用于键盘乐器的键盘装置制造方法及图纸

一种用于键盘乐器的键盘装置，能够获得优秀的触感和稳定的键行程，而在键压下期间不会给予海绵感或令人不快的振动。该键盘装置包括：键盘底架；枢转地支撑在该底架上的键；可摆动地支撑在该底架上并随着键压下而摆动的音锤；设置在底架后端上并在键压下期间被音锤后端从下方接触的音锤上限止动件；以及设置在底架前端上并在键压下期间被键的前端从上方接触的键下限止动件。该音锤上限止动件具有预定柔性，其允许音锤上限止动件变形，使得在键压下期间的音锤接触之后，相关联的键在与该键下限止动件接触的状态下到达其最低位置。限止动件接触的状态下到达其最低位置。限止动件接触的状态下到达其最低位置。

【技术实现步骤摘要】
用于键盘乐器的键盘装置


[0001]本专利技术涉及一种用于键盘乐器的键盘装置，该键盘装置包括用于电子钢琴等的音锤，并且该音锤被构造成以与相关键的压下联动的方式摆动。

技术介绍

[0002]传统上，例如，已知在日本专利公开（Kokai）号2008
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233825中公开的一种作为这种用于键盘乐器的键盘装置。该键盘装置包括：由合成树脂制成的键架；多个键，其各自沿前后方向延伸，并且设置成在左右方向上并排布置的状态，而其相应的后端枢转地支撑在键架上；以及设置在键下方的多个摆动杆，该多个摆动杆各自沿前后方向延伸，并且在左右方向上并排布置的状态下逐个键可摆动地支撑在键架上。这些摆动杆以与所述键中的相关键的压下联动的方式摆动。每个键都具有从其前端向下突出的驱动部段。该驱动部段的下端与摆动杆中相关联的一个的预定部分接合，该预定部分位于摆动杆的摆动支撑件的前方。此外，在键架的后端上设置上限止动构件，该上限止动构件由通过键的压下而向上移动的摆动杆的后端从下方接触，而在键架的前端上设置键止动件。
[0003]在如上构造的键盘装置中，当键中的一个的前端通过键按压而被按下从而引起键的枢转移动时，摆动杆中相关联的一个的前端被键的驱动部段压下，并且其后端摆动，使得它向上移动。在音乐演奏期间，当例如通过相对弱的力进行键压下（在本说明书中，以下视情况称为“软键敲击”）时，摆动杆的后端移动成与上限止动构件中相关联的一个接触，由此，摆动杆的摆动停止，这是由于上限止动构件的弹力比键压下所产生的力（在本说明书中，以下视情况称为“压键力（key depression force）”）强。据此，被压下的键的枢转运动被停止，由此阻止键的前端的进一步按下。也就是说，阻止了通过软键敲击压下的键被按下，而不移动成与键止动件中相关联的一个接触。
[0004]另一方面，如果进行了大大超过上面提到的软键敲击所产生的压键力的键压下（在本说明书中，以下视情况称为“硬键敲击”）和介于软键敲击的压键力与硬键敲击的压键力之间的压键力所引起的键压下（在本说明书中，以下视情况称为“中键敲击”），则由于压键力超过上限止动构件的弹力，因此被压下的键的前端移动成与键止动件接触，由此停止键的枢转运动，并且阻止键被进一步按下。
[0005]通常，上述类型的键盘装置被构造成使得在键接触键止动件之前，摆动杆接触上限止动构件。这是因为如果在摆动杆接触上限止动构件之前键接触键止动件，则摆动杆相对于键变得暂时自由，由此产生不必要的振动，并且有必要防止产生这种不必要的振动。然而，在音乐演奏期间，当通过中键敲击或硬键敲击进行键压下时，给予所谓的海绵感（从摆动杆接触上限止动构件的按键位置进一步下沉的感觉）作为在将键按下至其最低位置期间在指尖处感觉到的触感。
[0006]此外，根据上限止动构件的构造，当通过键压下使摆动杆与上限止动构件接触时，相对强的排斥力有时会作为抵抗接触的反作用力作用在摆动杆上。在这种情况下，该排斥力从摆动杆传递到被压下的键。结果，给予指尖令人不快的振动。此外，当摆动杆与上限止
动构件的重复接触导致上限止动构件的接触部分变形成保持在凹陷状态的部分时，摆动杆的摆动角度增加与通过软键敲击的键压下时的凹陷状态相对应的量，在该软键敲击期间，键行程（键的前端的竖直可移动长度）由上限止动构件确定，由此键行程改变，以逐渐变得更长。

