一种X射线Gobel镜曲面基底的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种X射线Gobel镜曲面基底的制备方法，涉及基底制备领域，方法包括：确定基底的结构参数，基底包括一个曲面；根据结构参数对基底进行加工，并在基底上设置通气孔；获取基底上曲面的尺寸；根据曲面的尺寸裁剪单抛硅片；将单抛硅片放置在基底的曲面上；利用机械泵和所述通气孔，将单抛硅片和基底吸附贴合在一起，得到光滑曲面基底。本发明专利技术能够使基底保持良好的面形和小粗糙度。保持良好的面形和小粗糙度。保持良好的面形和小粗糙度。

【技术实现步骤摘要】
一种X射线Gobel镜曲面基底的制备方法


[0001]本专利技术涉及基底制备领域，特别是涉及一种X射线Gobel镜曲面基底的制备方法。

技术介绍

[0002]X射线Gobel镜是由厚度逐渐变化的多层膜组成的，这些多层膜沉积在一个抛物面基底上，可将来自X射线管的发散X射线束转化为一道单色平行射线束，广泛应用于高分辨X射线衍射和粉末衍射设备中。其中抛物线基底的面形、表面粗糙度对Gobel镜的性能至关重要，精确的面形使入射X射线与Gobel镜之间满足特定的入射角，光滑的表面使Gobel镜能够实现高效率反射X射线。基底的表面粗糙度通常要求埃量级，一体化加工很难同时获得面形良好、粗糙度小的曲面基底，且价格昂贵。因此，寻求一种低成本的光滑曲面基底的制备方法对Gobel元件制备具有重要意义。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种X射线Gobel镜曲面基底的制备方法，能够使基底保持良好的面形和小粗糙度。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供了如下方案：
[0005]一种X射线Gobel镜曲面基底的制备方法，包括：
[0006]确定基底的结构参数，所述基底包括一个曲面；
[0007]根据所述结构参数对所述基底进行加工，并在所述基底上设置通气孔；
[0008]获取所述基底上所述曲面的尺寸；
[0009]根据所述曲面的尺寸裁剪单抛硅片；
[0010]将所述单抛硅片放置在所述基底的所述曲面上；
[0011]利用机械泵和所述通气孔，将所述单抛硅片和所述基底吸附贴合在一起，得到光滑曲面基底。
[0012]可选的，所述单抛硅片上设置有液态胶。
[0013]可选的，所述液态胶位于所述单抛硅片的非抛光面上。
[0014]可选的，所述液态胶为环氧树脂灌封胶。
[0015]可选的，所述结构参数包括长、宽、高和抛物线形状。
[0016]可选的，所述通气孔贯穿所述曲面及其相对的表面。
[0017]可选的，所述通气孔为一个或多个。
[0018]可选的，当所述通气孔为一个时，所述通气孔位于所述曲面的几何中心。
[0019]可选的，所述曲面的函数表达式为：y2＝2px，其中，p为抛物线的准焦距，抛物线顶点和X射线源之间的距离为p/2。
[0020]可选的，在步骤“利用机械泵和所述通气孔，将所述单抛硅片和所述基底吸附贴合在一起”之后，还包括：
[0021]对贴合单抛硅片之后的基底进行加热烘烤。
[0022]根据本专利技术提供的具体实施例，本专利技术公开了以下技术效果：
[0023]采用本专利技术制备Gobel镜基底具有两大优势：一是基底保持良好的面形和小粗糙度；二是基底制备的方法简单，制备成本低。
[0024]Gobel镜基底的面形、表面粗糙度对元件的性能至关重要，因此，通常要求基底保持良好的面形和光滑的表面，采用本专利技术的方法，原始基底保持要求的面形，单抛硅片的低表面粗糙度保持基底的光滑表面，流动性好的液态胶填充原始基底和硅片之间，并在固化后将二者粘接到一起，获得表面光滑的曲面基底。
[0025]采用本专利技术中的制备方法，使用到的设备简单，且为实验室常见的设备和材料，相比于一体化加工出同时具备良好面形和低表面粗糙度的方法，该方法可大大减小曲面基底的制备成本，且不仅限于抛物柱面，还可制备其他类型的曲面基底。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0027]图1为本专利技术X射线Gobel镜曲面基底的制备方法流程图；
