防眩光玻璃的加工设备及加工其的方法技术

本发明专利技术提供了一种防眩光玻璃的加工设备及加工其的方法，加工设备包括控制器、工艺室、转台、转架、等离子产生装置、偏压装置以及真空装置；工艺室的侧壁外设置有安装法兰，安装法兰设置有贯通侧壁的安装孔；等离子产生装置包括相互连接的射频源和离子源本体，射频源安装于安装法兰，离子源本体穿过安装孔伸入工艺室内，其气源出口朝向所述转架，可连通清洗气源或者蚀刻气源，清洗气源包括第一惰性气体源，蚀刻气源包括第二惰性气体源和含氟气体源。本发明专利技术能够高效率、无污染地完成大面积玻璃基板的表面防眩光处理使玻璃基板在保留防眩晕功能的同时具有更清晰的视觉效果和更加细腻的触摸手感。触摸手感。触摸手感。

【技术实现步骤摘要】
防眩光玻璃的加工设备及加工其的方法


[0001]本专利技术涉及玻璃加工
，具体涉及一种防眩光玻璃的加工设备及加工其的方法。

技术介绍

[0002]在电子设备如画板、电子白板、电子黑板等的显示屏幕上，若有较强的反射光，会对用户造成干扰，导致用户无法看清屏幕，因此，常常在这些电子设备的显示屏上覆盖防眩光玻璃制作的玻璃盖板。防眩光玻璃，也叫AG(Anti
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glare glass)玻璃，其原理是通过对玻璃表面进行粗化处理使平整的玻璃反光表面变为凹凸不平的粗表面，呈现出来的效果就是将玻璃表面镜面转换为哑光的表面，使照射到屏幕的光线发生漫反射，降低反射光强度，从而实现防眩光效果，保护眼睛，清晰视物。
[0003]防眩光玻璃可以通过喷涂或者喷砂方式实现，喷涂方式即在洁净环境中将亚微米级二氧化硅等微粒均匀涂布在玻璃表面，再经过加热固化处理，在玻璃表面形成一层颗粒层，对光线产生漫反射而达到防眩光效果；喷砂方式是利用压缩空气为动力，将金刚砂等砂材高速喷射到玻璃表面使其产生粗面的AG效果。
[0004]上述两种方式形成的AG玻璃的表面凹凸不均匀，表面粗糙度不均匀，玻璃的解析度下降，只能造成雾面效果，光学透过率及粗糙度的均匀性较差，且涂层存在牢固度和耐候性等的问题，因此只能应用于装饰上，在应用于一些分辨率较高的显示屏使用时，比如4K或8K的显示屏，还会产生闪点现象，严重影响屏幕的视觉效果。虽然也有一些厂家提出了采用化学蚀刻的方法形成AG玻璃，即利用化学反应方式将玻璃表面由光滑面变成微米级颗粒表面，玻璃基材在化学溶剂中通过化学反应、溶解、再结晶和离子置换等多种反应共同作用产生AG粗面效果，但是，这种工艺需要氢氟酸、盐酸、硫酸等化学物质，在生产过程中，也会产生酸性气体、酸性液体、酸性固体等有害物质，生产产生的含氟气体对人体有非常大的危害，严重环境污染。

