窗和制造窗的方法技术

本公开提供一种窗和一种制造窗的方法，所述制造窗的方法包括使窗基底老化48小时至72小时，使老化的所述窗基底经受等离子体，以及在所述等离子体处理过的窗基底上形成抗指纹层。层。层。

【技术实现步骤摘要】
窗和制造窗的方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2021年2月23日在韩国知识产权局提交的第10
‑
2021
‑
0024228号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。


[0003]一个或多个实施例涉及一种窗和一种制造窗的方法。

技术介绍

[0004]使用了各种移动显示装置，并且这些显示装置可以包括提供图像的显示面板和保护显示面板的窗。
[0005]窗可以包括保护显示面板免受诸如油、指纹和各种异物的污染源影响的涂覆层。

技术实现思路

[0006]根据一个或多个实施例，对窗基底执行老化工艺之后使老化的所述窗基底经受等离子体处理，以提高等离子体处理的效率。另外的方面将在接下来的描述中被部分地阐明，并且将通过描述而部分地清楚，或者可以通过本公开给出的实施例的实践而了解。
[0007]根据一个或多个实施例，制造窗的方法包括使窗基底老化48小时至72小时，使老化的所述窗基底经受等离子体，以及在等离子体处理过的所述窗基底上形成抗指纹层。
[0008]根据实施例，在约20℃至约100℃的温度下执行所述窗基底的所述老化。
[0009]根据实施例，在约50％至约100％的相对湿度下执行所述窗基底的所述老化。
[0010]根据实施例，所述窗基底的所述经受所述等离子体可以包括使所述老化的所述窗基底经受包含氧的等离子体。
[0011]根据实施例，老化的窗基底的所述经受所述等离子体(或者可选地，包含氧的等离子体)可以执行约30秒至约90秒。
[0012]根据实施例，所述抗指纹层可以包括包含与全氟聚醚(PFPE)键合的硅氮烷基团的结构。
[0013]根据实施例，所述抗指纹层可以包括由式1表示的化合物：
[0014]式1
[0015](PFPE)
x
–
Si
–
[(NH
–
R)
n
–
NH2]y
，
[0016]其中，在式1中，PFPE可以为全氟聚醚基团，R可以为C2‑
C
10
亚烷基基团，x和y可以各自独立地为从1至3的整数，x+y＝4，并且n可以为从1至5的整数。
[0017]根据实施例，所述抗指纹的表面上的氟原子与原子总数的比可以为约0.7:1或更大。
[0018]根据实施例，所述抗指纹层的水接触角可以为约100度或更大。
[0019]根据实施例，所述窗基底可以包括聚合物树脂。
[0020]根据实施例，所述方法还可以包括，在所述窗基底的所述老化之前，在所述窗基底
上形成硬涂层。
[0021]根据实施例，所述硬涂层可以包括丙烯酰基化合物、倍半硅氧烷化合物、环氧化合物和氨基甲酸酯化合物中的至少一种。
[0022]根据实施例，窗包括窗基底以及位于所述窗基底上的抗指纹层，所述抗指纹层具有包含与全氟聚醚(PFPE)键合的硅氮烷基团的结构。
[0023]根据实施例，所述抗指纹层可以包括由下式1表示的化合物：
[0024]式1
[0025](PFPE)
x
–
Si
–
[(NH
–
R)
n
–
NH2]y
，其中，在式1中，PFPE可以为全氟聚醚基团，R可以为C2‑
C
10
亚烷基基团，x和y可以各自独立地为从1至3的整数，x+y＝4，并且n可以为从1至5的整数。
[0026]根据实施例，所述抗指纹的表面上的氟原子与原子总数的比可以为约0.7:1或更大。
[0027]根据实施例，所述抗指纹层的水接触角可以为约100度或更大。
[0028]根据实施例，所述窗基底可以包括聚合物树脂。
[0029]根据实施例，所述窗还可以包括设置在所述窗基底与所述抗指纹层之间的硬涂层。
[0030]根据实施例，所述硬涂层可以包括丙烯酰基化合物、倍半硅氧烷化合物、环氧化合物和氨基甲酸酯化合物中的至少一种。
[0031]通过附图、权利要求和具体实施方式，将更好地理解本公开的其他方面、特征和优点。
附图说明
[0032]通过结合附图的以下描述，本公开的特定实施例的以上与其它方面、特征和优点将更加明显，在附图中：
