一种发热体及其制备方法技术

本申请提供了一种发热体及其制备方法，制备方法包括：在真空腔室中，开始第一次启辉，并进行第一靶材预溅射；对第一靶材进行第一次溅射，以使得第一靶材在基体上沉积形成过渡层；开始第二次启辉，并进行第二靶材预溅射；对第二靶材进行第二次溅射，以使得第二靶材在过渡层上形成发热层；开始第三次启辉，并进行第三靶材预溅射；对第三靶材进行第三次溅射，以使得第三靶材在发热层上形成导电层，简化缩短了制备流程，避免了制备浆料、印刷、烧结的工序，提高了生产效率，同时避免了烧结过程中带来的有害物质。有害物质。有害物质。

【技术实现步骤摘要】
一种发热体及其制备方法


[0001]本申请涉及气溶胶产生装置
，具体是涉及一种发热体及其制备方法。

技术介绍

[0002]雾化器中的发热体能够吸收气溶胶基质，并对气溶胶基质进行加热，从而产生气溶胶，发热体一般包括多孔陶瓷以及层叠在多孔陶瓷上的发热膜。
[0003]现有技术中，发热体一般采用厚膜印刷工艺制备而成，在多孔陶瓷基体上通过丝网印刷覆上一层金属浆料，然后真空中或者惰性气体气氛条件下烧结，形成陶瓷发热体，这种方法工艺流程多且复杂。