[0028]图2为本专利技术Gobel镜反射X射线示意图；
[0029]图3为本专利技术原始基底示意图；
[0030]图4为本专利技术单抛硅片与原始基底贴合系统示意图；
[0031]图5为本专利技术光滑曲面基底实物图。
[0032]符号说明：
[0033]1‑
硅片，2
‑
液态胶，3
‑
原始基底，4
‑
吸盘，5
‑
导气管，6
‑
机械泵。
具体实施方式
[0034]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0035]本专利技术提出一种X射线Gobel镜曲面基底的制备方法，该基底可用于制备X射线Gobel镜或其他需要光滑曲面基底的场合。本专利技术首先根据X射线Gobel镜的基底要求，利用机械加工或其他方法加工出大小、面形与设计相符合的原始基底，该原始基底中间留有通气孔；然后将单面抛光的硅片裁成特定尺寸，该尺寸和原始基底曲面尺寸相同；接着在非抛光硅片面涂上液态胶，置于原始基底曲面上；接着利用机械泵，通过通气孔将硅片和原始基底吸附在一起，待液态胶固化后，即可得到用于制备X射线Gobel镜的光滑曲面基底。
[0036]采用该方法制备的曲面基底具有两大优势：一是基底可保持曲面面形，且表面光滑；二是基底的制备成本低。
[0037]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。
[0038]图1为本专利技术X射线Gobel镜曲面基底的制备方法流程图，如图1所示，一种X射线Gobel镜曲面基底的制备方法，包括：
[0039]步骤101：确定基底的结构参数，所述基底包括一个曲面。
[0040]具体包括：确定基底的面形和尺寸：X射线光源在p/2位置处，光源与Gobel镜中点的距离为焦距F，确定基底抛物线的形状y2＝2px，p为抛物线的准焦距，抛物线顶点和X射线源之间的距离为p/2，如图2所示；根据实际需要，确定抛物柱面基底的长L、宽W和高H。
[0041]步骤102：根据所述结构参数对所述基底进行加工，并在所述基底上设置通气孔。
[0042]具体包括：利用机械加工或其他方法加工出步骤101中设计出来的抛物柱面基底(即原始基底)，并在基底中间位置，加工一个通气孔，如图3所示。
[0043]步骤103：获取所述基底上所述曲面的尺寸。
[0044]步骤104：根据所述曲面的尺寸裁剪单抛硅片。
[0045]将单抛硅片裁成特定尺寸。按照原始基底抛物面的尺寸，将单面抛光的硅片裁成与原始基底抛物面大小相同的尺寸。
[0046]步骤105：将所述单抛硅片放置在所述基底的所述曲面上。
[0047]步骤106：利用机械泵和所述通气孔，将所述单抛硅片和所述基底吸附贴合在一起，得到光滑曲面基底。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种X射线Gobel镜曲面基底的制备方法，其特征在于，包括：确定基底的结构参数，所述基底包括一个曲面；根据所述结构参数对所述基底进行加工，并在所述基底上设置通气孔；获取所述基底上所述曲面的尺寸；根据所述曲面的尺寸裁剪单抛硅片；将所述单抛硅片放置在所述基底的所述曲面上；利用机械泵和所述通气孔，将所述单抛硅片和所述基底吸附贴合在一起，得到光滑曲面基底。2.根据权利要求1所述的X射线Gobel镜曲面基底的制备方法，其特征在于，所述单抛硅片上设置有液态胶。3.根据权利要求2所述的X射线Gobel镜曲面基底的制备方法，其特征在于，所述液态胶位于所述单抛硅片的非抛光面上。4.根据权利要求2所述的X射线Gobel镜曲面基底的制备方法，其特征在于，所述液态胶为环氧树脂灌封胶。5.根据权利要求1所述的X射线Gobel镜曲面基底的制备方法，其特征在于，所述结构参数...

【专利技术属性】
技术研发人员：李艳丽，孔祥东，韩立，
申请(专利权)人：中国科学院电工研究所，
类型：发明
国别省市：