限位孔；6626、纵移限位杆；67、底座；
[0040]7、吸嘴座；70、负压通道；71、抵接面；72、凹槽；73、第一安装孔；74、锁紧件。
具体实施方式
[0041]为了使本申请所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
[0042]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
[0043]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.定位机构，其特征在于，包括：转盘，用于支撑产品；驱动组件，与所述转盘连接，用于驱动所述转盘转动；定位座，与所述转盘间隔设置；静电发生器，安装于定位座上并设于所述转盘的下方，用于静电吸附所述产品；吸嘴座，安装于所述定位座上并设于所述转盘的上方，用于吸附并校正所述产品；真空发生器，安装于所述定位座上并与所述吸嘴座连接。2.如权利要求1所述的定位机构，其特征在于：所述定位机构还包括连接所述吸嘴座与所述真空发生器的导管；所述吸嘴座上开设有负压通道，所述导管的一端与所述负压通道的抽气端连通，所述导管的另一端与所述真空发生器连接。3.如权利要求2所述的定位机构，其特征在于：所述定位机构还包括安装于所述导管上的过滤器。4.如权利要求1所述的定位机构，其特征在于：所述吸嘴座具有与所述产品抵接的抵接面，所述抵接面倾斜于所述转盘所在的平面。5.如权利要求2所述的定位机构，其特征在于：所述负压通道的吸气端设于所述吸嘴座面向所述转盘的侧面上，所述吸嘴座与所述转盘间隔形成与所述负压通道连通的吸附通道。6.如权利要求5所述的定位机构，其特征在于：所述吸...

【专利技术属性】
技术研发人员：段雄斌，陈泽江，周英才，何选民，
申请(专利权)人：深圳市标谱半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：