一种半导体发光器件用清洗机制造技术

本发明专利技术公开了一种半导体发光器件用清洗机，其结构包括主体、控制面板、排污口，主体的前端设有控制面板，主体包括清洗槽、超声波发生器、放置装置，放置装置包括放置框、隔槽、顶盖、支撑装置、排污槽、夹紧装置，支撑装置包括支撑体、支撑座、支撑槽、侧流槽、缓冲装置、下流槽，缓冲装置包括缓冲板、流动槽、支撑片、缓冲橡胶，缓冲橡胶包括橡胶块、形变槽、支撑条、摩擦槽，本发明专利技术利用将半导体屏幕垂直放置在隔槽中，再利用支撑装置对其进行支撑，然后利用夹紧装置的侧面进行支撑，放置半导体屏幕进行清洗的时候与隔槽的侧端面碰撞，使得半导体端面的锡膏脱落之后，能够直接往排污槽集中排走，避免半导体屏幕清洗之后还残留有锡膏。避免半导体屏幕清洗之后还残留有锡膏。避免半导体屏幕清洗之后还残留有锡膏。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体发光器件用清洗机


[0001]本专利技术涉及半导体发光
，具体的是一种半导体发光器件用清洗机。

技术介绍

[0002]半导体发光器件是指通电之后能够发光的电子器件，通常半导体发光器件在进行生产加工之后，需要对封装后发光器件端面残留的焊膏与锡膏进行清洗，半导体在进行清洗的时候，利用化学液、清洗水等多种液体，使用后会经由废水排管排出，再通过过滤得到清洗干净的半导体发光器件，而在对半导体发光器件进行清洗的时候需要使用到清洗机。
[0003]基于上述本专利技术人发现，现有的一种半导体发光器件用清洗机主要存在以下几点不足，例如：清洗机在半导体屏幕进行清洗的时候，利用超声波产生的震动，加快反应剂与附在发光器件端面的焊膏与锡膏反应，由于半导体屏幕水平放置在清洗槽中，且通过超声波震动脱落的锡膏还会滞留在半导体屏幕的端面，导致将半导体屏幕从反应剂中捞取时，会有一部分锡膏附在半导体屏幕的端面，造成半导体屏幕清晰不干净的情况。