[0033]图1至图3是根据实施例的制造窗的方法的步骤的示意图；
[0034]图4是根据实施例的窗的示意性剖视图；
[0035]图5是根据实施例的窗的示意性剖视图；
[0036]图6是比较例1以及实验例1、实验例2和实验例3中的水接触角的图表；
[0037]图7是比较例2和实验例4中的水接触角的图表；
[0038]图8A是示出比较例1的碳原子、氟原子和硅原子的数目相对于抗指纹层的深度的比的图表；
[0039]图8B是示出比较例2的碳原子、氟原子和硅原子的数目相对于抗指纹层的深度的比的图表；以及
[0040]图8C是示出实验例4的碳原子、氟原子和硅原子的数目相对于抗指纹层的深度的比的图表。
具体实施方式
[0041]现在将详细参照其示例在附图中示出的实施例，其中相同的附图标记始终表示相同的元件。在这方面，实施例可以具有不同的形式并且不应被解释为限于在此阐述的描述。
相反，提供这些实施例使得本公开将会是彻底的和完整的，并将向本领域技术人员充分地传达本公开的范围。因此，下面通过参照附图仅对实施例进行描述，以解释本说明书的方面。
[0042]这里使用的术语仅是为了描述具体实施例的目的，而不意图成为限制。如在此使用的，除非上下文另外明确地指出，否则单数形式“一个”、“一种”和“该(所述)”，包括“至少一个(种)(者)”，旨在包括复数形式。“至少一个(种)(者)”不被解释为限于“一个”或“一种(者)”。如在此使用的，术语“和/或”包括一个或多个相关所列项的任意和所有组合。在整个公开中，表述“a、b和c中的至少一个”表示仅a、仅b、仅c、a和b两者、a和c两者、b和c两者、a、b和c全部或它们的变形。将进一步理解的是，当在本说明书中使用术语“包括”和/或“包含”或“含有”和/或“具有”时，说明存在所述特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组，但是并不排除存在或添加一个或多个其它特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。
[0043]将理解的是，尽管术语“第一”、“第二”等可以在此用于描述各种元件、组件、区域、层或部分，但是这些元件、组件、区域、层或部分不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。
[0044]还将理解的是，当层、区域或元件被称作“在”另一层、区域或元件“上”时，该层、区域或元件可以直接或间接“在”另一层、区域或元件“上”。即，例如，可以存在中间层、区域或元件。相本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制造窗的方法，其中，所述方法包括：使窗基底老化48小时至72小时；使老化的所述窗基底经受等离子体；以及在等离子体处理过的所述窗基底上形成抗指纹层。2.如权利要求1所述的方法，其中，在20℃至100℃的温度下执行所述窗基底的所述老化。3.如权利要求2所述的方法，其中，在50％至100％的相对湿度下执行所述窗基底的所述老化。4.如权利要求1所述的方法，其中，所述等离子体包含氧。5.如权利要求4所述的方法，其中，使老化的所述窗基底经受所述等离子体执行30秒至90秒。6.如权利要求1所述的方法，其中，所述抗指纹层包括包含与全氟聚醚键合的硅氮烷基团的结构。7.如权利要求6所述的方法，其中，所述抗指纹层包括由式1表示的化合物：式1(PFPE)
x
–
Si
–
[(NH
–
R)
n
–
NH2]
y
其中，在式1中，PFPE为全氟聚醚基团，R为C2‑
C
10
亚烷基基团，x和y各自独立地为从1至3的整数，x+y＝4，并且n为从1至5的整数。8.如权利要求1所述的方法，其中，所述抗指纹层的表面上的氟原子与原子总数的比为0.7:1或更大。9.如权利要求1所述的方法，其中，所述抗指纹层的水接触角为100度或更大。10.如权利要求1所述的方法，其中，所述窗基底包括聚合物树脂。11.如权利要求1所述的方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹贤敬，高知贤，徐铉承，李东成，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：