技术实现思路

[0005]基于上述现状，本专利技术的主要目的在于提供一种防眩光玻璃的加工设备及加工其的方法，以解决现有加工设备制造的防眩光表面的颗粒均匀性差，产生闪点的问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：
[0007]本专利技术的第一方面提供了一种防眩光玻璃的加工设备，包括控制器、具有门阀的工艺室、设置于所述工艺室内的转台、能够安装于所述转台的转架、第一等离子产生装置、第二等离子产生装置、偏压装置以及用于对所述工艺室抽真空的真空装置，所述工艺室的侧壁外设置有安装法兰，所述安装法兰设置有贯通所述侧壁的安装孔；在所述工艺室的周向上，所述第一等离子产生装置和所述第二等离子产生装置分别位于所述真空装置与所述工艺室的连接部的两侧，二者均包括相互连接的射频源和离子源本体，所述射频源安装于所述安装法兰，所述离子源本体设置有气源入口和气源出口，所述离子源本体穿过所述安
装孔伸入所述工艺室内，且所述气源出口朝向所述转架；其中，所述第一等离子产生装置的气源入口为第一气源入口，所述第一气源入口连接清洗气源，所述清洗气源包括惰性气体源；所述第二等离子产生装置的气源入口为第二气源入口，所述第二气源入口连接蚀刻气源，所述蚀刻气源包括惰性气体源和含氟气体源；所述偏压装置的正极与所述工艺室的腔壁连接，负极与所述转架连接，以在所述等离子产生装置与所述转架之间形成偏压；
[0008]所述控制器能够控制所述转台转动以带动安装于所述转架的待加工玻璃基板转动；并能够控制所述第一等离子产生装置、所述第二等离子产生装置、所述偏压装置和所述真空装置工作，以及控制所述清洗气源和所述蚀刻气源先后连通所述第一气源入口、所述第二气源入口进行供气；
[0009]其中，当所述清洗气源供气时，所述控制器控制所述第一等离子产生装置工作且所述偏压装置关闭，以利用所述第一等离子产生装置对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子清洗；当所述蚀刻气源供气时，同时控制所述第二等离子产生装置和所述偏压装置工作，以对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子蚀刻，以形成防眩光表面。
[0010]优选地，所述控制器能够先控制所述第一等离子产生装置工作，待等离子清洗完成时，控制所述第一等离子产生装置关闭和所述清洗气源停止供气，间隔第一预设时间之后再控制蚀刻气源供气以及所述第二等离子产生装置、所述偏压装置工作。
[0011]优选地，所述真空装置的所述连接部与所述门阀相对设置，在所述连接部的两侧至所述门阀之间的工艺室侧壁上，分别沿所述工艺室的周向排布有多个所述第一等离子产生装置和多个所述第二等离子产生装置。
[0012]本专利技术的第二方面提供了一种防眩光玻璃的加工设备，包括控制器、具有门阀的工艺室、设置于所述工艺室内的转台、能够安装于所述转台的转架、等离子产生装置、偏压装置以及用于对所述工艺室抽真空的真空装置；所述工艺室的侧壁外设置有安装法兰，所述安装法兰设置有贯通所述侧壁的安装孔；所述等离子产生装置包括相互连接的射频源和离子源本体，所述射频源安装于所述安装法兰，所述离子源本体设置有气源入口和气源出口，所述离子源本体穿过所述安装孔伸入所述工艺室内，且所述气源出口朝向所述转架，所述气源入口可择一连通清洗气源和蚀刻气源，所述清洗气源包括惰性气体源，所述蚀刻气源包括惰性气体源和含氟气体源；所述偏压装置的正极与所述工艺室的腔壁连接，负极与所述转架连接，以在所述等离子产生装置与所述转架之间形成偏压；
[0013]所述控制器能够控制所述转台转动以带动安装于所述转架的待加工玻璃基板转动；并能够控制所述等离子产生装置、所述偏压装置和所述真空装置工作，以及控制所述清洗气源和所述蚀刻气源先后连通所述气源入口进行供气；
[0014]其中，当所述清洗气源供气时，所述控制器控制所述等离子产生装置工作且所述偏压装置关闭，以利用所述等离子产生装置对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子清洗；当所述蚀刻气源供气时，同时控制所述等离子产生装置和所述偏压装置工作，以对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子蚀刻，以形成防眩光表面。
[0015]优选地，
[0016]所述控制器先控制所述清洗气源供气，并控制所述等离子产生装置工作，以对位
于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子清洗；等离子清洗完成时控制所述清洗气源停止供气，然后间隔第二预设时间之后控制所述蚀刻气源供气，同时控制所述等离子产生装置和偏压装置工作，以对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子蚀刻，从而形成防眩光表面。
[0017]优选地，所述工艺室的侧壁上沿其周向设置有多个所述等离子产生装置。
[0018]优选地，所述等离子产生装置为感性耦合等离子体产生装置。
[0019]优选地，控制器控制所述等离子产生装置工作时先控制所述清洗气源或者蚀刻气源供气，待所述气源出口的气流平稳后再控制所述射频源工作，以形成活性等离子体。
