一种避免紫外辐射发热的纳米压印基台制造技术

一种避免紫外辐射发热的纳米压印基台，包括基底固定单元，工作模具固定单元，曝光单元，排风单元，壳体五大部分组成。利用主水冷的方式替换风冷，并且使用空气循环进一步散热以及更换空气。免了长时间紫外辐照，引起紫外灯和基台发热，从而避免了压印材料的形变，进而避免了纳米结构发生形变，提高了纳米压印设备的压印精度，提高了产品良率。水循环冷却相对于风冷等方式，避免了基台的震动，有利于提高纳米压印设备的精度。同时，水循环冷却不会影响无尘室的空气循环，有利于洁净度的提高，从而提高产品良率。提高产品良率。提高产品良率。

【技术实现步骤摘要】
一种避免紫外辐射发热的纳米压印基台


[0001]本技术涉及纳米压印
，具体为一种避免紫外辐射发热的纳米压印基台。

技术介绍

[0002]纳米压印技术，最早由Stephen Y Chou教授在1995年率先提出，在微纳米器件制作工艺中，是一种不同与传统光刻技术的全新图形转移技术，其不使用光线或者辐照使光刻胶感光成形，而是直接在硅衬底或者其它衬底上利用物理学的机理构造纳米尺寸图形。由于纳米压印技术的应用的巨大前景，自从被提出以来就受到了各国政府与科学家的普遍重视，已致近十几年来纳米压印技术迅速发展，成为当下热门研究领域之一。
[0003]紫外纳米压印技术是由M.Bender和M.Otto提出的一种利用紫外光固化高分子的压印光刻技术。紫外纳米压印
技术实现思路
：首先将紫外光刻胶涂抹于衬底上，将其置于具有纳米微结构图案的模具下，对模具施以机械力，对紫外光刻胶进行压印，压印完成后紫外灯光对压印区域进行固化，然后进行脱模。相对于热压印技术必须经过高温高压，冷却处理的过程，紫外纳米压印具有能在室温、低压环境下工作的优点。
[0004]但是在实际生产过程中，长时间的紫外辐照使紫外灯和压印基台发热，吸附在基台上的紫外固化纳米压印材料受热，导致材料发生形变，纳米结构精度下降，进而导致产品良率的下降。为了避免紫外辐照发热引起压印材料形变，提高产品良率，提出一种避免紫外辐射发热的纳米压印基台。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种避免紫外辐射发热的纳米压印基台，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。/>[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种避免紫外辐射发热的纳米压印基台，包括壳体，所述的壳体内部设置有基底固定单元，工作模具固定单元，曝光单元，排风单元；所述的基底固定单元包括第一真空槽，溢流槽，第一冷却水路，支撑块，升降块，电机，第一水箱；
[0007]基底固定单元上表面设有第一真空槽，第一真空槽底部设有第一真空孔；
[0008]基底固定单元的第一真空槽外设有溢流槽；
[0009]第一冷却水路设置在基底固定单元的内部，第一冷却水路一端与水箱连接，一端与第一水箱内设置的第一水泵连接，通过第一水泵完成冷却循环，第一水箱通过设置在第一水箱上的第一进水口进行加水；
[0010]支撑块位于基底固定单元的底部，支撑块通过升降块和电机完成上下方向的移动。
[0011]优选的，所述的工作模具固定单元包括真空孔，第二真空槽，工作模具定位辅助槽，电磁固定块，固定块，真空泵，透明石英板；
[0012]工作模具固定单元中心设有透明石英板；
[0013]工作模具固定单元的下表面，透明石英板的外侧设有方形第二真空槽，第二真空槽槽内设有真空孔，第二真空孔通过气路与真空泵连接，第一真空孔通过气路与真空泵相连；
[0014]第二真空槽外设有定位辅助槽，定位辅助槽槽深度比第二真空槽低；
[0015]工作模具固定单元的两端处设置电磁固定块，壳体的设备内部上固定安装第一固定块，通过电磁固定块将工作模具固定单元固定在第一固定块上。
[0016]优选的，所述的曝光单元位于工作模具固定单元的上方，包括第二冷却水路，UV灯，第二固定块，第二水箱，第二水泵，第二进水口；
[0017]UV灯通过第二固定块固定于设备壳体上，可发出紫外光固化纳米压印材料；
[0018]第二冷却水路设于UV灯上方，第二冷却水路与第二水箱，通过第二水泵完成冷却循环，第二水箱设有第二进水口。
[0019]优选的，所述的排风单元包括FFU过滤器机组和抽风扇；
[0020]排风单元中的FFU过滤机组吸入环境中的空气，经过层层过滤后向下吹入设备中，配合抽风扇使设备内的气体循环保持从上往下循环，并相对与环境保持正压。
[0021]优选的，所述的真空泵与第一水箱之间，设有第一漏液检测器。
[0022]优选的，所述的第一水箱与第二水箱之间，设有第二漏液检测器。
[0023]优选的，所述的工作模具固定单元两端设有把手。
[0024]优选的，壳体上方设有峰鸣报警灯，壳体内部设置有控制器，峰鸣报警灯、第一漏液检测器、第二漏液检测器均通过电导体连接到控制器。
[0025]优选的，所述的壳体底部设有大于三个的万向轮和地脚。
