一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备，包括底座，所述底座的顶部设置有清洗箱，所述底座的内部固定安装有电机，所述电机的输出端贯穿清洗箱安装有中心轴，所述中心轴的外侧表面固定安装有片盒架，所述片盒架上方的清洗箱内部环绕设置有喷淋口，所述喷淋口上方的清洗箱内壁环绕设置有烘干管，所述清洗箱的一侧表面设置有加热管，所述加热管的下方设置有温控器，所述清洗箱的一侧表面贯穿设置有溢流管。该一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备，首先通过设置的密闭空间，使得硅片清洗过程中不与外界进行接触，同时经过3次纯水喷淋，以及通过加12次旋转高温配合低温交替烘干，大大提高了片盒的整体清洁度。大大提高了片盒的整体清洁度。大大提高了片盒的整体清洁度。

【技术实现步骤摘要】
一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备


[0001]本技术涉及硅片生产设备
，具体为一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备。

技术介绍

[0002]在米粒大的硅片上，已能集成16万个晶体管，这是科学技术进步的又一个里程碑，地壳中含量达25.8％的硅元素，为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉。由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一，对太阳能电池这样注定要进入大规模市场(mass market)的产品而言，储量的优势也是硅成为光伏主要材料的原因之一，硅片在投入市场之前需要进行清洗消毒。
[0003]现有的清洗设备只采用单一纯水喷淋，去除片盒表面的颗粒杂质和金属离子，然后只进行单一热烘干，以此保证片盒表面洁净度，且硅片清洗为固定放置，同时空间的密闭性也较差，导致硅片清洗的不够全面，使得硅片清洗的整体效果不佳。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备，以解决上述
技术介绍
中提出的现有清洗设备只采用单一纯水喷淋，去除片盒表面的颗粒杂质和金属离子，然后只进行单一热烘干，以此保证片盒表面洁净度，且硅片清洗为固定放置，同时空间的密闭性也较差，导致硅片清洗的不够全面，使得硅片清洗的整体效果不佳的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备，包括底座，所述底座的顶部设置有清洗箱，所述底座的内部固定安装有电机，所述电机的输出端贯穿清洗箱安装有中心轴，所述中心轴的外侧表面固定安装有片盒架，所述片盒架上方的清洗箱内部环绕设置有喷淋口，所述喷淋口上方的清洗箱内壁环绕设置有烘干管，所述清洗箱的一侧表面设置有加热管，所述加热管的下方设置有温控器，所述片盒架的数量为四个，且片盒架环绕着中心轴等距排布。
[0006]优选的，所述清洗箱的一侧表面贯穿设置有溢流管，所述清洗箱另一侧靠近顶部的表面设置有进水管，且进水管的下方设置有排水管。
[0007]优选的，所述清洗箱的一侧表面设置有封闭门，且底座的一侧表面通过合页活动安装有密封板。
[0008]优选的，所述底座的底部靠近四个边角处皆设置有支撑腿，且支撑腿的底端皆设置有定位盘。
[0009]优选的，所述底座的内部固定安装有蓄电池，且蓄电池的输出端通过导线与温控器和电机的输入端电性连接。
[0010]优选的，所述底座的内部固定安装有控制按钮，且控制按钮的输出端通过导线与温控器和电机的输入端电性连接。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0012]该一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备，在进行日常使用的过程中，首先通过设置的密闭空间，使得硅片清洗过程中不与外界进行接触，同时经过3次纯水喷淋，以及通过加12次旋转高温配合低温交替烘干，大大提高了片盒的整体清洁度。
[0013]该一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备，在进行日常使用的过程中，通过电机带动中心轴进行实时正反方向交替转动，同时中心轴带动片盒架进行正反方向交替转动，使得硅片清洗能够更加全面，进而提升了硅片清洗的整体效果和效率。
附图说明
[0014]图1为本技术的主视图；
[0015]图2为本技术的内部结构俯视图；
[0016]图3为本技术的俯视图；
