一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉制造技术

本实用新型专利技术涉及热电偶保护套管生产技术领域，公开了一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉，包括炉体和活动设置于炉体内的坯体托架，所述坯体托架包括水平基板和支板，至少两块支板相互平行地设置于水平基板的顶面，每块支板上设有凹槽，且每块支板上的凹槽分别与其他支板上对应的凹槽相配合，形成用于沿凹槽轴线放置套管的容纳部。该装置通过设置坯体托架，能够充分利用烧结空间，并使工艺气体在坯体托架内能够自由流动，从而保证套管坯体与工艺气体的充分接触，提高烧结产品的均一性，保证烧结良品率。保证烧结良品率。保证烧结良品率。

【技术实现步骤摘要】
一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉


[0001]本技术涉及热电偶保护套管生产
，特别涉及一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉。

技术介绍

[0002]氮化硅是一种强度极高的陶瓷材料，由氮化硅材料制成的热电偶保护套管具有极强的抗侵蚀能力，耐腐蚀，耐冲刷，且导热性能优越，对温度响应非常迅速，能够广泛应用于有色金属铸造测温及其控温环节。氮化硅热电偶保护套管制备工艺通常需要将包含氮化硅的多种原料充分混合后制成坯体，再将坯体干燥后放入气氛烧结炉中进行烧结得到，烧结时可向气氛烧结炉中通入氦气、氮气或其他工艺气体以提高保护套管的性能。
[0003]为了充分利用烧结空间，现有的气氛烧结炉内用于放置待烧结坯体的托架通常是多层叠放的结构，例如公开号为CN214747274U的专利文献公开的一种薄壁碳化硅管材烧结用耐高温石墨支架，包括至少一个石墨板，每个石墨板上表面设有若干个用于放置管材的容纳凹槽，石墨板底部设有若干个支撑凸起，所述容纳凹槽与支撑凸起错位设置。使用时，先将预烧管材放置于容纳凹槽内，然后将支架逐层放置于烧结炉内，使得在上石墨板的支撑凸起与在下石墨板上表面接触，保证两层石墨板之间存在一定的间隙，有利于烧结废气排出，同时较大空间便于放置不同规格的预烧管材。该装置随较好地利用了烧结炉内的烧结空间，但由于预烧管材与容纳凹槽是依靠重力紧密接触的，只有容纳凹槽底部的少量透气孔保证预烧管材底部能够与工艺气体接触，因而容易导致预烧管材与石墨板的容纳凹槽紧密接触的部分与工艺气体的接触不足影响烧结产品的均一性，降低烧结良品率。