[0026]优选的，所述的壳体内部安装有隔板。
[0027]与现有技术相比，本技术的有益效果是：避免了长时间紫外辐照，引起紫外灯和基台发热，从而避免了压印材料的形变，进而避免了纳米结构发生形变，提高了纳米压印设备的压印精度，水循环冷却相对于风冷等方式，避免了基台的震动，有利于提高纳米压印设备的精度。同时，水循环冷却不会影响无尘室的空气循环，有利于洁净度的提高，从而提高产品良率。
附图说明
[0028]图1：纳米压印设备外观图；
[0029]图2：纳米压印基台结构示意图；
[0030]图3：基底单固定单元1俯视图；
[0031]图4：基底固定单元内部冷却水路14结构示意图；
[0032]图5：工作模具固定单元2仰视图；
[0033]图6
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图9：纳米压印基台工作过程不同时间段的示意图。
具体实施方式
[0034]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的
实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0035]请参阅图1
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9，本技术提供一种技术方案：一种避免紫外辐射发热的纳米压印基台，包括壳体5，所述的壳体5内部设置有基底固定单元1，工作模具固定单元2，曝光单元3，排风单元4；所述的基底固定单元1包括第一真空槽12，溢流槽13，第一冷却水路14，支撑块15，升降块16，电机17，第一水箱18；
[0036]基底固定单元1上表面设有第一真空槽12，第一真空槽12底部设有第一真空孔11；
[0037]基底固定单元1的第一真空槽12外设有溢流槽13；
[0038]第一冷却水路14设置在基底固定单元1的内部，第一冷却水路14一端与水箱18连接，一端与第一水箱18内设置的第一水泵181连接，通过第一水泵181完成冷却循环，第一水箱18通过设置在第一水箱18上的第一进水口182进行加水；
[0039]支撑块15位于基底固定单元1的底部，支撑块15通过升降块16和电机 17完成上下方向的移动。
[0040]所述的工作模具固定单元2包括真空孔21，第二真空槽22，工作模具定位辅助槽23，电磁固定块24，第一固定块25，真空泵26，透明石英板27；
[0041]工作模具固定单元2中心设有透明石英板27；
[0042]工作模具固定单元2的下表面，透明石本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种避免紫外辐射发热的纳米压印基台，包括壳体(5)，其特征在于：所述的壳体(5)内部设置有基底固定单元(1)，工作模具固定单元(2)，曝光单元(3)，排风单元(4)；所述的基底固定单元(1)包括第一真空槽(12)，溢流槽(13)，第一冷却水路(14)，支撑块(15)，升降块(16)，电机(17)，第一水箱(18)；基底固定单元(1)上表面设有第一真空槽(12)，第一真空槽(12)底部设有第一真空孔(11)；基底固定单元(1)的第一真空槽(12)外设有溢流槽(13)；第一冷却水路(14)设置在基底固定单元(1)的内部，第一冷却水路(14)一端与水箱(18)连接，一端与第一水箱(18)内设置的第一水泵(181)连接，通过第一水泵(181)完成冷却循环，第一水箱(18)通过设置在第一水箱(18)上的第一进水口(182)进行加水；支撑块(15)位于基底固定单元(1)的底部，支撑块(15)通过升降块(16)和电机(17)完成上下方向的移动。2.根据权利要求1所述的一种避免紫外辐射发热的纳米压印基台，其特征在于：所述的工作模具固定单元(2)包括真空孔(21)，第二真空槽(22)，工作模具定位辅助槽(23)，电磁固定块(24)，固定块(25)，真空泵(26)，透明石英板(27)；工作模具固定单元(2)中心设有透明石英板(27)；工作模具固定单元(2)的下表面，透明石英板(27)的外侧设有方形第二真空槽(22)，第二真空槽(22)槽内设有真空孔(21)，第二真空孔(21)通过气路与真空泵(26)连接，第一真空孔(11)通过气路与真空泵(26)相连；第二真空槽(22)外设有定位辅助槽(23)，定位辅助槽(23)槽深度比第二真空槽(22)低；工作模具固定单元(2)的两端处设置电磁固定块(24)，壳体(5)的设备内部上固定安装第一固定块(25)，通过电磁固定块(24)将工作模具固定单元(2)固定在第一固定块(25)上。3.根据权利要求2所述的一种避免紫外...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，
申请(专利权)人：青岛天仁微纳科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：