[0017]图4为本技术的内部结构示意图。
[0018]图中：1、加热管；2、温控器；3、溢流管；4、定位盘；5、底座；6、密封板；7、排水管；8、封闭门；9、清洗箱；10、烘干管；11、中心轴；12、片盒架；13、喷淋口；14、进水管；15、电机；16、蓄电池；17、控制按钮；18、支撑腿。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参阅图1
‑
4，本技术提供一种技术方案：一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备，包括底座5，底座5的顶部设置有清洗箱9，底座5的内部固定安装有电机15，电机15的输出端贯穿清洗箱9安装有中心轴11，中心轴11的外侧表面固定安装有片盒架12，可通过电机15带动片盒进行实时的转动，使得清洗能够更加的全面，片盒架12上方的清洗箱9内部环绕设置有喷淋口13，可与旋转相互配合进行多方位以及多角度的清洗，喷淋口13上方的清洗箱9内壁环绕设置有烘干管10，可对内部清洗后的硅片进行实时烘干消毒杀菌，清洗箱9的一侧表面设置有加热管1，加热管1的下方设置有温控器2，可对设备内部进行实时加热，以及对内部温度进行实时的调节监测，清洗箱9的一侧表面贯穿设置有溢流管3，可对内部的水量进行实时调节，避免内部水量过少导致清洗不干净，同时避免水量过多造成浪费，清洗箱9另一侧靠近顶部的表面设置有进水管14，且进水管14的下方设置有排水管7，可方便进行内部水量的实时调节，同时方便清洗后污水的实时排放。
[0021]清洗箱9的一侧表面设置有封闭门8，可增加设备整体的密封性，避免清洗发生渗漏以及硅片与外界接触导致污染，且底座5的一侧表面通过合页活动安装有密封板6，可对底座5内部器件进行实时密封保护，同时方便实时打开进行检修维护，底座5的底部靠近四个边角处皆设置有支撑腿18，且支撑腿18的底端皆设置有定位盘4，可增加设备整体的稳定性，避免清洗产生的晃动使设备发生倾倒，片盒架12的数量为四个，且片盒架12环绕着中心轴11等距排布，可方便同时进行多个硅片的清洗，使得整体清洗的效率更高，底座5的内部固定安装有蓄电池16，且蓄电池16的输出端通过导线与温控器2和电机15的输入端电性连
接，可为电机15和温控器2运行提供独立且充足的电力能源，底座5的内部固定安装有控制按钮17，且控制按钮17的输出端通过导线与温控器2和电机15的输入端电性连接，可方便通过人工控制电机15和温控器2进行实时运行，避免造成能源浪费或电机15和温控器2长时间闲置运行导致故障。
[0022]工作原理：当需要进行硅片清洗消毒时，首先通过清洗机采用一个主体结构封闭空间，使得硅片清洗过程中不与外界环境接触，只配有一个封闭门，开启配有特定装置，保证片盒不被二次污染，将上载装置安装进清洗机内部，配合4个装置共同作用，在唯一封闭门口处通过上载架子上特有的锁扣装置，180℃旋转上载架子，将片盒上载到载具上，再旋转180℃将片盒主体和盒盖固定，固定好后片盒需特别清洗部位与设备的各个喷淋口13相对，由4个片盒架12围绕中心轴11固定，正向反向不同时间(60
‑
120S)不同转速(15
‑
180)不停旋转，并配合四周纯水喷头，不同温度水温(20℃
‑
45℃)去除片盒表面可水洗颗粒分子和金属离子，通过电机15旋转带动被清洗部件顺时针缓慢旋转然后逆时针方向旋转本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备，包括底座(5)，其特征在于：所述底座(5)的顶部设置有清洗箱(9)，所述底座(5)的内部固定安装有电机(15)，所述电机(15)的输出端贯穿清洗箱(9)安装有中心轴(11)，所述中心轴(11)的外侧表面固定安装有片盒架(12)，所述片盒架(12)上方的清洗箱(9)内部环绕设置有喷淋口(13)，所述喷淋口(13)上方的清洗箱(9)内壁环绕设置有烘干管(10)，所述清洗箱(9)的一侧表面设置有加热管(1)，所述加热管(1)的下方设置有温控器(2)，所述片盒架(12)的数量为四个，且片盒架(12)环绕着中心轴(11)等距排布。2.根据权利要求1所述的一种便捷式大直径硅片片盒清洗设备，其特征在于：所述清洗箱(9)的一侧表面贯穿设置有溢流管(3)，所述清洗箱(9)另一侧靠近顶部的表面设置有进水管(14)，且进水管(14)的下方设...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨路肖，张宏杰，刘建伟，武卫，刘姣龙，祝斌，袁祥龙，雍琪浩，
申请(专利权)人：中环领先半导体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：