本发明专利技术属于镭射膜技术领域，具体涉及一种镭射膜生产电晕处理装置，包括底座，底座上固定安装有两个第一支架，两个第一支架之间安装有电晕机构；底座上固定安装有两个第二支架，两个第二支架之间水平转动安装有位于电晕机构下方的转动辊。通过本发明专利技术对镭射膜进行电晕处理时，电晕状态下的镭射膜上表面与电极之间的距离恒定，进而保证了镭射膜表面的电晕程度均匀，提高了电晕的效果；本发明专利技术中的电晕机构在对镭射膜进行电晕的过程中，各个电极沿着垂直于镭射膜输送方向来回移动，电极在镭射膜上表面形成波浪形的放电轨迹，进一步保证了镭射膜上表面各处的电晕效果均匀。膜上表面各处的电晕效果均匀。膜上表面各处的电晕效果均匀。
【技术实现步骤摘要】
一种镭射膜生产电晕处理装置
[0001]本专利技术属于镭射膜
，具体涉及一种镭射膜生产电晕处理装置。
技术介绍
[0002]镭射膜是采用计算机点阵光刻技术，经模压把具有彩虹动态、三维立体效果的全息图像转移到基材上的新型膜产品；镭射膜具有防伪性能好、抗静电性好和耐油膜侵蚀性能好的特点。电晕处理是一种电击处理，它使镭射膜的表面具有更高的附着性，从而方便在镭射膜上印刷色彩和图案。电晕处理的原理是利用高频率高电压在镭射膜表面电晕放电，而产生低温等离子体，使镭射膜表面产生游离基反应而使聚合物发生交联，从而使得镭射膜表面变粗糙并增加其对极性溶剂的润湿性。
[0003]现有的电晕装置在对镭射膜进行电晕时存在以下的问题：(1)镭射膜在电晕过程中会产生振动，振动状态下的镭射膜表面与电极之间的距离不稳定，从而导致镭射膜表面的电晕程度不均，影响了电晕的效果；(2)电晕过程中各个电极存在一定的间隔，镭射膜表面对应电极的位置和对应相邻电极间隔的位置受到的电晕程度不均，同样会影响电晕的效果。
技术实现思路
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：一种镭射膜生产电晕处理装置，包括底座，底座上固定安装有两个第一支架，两个第一支架之间安装有电晕机构；底座上固定安装有两个第二支架，两个第二支架之间水平转动安装有位于电晕机构下方的转动辊。
[0005]所述电晕机构包括水平固定安装在两个第一支架之间的导向方杆，导向方杆与转动辊的轴线相互平行且导向方杆上滑动安装有条形的滑移座，滑移座上固定安装有调节板，两个第一支架之间转动安装有以螺纹配合方式贯穿调节板的调节丝杠，其中一个第一支架上固定安装有用于驱动调节丝杠的调节电机；滑移座底面沿其长度方向均匀固定安装有若干个电极，电极上通过电性连接有位于滑移座内部的第一导线和第二导线，第一导线上安装有电源，第一导线的端部固定安装有第一接线柱，第二导线的端部固定安装有第二接线柱；滑移座外壁上对应每个电极的位置均固定安装有连接架，连接架上固定安装有套筒，套筒内水平滑动安装有滑动方杆，滑动方杆朝向滑移座的端部固定安装有金属条，金属条的两端分别与对应的第一接线柱和第二接线柱位置对应，金属条与滑移座外壁之间固定连接有复位弹簧。
[0006]所述滑动方杆远离滑移座的一端固定安装有铁块；每个第一支架上均固定安装有导向杆，导向杆上通过滑动配合方式连接有安装板，第一支架上转动安装有以螺纹配合方式贯穿安装板的调节螺杆，安装板上固定安装有与铁块位置对应且平行于导向方杆的磁铁条。
[0007]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述底座上位于电晕机构两侧均固定安装有两个第三支架，对应的两个第三支架之间转动安装有平行于转动辊的张紧辊，转动辊与底座
之间的距离大于张紧辊与底座之间的距离。
[0008]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述底座上固定安装有两个第四支架，两个第四支架之间安装有吸附机构，吸附机构包括固定安装在第四支架上的连接臂，两个连接臂之间固定安装有平行于转动辊的吸附箱，吸附箱朝向转动辊的表面形成开口，吸附箱的左右侧壁均滑动安装有贯穿吸附箱侧壁的挡板，吸附箱远离转动辊的外壁上固定安装有若干个气泵；吸附箱内部安装有框架，框架内侧安装有过滤层。
[0009]作为本专利技术的一种优选技术方案，框架沿竖直方向与吸附箱内壁滑动配合，吸附箱顶部开设有容许框架通过的通槽，框架朝向转动辊的表面沿竖直方向滑动安装有密封板；密封板顶部固定安装有定位片，吸附箱顶部固定安装有固定块，固定块上水平滑动安装有贯穿固定块且与定位片配合的定位销，定位销端部固定安装有端板，端板与固定块之间固定连接有定位弹簧。