[0020]优选地，所述蚀刻气源的所述惰性气体源与所述含氟气体源所提供的气体含量配比为本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防眩光玻璃的加工设备，其特征在于，包括控制器、具有门阀的工艺室、设置于所述工艺室内的转台、能够安装于所述转台的转架、第一等离子产生装置、第二等离子产生装置、偏压装置以及用于对所述工艺室抽真空的真空装置，所述工艺室的侧壁外设置有安装法兰，所述安装法兰设置有贯通所述侧壁的安装孔；在所述工艺室的周向上，所述第一等离子产生装置和所述第二等离子产生装置分别位于所述真空装置与所述工艺室的连接部的两侧，二者均包括相互连接的射频源和离子源本体，所述射频源安装于所述安装法兰，所述离子源本体设置有气源入口和气源出口，所述离子源本体穿过所述安装孔伸入所述工艺室内，且所述气源出口朝向所述转架；其中，所述第一等离子产生装置的气源入口为第一气源入口，所述第一气源入口连接清洗气源，所述清洗气源包括惰性气体源；所述第二等离子产生装置的气源入口为第二气源入口，所述第二气源入口连接蚀刻气源，所述蚀刻气源包括惰性气体源和含氟气体源；所述偏压装置的正极与所述工艺室的腔壁连接，负极与所述转架连接，以在所述等离子产生装置与所述转架之间形成偏压；所述控制器能够控制所述转台转动以带动安装于所述转架的待加工玻璃基板转动；并能够控制所述第一等离子产生装置、所述第二等离子产生装置、所述偏压装置和所述真空装置工作，以及控制所述清洗气源和所述蚀刻气源先后连通所述第一气源入口、所述第二气源入口进行供气；其中，当所述清洗气源供气时，所述控制器控制所述第一等离子产生装置工作且所述偏压装置关闭，以利用所述第一等离子产生装置对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子清洗；当所述蚀刻气源供气时，同时控制所述第二等离子产生装置和所述偏压装置工作，以对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子蚀刻，以形成防眩光表面。2.根据权利要求1所述的加工设备，其特征在于，所述控制器能够先控制所述第一等离子产生装置工作，待等离子清洗完成时，控制所述第一等离子产生装置关闭和所述清洗气源停止供气；间隔第一预设时间之后再控制蚀刻气源供气以及所述第二等离子产生装置、所述偏压装置工作。3.根据权利要求1所述的加工设备，其特征在于，所述真空装置的所述连接部与所述门阀相对设置，在所述连接部的两侧至所述门阀之间的工艺室侧壁上，分别沿所述工艺室的周向排布有多个所述第一等离子产生装置和多个所述第二等离子产生装置。4.一种防眩光玻璃的加工设备，其特征在于，包括控制器、具有门阀的工艺室、设置于所述工艺室内的转台、能够安装于所述转台的转架、等离子产生装置、偏压装置以及用于对所述工艺室抽真空的真空装置，所述工艺室的侧壁外设置有安装法兰，所述安装法兰设置有贯通所述侧壁的安装孔；所述等离子产生装置包括相互连接的射频源和离子源本体，所述射频源安装于所述安装法兰，所述离子源本体设置有气源入口和气源出口，所述离子源本体穿过所述安装孔伸入所述工艺室内，且所述气源出口朝向所述转架，所述气源入口可择一连通清洗气源和蚀刻气源，所述清洗气源包括惰性气体源，所述蚀刻气源包括惰性气体源和含氟气体源；所述偏压装置的正极与所述工艺室的腔壁连接，负极与所述转架连接，以在所述等离子产生装置与所述转架之间形成偏压；所述控制器能够控制所述转台转动以带动安装于所述转架的待加工玻璃基板转动；并能够控制所述等离子产生装置、所述偏压装置和所述真空装置工作，以及控制所述清洗气
源和所述蚀刻气源先后连通所述气源入口进行供气；其中，当所述清洗气源供气时，所述控制器控制所述等离子产生装置工作且所述偏压装置关闭，以利用所述等离子产生装置对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子清洗；当所述蚀刻气源供气时，同时控制所述等离子产生装置和所述偏压装置工作，以对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子蚀刻，以形成防眩光表面。5.根据权利要求4所述的加工设备，其特征在于，所述控制器先控制所述清洗气源供气，并控制所述等离子产生装置工作，以对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子清洗；等离子清洗完成时控制所述清洗气源停止供气，然后间隔第二预设时间之后控制所述蚀刻气源供气，同时控制所述等离子产生装置和偏压装置工作，以对位于所述工艺室内的待加工玻璃基板的待处理表面进行等离子蚀刻，从而形成防眩光表面。6.根据权利要求4所述的加工设备，其特征在于，所述工艺室的侧壁上沿其周向设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员：邬文波，赵成伟，
申请(专利权)人：西实显示高新材料沈阳有限公司，
类型：发明
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