技术实现思路

[0004]针对上述情况，本技术的目的是提供一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉，该装置的托架能够增大待烧结坯体与工艺气体的接触面积，提高烧结产品的均一性，保证烧结良品率。
[0005]为了实现上述目的，本技术通过以下技术方案实现的：
[0006]一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉，包括炉体和活动设置于炉体内的坯体托架，所述坯体托架包括水平基板和支板，至少两块支板相互平行地设置于水平基板的顶面，每块支板上设有凹槽，且每块支板上的凹槽分别与其他支板上对应的凹槽相配合，形成用于沿凹槽轴线放置套管坯体的容纳部。
[0007]需要说明的是，每块支板上的凹槽分别与其他支板上对应的凹槽相配合，指的是用于放置同一根套管坯体的凹槽的轴线彼此相互重合，对套管坯体形成均匀的支撑。所述容纳部的数量至少为一个。
[0008]在本技术中，所述炉体采用本领域的常规设置，例如，其通常包括保温箱体、设置于保温箱体内的加热装置、用于向箱体内通入工艺气体的进气管道和用于排出箱体内的废气的排气管道，为了保证箱体内的气氛一致性，所述进气管道可通过具有多个出气口
的布气装置向箱体内均匀地通入工艺气体。
[0009]本装置工作时，待烧结的套管坯体放置在容纳部内，所述支板将套管坯体整体架起，且相邻两块支板之间形成了利于工艺气体流通的通道，使得套管坯体朝向水平基板的一面也能与工艺气体充分接触，从而提高烧结产品的均一性。
[0010]所述凹槽可根据实际需求进行选择，具体的，凹槽为弧形、V形或U形。优选的，所述凹槽为V形，当圆管形的套管坯体架设于V形凹槽形成的容纳部内时，套管坯体的底部与V形凹槽的底部之间留有缝隙，可进一步提高工艺气体在坯体托架内部的流通，保证工艺气体与套管坯体的接触面积。
[0011]进一步的，所述支板垂直于水平基板，以便使支板能够更高地架起套管坯体，使得工艺气体在套管坯体和水平基板之间拥有更大的流通空间，从而进一步保证套管坯体与工艺气体充分接触。
[0012]进一步的，所述水平基板上相邻的两块支板之间设有平行于支板长度方向的长条形通风孔，使得多个坯体托架叠放时，工艺气体能够在不同坯体托架之间流动；此外也使工艺气体可从坯体托架的侧面和顶面进入坯体托架的内部，工艺气体可从多个方向流入流出坯体托架，从而进一步保证工艺气体与套管坯体充分接触。优选的，所述炉体内可通过设置布气装置使工艺气体的喷出方向设置为竖直向下的、竖直向上的、水平平行于支板的、或者为前三者交替进行的方向，从而保证烧结炉内气氛的一致性，从而进一步体提高烧结产品的均一性。
[0013]进一步的，所述支板为导热陶瓷支板，导热陶瓷材料制成的支板具有较高的导热系数，保证套管坯体与凹槽内壁接触的部分也可均匀受热。
[0014]进一步的，所述水平基板的底面上设有至少两块支撑板，且支撑板的长度方向垂直于支板的长度方向。当多个坯体托架叠放时，支撑板可保证下层坯体托架上的套管坯体与上层坯体托架的水平基板之间保有足够的工艺气体流通空间，从而保证套管坯体与工艺气体的充分接触。优选的，所述支撑板为两块，且位于水平基板底面的两端，以使保证坯体托架的稳定性。
[0015]进一步的，所述凹槽内壁上设有石墨导热层。石墨质软且具有良好的导热性，可防止坯体托架划伤套管坯体，并进一步保证套管坯体均匀受热。
[0016]需要说明的是，在本技术中，所述工艺气体为本领域的常规选择，具体的，可为氢气、氮气、氦气、氖气、氩气中的一种或几种、
[0017]本技术中还包括能够使气氛烧结炉正常使用的其它组件，均属于本领域的常规选择。另外，本技术中未加限定的装置或组件均采用本领域中的常规手段，例如，水平基板、导热陶瓷支板、石墨导热层等均采用常规设置。
[0018]与现有技术相比，本技术的有益效果为：
[0019]本装置通过设置坯体托架，能够充分利用烧结空间，并使工艺气体在坯体托架内能够自由流动，从而保证套管坯体与工艺气体的充分接触，提高烧结产品的均一性，保证烧结良品率。
附图说明
[0020]图1为实施例中一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉的结构示意
图；
[0021]图2为实施例中坯体托架的结构示意图；
[0022]图3为图2中的A
‑
A向视图。
具体实施方式
[0023]下面将结合本实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，均属于本技术的保护范围。
[0024]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系均为基于附图所示的方位或位置关系，仅为便于描述，而不是指示或限制所指的装置或元件必须以特定的方位构造和操作。
[0025]实施例
[0026]如图1
‑
3所示，一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉，包括炉体4和活动设置于炉体4内的坯体托架，所述坯体托架包括水平基板1和支板2，十块支板2相互平行地垂直设置于水平基板1的顶面，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉，包括炉体和活动设置于炉体内的坯体托架，其特征在于，所述坯体托架包括水平基板和支板，至少两块支板相互平行地设置于水平基板的顶面，每块支板上设有凹槽，且每块支板上的凹槽分别与其他支板上对应的凹槽相配合，形成用于沿凹槽轴线放置套管坯体的容纳部。2.根据权利要求1所述的一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉，其特征在于，所述凹槽为弧形、V形或U形。3.根据权利要求1所述的一种气压氮化硅热电偶保护套管生产用气氛烧结炉，其特征在于，所述支板垂直于水平基板。4.根据权利要求1所述的一种气压...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈花朵，王长春，刘源，赵振威，刘军利，
申请(专利权)人：河南北星精工技术有限公司，
类型：新型
国别省市：