技术实现思路

[0004]本申请主要是提供一种发热体及其制备方法，能够简化发热体的制备流程。
[0005]为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种发热体的制备方法，包括：在真空腔室中，开始第一次启辉，并进行第一靶材预溅射；对所述第一靶材进行第一次溅射，以使得所述第一靶材在基体上沉积形成过渡层；开始第二次启辉，并进行第二靶材预溅射；对所述第二靶材进行第二次溅射，以使得所述第二靶材在所述过渡层上形成发热层；开始第三次启辉，并进行第三靶材预溅射；对所述第三靶材进行第三次溅射，以使得所述第三靶材在所述发热层上形成导电层。
[0006]在一具体实施方式中，所述在真空腔室中，开始第一次启辉，并进行第一靶材预溅射之前还包括：通过物理气象沉积法，制备形成陶瓷基体；对所述陶瓷基体依次进行清洗、烘干，并将烘干完成后的陶瓷基体安装在所述真空腔室内的基台上。
[0007]在一具体实施方式中，所述对所述陶瓷基体依次进行清洗、烘干，并将烘干完成后的陶瓷基体安装在所述真空腔室内的基台上之后还包括：分别对所述第一靶材、所述第二靶材及所述第三靶材进行擦拭，并分别对所述第一靶材、所述第二靶材及所述第三靶材进行干燥；将所述第一靶材、所述第二靶材及所述第三靶材安装在所述真空腔室内对应的靶位上。
[0008]在一具体实施方式中，所述第一靶材预溅射、所述第二靶材预溅射及所述第三靶材预溅射的预溅射时间分别为2～5min。
[0009]在一具体实施方式中，所述第一次溅射的溅射功率为100
‑
300W，溅射时间5
‑
30min；所述第二次溅射的溅射功率100
‑
300W，溅射时间10
‑
60min；所述第三次溅射的溅射功率50
‑
100W，溅射时间5
‑
30min。
[0010]在一具体实施方式中，所述第一靶材包括钨、钛及锡中的一种或多种。
[0011]在一具体实施方式中，所述第二靶材包括铜、钯、铂及铑中的一种或多种。
[0012]在一具体实施方式中，所述第三靶材包括铜、银及银钯合金中的一种或多种。
[0013]在一具体实施方式中，所述开始第三次启辉，并进行第三靶材预溅射之前还包括：冷却预设时间，将形成发热层后的基体取出；更换掩膜版，将形成发热层后的基体安装在所
述真空腔室内的基台上；所述对所述第三靶材进行第三次溅射，以使得所述第三靶材在所述发热层上形成导电层包括：对所述第三靶材进行第三次溅射，以使得所述第三靶材在所述发热层上的对应位置，形成与所述掩膜版对应的电极图案。
[0014]为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种发热体，所述发热体包括基体、过渡层、发热层及导电层，所述过渡层、所述发热层及所述导电层依次层叠于所述基体上。
[0015]本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请实施方式提供的发热体的制备方法包括：在真空腔室中，开始第一次启辉，并进行第一靶材预溅射；对所述第一靶材进行第一次溅射，以使得所述第一靶材在基体上沉积形成过渡层；开始第二次启辉，并进行第二靶材预溅射；对所述第二靶材进行第二次溅射，以使得所述第二靶材在所述过渡层上形成发热层；开始第三次启辉，并进行第三靶材预溅射；对所述第三靶材进行第三次溅射，以使得所述第三靶材在所述发热层上形成导电层，简化缩短了制备流程，避免了制备浆料、印刷、烧结的工序，提高了生产效率，同时避免了烧结过程中带来的有害物质。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本申请实施方式中的技术方案，下面将对实施方式描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本申请提供的发热体实施方式的截面示意图；
[0018]图2是图1中发热体的立体分解结构示意图；
[0019]图3是本申请提供的发热体的制备方法实施方式的流程示意图。
具体实施方式
[0020]下面结合附图和实施方式，对本申请作进一步的详细描述。特别指出的是，以下实施方式仅用于说明本申请，但不对本申请的范围进行限定。同样的，以下实施方式仅为本申请的部分实施方式而非全部实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施方式，都属于本申请保护的范围。
[0021]本申请中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，方式如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。本申请实施方式中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。方式如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
[0022]在本文中提及“实施方式”意味着，结合实施方式描述的特定特征、结构或特性可
以包含在本申请的至少一个实施方式中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施方式，也不是与其它实施方式互斥的独立的或备选的实施方式。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施方式可以与其它实施方式相结合。
[0023]请一并参阅图1及图2，图1是本申请提供的发热体10实施方式的截面示意图，图2是图1中发热体10的立体分解结构示意图，本实施方式中的发热体10包括基体11、过渡层12、发热层13及导电层14。
[0024]在本实施方式中，发热体10应用于雾化器，雾化器是利用基体11吸收气溶胶基质，然后通过导电层14为发热层13供电，从而使得发热层13加热气溶胶基质并产生气溶胶。
[0025]其中，基体11可以由多孔结构的材料制成，比如多孔陶瓷、多孔玻璃、多孔塑料、多孔金属等，对此不做限定，比如选用多孔陶瓷，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种发热体的制备方法，其特征在于，包括：在真空腔室中，开始第一次启辉，并进行第一靶材预溅射；对所述第一靶材进行第一次溅射，以使得所述第一靶材在基体上沉积形成过渡层；开始第二次启辉，并进行第二靶材预溅射；对所述第二靶材进行第二次溅射，以使得所述第二靶材在所述过渡层上形成发热层；开始第三次启辉，并进行第三靶材预溅射；对所述第三靶材进行第三次溅射，以使得所述第三靶材在所述发热层上形成导电层。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在真空腔室中，开始第一次启辉，并进行第一靶材预溅射之前还包括：通过物理气象沉积法，制备形成陶瓷基体；对所述陶瓷基体依次进行清洗、烘干，并将烘干完成后的陶瓷基体安装在所述真空腔室内的基台上。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述对所述陶瓷基体依次进行清洗、烘干，并将烘干完成后的陶瓷基体安装在所述真空腔室内的基台上之后还包括：分别对所述第一靶材、所述第二靶材及所述第三靶材进行擦拭，并分别对所述第一靶材、所述第二靶材及所述第三靶材进行干燥；将所述第一靶材、所述第二靶材及所述第三靶材安装在所述真空腔室内对应的靶位上。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一靶材预溅射、所述第二靶材预溅射及所述第三靶材预溅射的预溅射时间分别为2～5min。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一次溅射的溅...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐会龙，李俊辉，聂革，刘斌，
申请(专利权)人：深圳市吉迩科技有限公司，
类型：发明
国别省市：