技术实现思路

[0007]本专利技术的一个目的在于提供一种用于键盘乐器的键盘装置，该键盘装置能够获得优秀的触感和稳定的键行程，而不会在键压下期间给予海绵感或令人不快的振动。
[0008]为达到上述目的，本专利技术提供了一种用于键盘乐器的键盘装置，所述键盘装置包括：键盘底架；多个键，其各自沿前后方向延伸，并且具有枢转地支撑在所述键盘底架上的后端，所述键在左右方向上并排布置；多个音锤，其各自沿所述前后方向延伸，并且与相应的键相关联地在所述多个键下方可摆动地支撑在所述键盘底架上，所述音锤在所述左右方向上并排布置，每个音锤用于在以与相关联的键的压下联动的方式摆动的同时将触摸重量（touch weight）赋予所述键中相关联的一个；音锤上限垫，其以在所述多个音锤上方从所述键盘底架向下突出的方式设置在所述键盘底架的后端上，根据所述键中的一个的压下，所述音锤上限垫被所述音锤中的与压下的键相关联的一个的后端从下方接触；以及键下限垫，其设置在所述键盘底架的前端上，根据所述键中的所述一个的所述压下，所述键下限垫被压下的键的前端从上方接触，其中，所述音锤上限垫被构造成具有预定柔性，所述预定柔性允许所述音锤上限垫本身变形，使得在与压下的键相关联的音锤通过键压下而与所述音锤上限垫接触之后，与所述音锤相关联的键在与所述键下限垫接触的状态下到达其最低位置，以及其中，所述键下限垫形成为比所述音锤上限垫要硬。
[0009]利用这种构造，例如在键盘乐器的音乐演奏期间，当演奏者通过键压下而按下键的前端时，该键使用其后端作为枢轴向前和向下枢转地移动，并且以与该键的枢转运动联动的方式，与该键相关联的音锤摆动。在这种情况下，音锤的后端移动成从下方与设置在键盘底架的后端上的音锤上限垫接触。在该接触之后，被压下的键在其前端从上方与设置在键盘底架的前端上的键下限垫接触的状态下到达其最低位置。
[0010]上述的音锤上限垫具有预定柔性，即如下柔性：其允许音锤上限垫自身变形，使得在音锤与音锤上限垫接触之后，与音锤相关联的键在与键下限垫接触的状态下到达其最低位置。因此，在键压下期间，防止了强的排斥力作用在与音锤上限垫接触的音锤上，由此，与常规的键盘装置不同，没有来自音锤的排斥力通过键压下而被传递到键，并且因此，在与键下限垫接触的状态下，键可被稳固地按下至最低位置。结果，防止了给予演奏者如常规的键盘装置所给予的海绵感或令人不快的振动。此外，上述的键下限垫形成为比音锤上限垫要硬，并且无论用于压下键的压键力的大小如何，被压下的键总是在其前端与键下限垫接触的状态下到达其最低位置。因此，通过键压下而到达最低位置的键不会进一步向下枢转地移动，并且该键的键行程保持恒定。如上所述，根据本专利技术的键盘装置，在键被压下时，能够获得优秀的触感和稳定的键行程，而不会给予演奏者上面提到的海绵感或令人不快的振动。
[0011]优选地，所述多个键中的每一个被构造成使得当所述键以等于或小于预定值的压键负荷被压下并允许与所述键相关联的音锤摆动时，被压下的键也在与所述键下限垫接触
的状态下到达其最低位置。
[0012]利用该优选实施例的构造，不仅当键以大于预定值的压键负荷被按压时，而且还当键以等于或小于预定值的压键负荷被按压并允许相关联的音锤摆动时，即当以允许音锤摆动的这种相对弱的力（软键敲击）按下键时，该多个键中的每一个在与键下限垫接触的状态下到达其最低位置。如上所述，根据本专利技术，不仅当以强的力压下键时，而且还当以相对弱的力压下键时，键在与键下限垫接触的状态下到达其最低位置，并且因此，在键盘装置的所有键的操作期间，取决于压键力的强度，无论演奏方法如何，都可以出色地获得与上述相同的有利效果。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于键盘乐器的键盘装置，包括：键盘底架；多个键，其各自沿前后方向延伸，并且具有枢转地支撑在所述键盘底架上的后端，所述键在左右方向上并排布置；多个音锤，其各自沿所述前后方向延伸，并且与相应的键相关联地在所述多个键下方可摆动地支撑在所述键盘底架上，所述音锤在所述左右方向上并排布置，每个音锤用于在以与相关联的键的压下联动的方式摆动的同时将触摸重量赋予所述键中相关联的一个；音锤上限垫，其以在所述多个音锤上方从所述键盘底架向下突出的方式设置在所述键盘底架的后端上，根据所述键中的一个的压下，所述音锤上限垫被所述音锤中的与压下的键相关联的一个的后端从下方接触；以及键下限垫，其设置在所述键盘底架的前端上，根据所述键中的所述一个的所述压下，所述键下限垫被压下的键的前端从上方接触，其中，所述音锤上限垫被构造成具有预定柔性，所述预定柔性允许所述音锤上限垫本身变形，使得在与压下的键相关联的音锤通过键压下而与所述音锤...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木昭裕，
申请(专利权)人：株式会社河合乐器制作所，
类型：发明
国别省市：