技术实现思路

[0004]针对上述问题，本专利技术提供一种半导体发光器件用清洗机。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术是通过如下的技术方案来实现：一种半导体发光器件用清洗机，其结构包括主体、控制面板、排污口，所述主体的前端设有控制面板，所述排污口位于主体的右侧端面，所述主体包括清洗槽、超声波发生器、放置装置，所述清洗槽设置在主体的内部正中间，所述超声波发生器位于清洗槽的内部侧端，所述放置装置安装在清洗槽的内部正中间。
[0006]进一步的，所述放置装置包括放置框、隔槽、顶盖、支撑装置、排污槽、夹紧装置，所述放置框设置在清洗槽的内部上端，所述隔槽设有八个，且横向排列于放置框的内部，所述顶盖与放置框活动卡合，所述支撑装置安装在隔槽的内部底端，所述排污槽位于支撑装置的下方，所述夹紧装置以两个为一组，设置在隔槽的两端，所述排污槽的宽度由上端向下端逐渐缩小。
[0007]进一步的，所述支撑装置包括支撑体、支撑座、支撑槽、侧流槽、缓冲装置、下流槽，所述支撑体设置在隔槽的内部底端，且支撑体的内部为剖空状，所述支撑座设置在支撑体的内部正中间，所述支撑槽位于支撑座的上端，所述侧流槽位于支撑槽的两端，所述缓冲装置设有六个，且横向排列于支撑槽的正中间，所述下流槽贯穿于支撑座的内部，所述支撑座的上端面由中间向侧端倾斜15度。
[0008]进一步的，所述缓冲装置包括缓冲板、流动槽、支撑片、缓冲橡胶，所述缓冲板嵌固在支撑槽的上端面，所述流动槽位于缓冲板的下端，所述支撑片设有四个，且横向排列于流动槽的上下端面，所述缓冲橡胶嵌固在缓冲板的顶部端面，所述流动槽贯穿于缓冲板的端面。
[0009]进一步的，所述缓冲橡胶包括橡胶块、形变槽、支撑条、摩擦槽，所述橡胶块嵌固在
缓冲板的上端面，所述形变槽位于橡胶块的内部，所述支撑条设有六个，且横线排列于形变槽的内部，所述摩擦槽设有六个，且横向排列于橡胶块的上端面，所述支撑条的宽度由两端向中间逐渐缩小。
[0010]进一步的，所述夹紧装置包括夹紧块、弹力片、空槽、复位条、接触头，所述夹紧块为八字状，且嵌固在隔槽的侧端面，所述弹力片设置在夹紧块的内部，所述空槽位于夹紧块的内部上端，所述复位条设有五个，且横线排列于空槽的内部，所述接触头嵌固在夹紧块的末端，所述复位条的内部为剖空状，且宽度由上向下逐渐缩小。
[0011]进一步的，所述接触头包括接触块、缓冲槽、侧顶块、侧展槽，所述接触块嵌固在夹紧块的末端，所述缓冲槽位于接触块的内部正中间，所述侧顶块设有两个，且交错设置在缓冲槽的两侧端面，所述侧展槽设有七个，且环绕于接触块的外端面进行排列，所述侧展槽为三角形状。
[0012]进一步的，所述侧顶块包括侧顶体、内槽、嵌固座，所述侧顶体设置在缓冲槽的内部，所述内槽位于侧顶体的内部，所述嵌固座嵌固在侧顶体的顶部，所述侧顶体为V字状。
[0013]有益效果
[0014]与现有技术相比，本专利技术具有如下有益效果：
[0015]1.本专利技术利用将半导体屏幕垂直放置在隔槽中，再利用支撑装置对其进行支撑，然后利用夹紧装置的侧面进行支撑，放置半导体屏幕进行清洗的时候与隔槽的侧端面碰撞，使得半导体端面的锡膏脱落之后，能够直接往排污槽集中排走，避免半导体屏幕清洗之后还残留有锡膏。
[0016]2.本专利技术利用弹力片自身所具有的弹性带动夹紧块进行复位，使得接触头能够顶住半导体屏幕的端面，让半导体屏幕能够保持竖立的状态，在将空槽设置在夹紧块的内部，且利用复位条对空槽进行支撑，能够加强夹紧块自身所具有的弹性，让半导体屏幕发生震动的时候能够得到缓冲，避免垂直竖立的半导体屏幕受到超声波震动的影响发生碰撞出现损坏的情况。
附图说明
[0017]图1为本专利技术一种半导体发光器件用清洗机的主视结构示意图。
[0018]图2为本专利技术的主体正视结构示意图。
[0019]图3为本专利技术的放置装置正视结构示意图。
[0020]图4为本专利技术的支撑装置正视结构示意图。
[0021]图5为本专利技术的缓冲装置侧视结构示意图。
[0022]图6为本专利技术的缓冲橡胶侧视结构示意图。
[0023]图7为本专利技术的夹紧装置正视结构示意图。
[0024]图8为本专利技术的接触头正视结构示意图。
[0025]图9为本专利技术的支撑片正视结构示意图。
[0026]图中：主体1、控制面板2、排污口3、清洗槽11、超声波发生器12、放置装置13、放置框131、隔槽132、顶盖133、支撑装置134、排污槽135、夹紧装置136、支撑体a1、支撑座a2、支撑槽a3、侧流槽a4、缓冲装置a5、下流槽a6、缓冲板a51、流动槽a52、支撑片a53、缓冲橡胶a4、橡胶块b1、形变槽b2、支撑条b3、摩擦槽b4、夹紧块c1、弹力片c2、空槽c3、复位条c4、接触头
c5、接触块c51、缓冲槽c52、侧顶块c53、侧展槽c54、侧顶体d1、内槽d2、嵌固座d3。
具体实施方式
[0027]为使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本专利技术。
[0028]实施例一：请参阅图1
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图6，本专利技术具体实施例如下：
[0029]其结构包括主体1、控制面板2、排污口3，所述主体1的前端设有控制面板2，所述排污口3位于主体1的右侧端面，所述主体1包括清洗槽11、超声波发生器12、放置装置13，所述清洗槽11设置在主体1的内部正中间，所述超声波发生器12位于清洗槽11的内部侧端，所述放置装置13安装在清洗槽11的内部正中间。
[0030]所述放置装置13包括放置框131、隔槽132、顶盖133、支撑装置134、排污槽135、夹紧装置136，所述放置框131设置在清洗槽11的内部上端，所述隔槽132设有八个，且横向排列于放置框131的内部，所述顶盖133与放置框131活动卡合，所述支撑装置134安装在隔槽132的内部底端，所述排污槽135位于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体发光器件用清洗机，其结构包括主体(1)、控制面板(2)、排污口(3)，所述主体(1)的前端设有控制面板(2)，所述排污口(3)位于主体(1)的右侧端面，其特征在于：所述主体(1)包括清洗槽(11)、超声波发生器(12)、放置装置(13)，所述清洗槽(11)设置在主体(1)的内部正中间，所述超声波发生器(12)位于清洗槽(11)的内部侧端，所述放置装置(13)安装在清洗槽(11)的内部正中间。2.根据权利要求1所述的一种半导体发光器件用清洗机，其特征在于：所述放置装置(13)包括放置框(131)、隔槽(132)、顶盖(133)、支撑装置(134)、排污槽(135)、夹紧装置(136)，所述放置框(131)设置在清洗槽(11)的内部上端，所述隔槽(132)设有八个，且横向排列于放置框(131)的内部，所述顶盖(133)与放置框(131)活动卡合，所述支撑装置(134)安装在隔槽(132)的内部底端，所述排污槽(135)位于支撑装置(134)的下方，所述夹紧装置(136)以两个为一组，设置在隔槽(132)的两端。3.根据权利要求2所述的一种半导体发光器件用清洗机，其特征在于：所述支撑装置(134)包括支撑体(a1)、支撑座(a2)、支撑槽(a3)、侧流槽(a4)、缓冲装置(a5)、下流槽(a6)，所述支撑体(a1)设置在隔槽(132)的内部底端，且支撑体(a1)的内部为剖空状，所述支撑座(a2)设置在支撑体(a1)的内部正中间，所述支撑槽(a3)位于支撑座(a2)的上端，所述侧流槽(a4)位于支撑槽(a3)的两端，所述缓冲装置(a5)设有六个，且横向排列于支撑槽(a3)的正中间，所述下流槽(a6)贯穿于支撑座(a2)的内部。4.根据权利要求3所述的一种半导体发光器件用清洗机，其特征在于：所述缓冲装置(a5)包括缓冲板(a51)、流动槽(a52)、支撑片(a53)、缓冲橡胶(a4)，所述缓冲板(a51)嵌固在支撑槽(a3)的上端面，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：林荔，
申请(专利权)人：林荔，
类型：发明
国别省市：