[0010]作为本专利技术的一种优选技术方案，所述过滤层与框架活动连接，框架内壁上固定安装有若干个限位片，限位片上水平固定安装有插杆，过滤层上开设有与插杆配合的插孔。
[0011]作为本专利技术的一种优选技术方案，对应的两个第三支架之间安装有防偏机构，防偏机构包括两个活动套设在张紧辊上的防偏环，防偏环上固定安装有防偏板，对应的两个第三支架之间转动安装有双向丝杠，双向丝杠以螺纹配合方式贯穿两个防偏板。
[0012]作为本专利技术的一种优选技术方案，对应的两个防偏环相对的表面沿周向均匀安装有若干个滚珠。
[0013]作为本专利技术的一种优选技术方案，对应的两个防偏环相对的表面上转动安装有平行于张紧辊的安装轴，安装轴上固定套设有压轮，压轮上安装有与其配合的弧形块，压轮与弧形块组成完整的圆形轮。
[0014]作为本专利技术的一种优选技术方案，弧形块表面固定安装有插条，压轮表面开设有与插条配合的条形槽；弧形块上开设有贯穿弧形块的第一圆槽，第一圆槽内转动安装有圆杆，圆杆外端面开设有平口，第一圆槽内壁上开设有环形槽，圆杆上固定安装有位于环形槽内且与环形槽相贴合的转动环，环形槽的圆周面上固定安装有若干个与转动环固定连接的连接弹簧；压轮表面开设有方槽，压轮内部开设有连通方槽的第二圆槽，圆杆内端固定安装有与方槽配合的方形块。
[0015]本专利技术至少具有如下有益效果：(1)、通过本专利技术对镭射膜进行电晕处理时，转动辊与镭射膜下表面相贴合并对镭射膜进行支撑，转动辊与两个张紧辊的配合使得镭射膜紧密贴合在转动辊上，电晕机构对与转动辊贴合的镭射膜放电，避免了电晕过程中镭射膜出现振动的情况，保证了电晕状态下的镭射膜上表面与电极之间的距离恒定，进而保证了镭射膜表面的电晕程度均匀，提高了电晕的效果。
[0016](2)、镭射膜经过电晕后其表面会产生细小的粉末，且镭射膜电晕后的表面较为粗糙，粉末受到外部挤压后会被压实在镭射膜上表面的缝隙中，会严重影响镭射膜的表面质量；针对上述问题，本专利技术设有用于对镭射膜上表面粉末进行吸附的吸附机构，避免镭射膜上表面的粉末在与张紧辊接触时因受到张紧辊的挤压进入镭射膜上表面的缝隙中，保证了镭射膜的表面质量；对吸附机构中的框架和过滤层进行拆卸时，通过密封板的密封作用避免了过滤层上吸附的粉末脱落并掉落至吸附箱内的情况出现，保证了吸附箱内的清洁度。
[0017](3)、本专利技术中的电晕机构在对镭射膜进行电晕的过程中，各个电极沿着垂直于镭
射膜输送方向来回移动，电极在镭射膜上表面形成波浪形的放电轨迹，从而保证了镭射膜上表面各处的电晕效果均匀；当电极移动至镭射膜对应区域以外时，电源自动对电极进行断电，避免了电极空放电的情况出现，一方面节约了电能，另一方面也避免了空放电时产生大量臭氧的情况出现；本专利技术通过对磁铁条的位置进行调节，能够保证对不同宽度的镭射膜进行电晕时电极均能在移动至镭射膜对应区域以外时自动断电。
[0018](4)、本专利技术通过防偏机构对两个张紧辊上的镭射膜进行位置限定，从而保证了转动辊表面待电晕的镭射膜不会出现偏移的情况，防偏机构中的压轮和弧形块配合将镭射膜压紧在张紧辊表面，确保了镭射膜不会出现偏移；压轮和弧形块能够进行拆卸和组装，在对镭射膜进行安装前先拆卸弧形块，使得压轮和张紧辊之间出现空隙，以便于镭射膜进入压轮和张紧辊之间。
附图说明
[0019]下面本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种镭射膜生产电晕处理装置，包括底座(1)，底座(1)上固定安装有两个第一支架(2)，两个第一支架(2)之间安装有电晕机构(3)，其特征在于：底座(1)上固定安装有两个第二支架(4)，两个第二支架(4)之间水平转动安装有位于电晕机构(3)下方的转动辊(5)；所述电晕机构(3)包括水平固定安装在两个第一支架(2)之间的导向方杆(301)，导向方杆(301)与转动辊(5)的轴线相互平行且导向方杆(301)上滑动安装有条形的滑移座(302)，滑移座(302)上固定安装有调节板(303)，两个第一支架(2)之间转动安装有以螺纹配合方式贯穿调节板(303)的调节丝杠(304)，其中一个第一支架(2)上固定安装有用于驱动调节丝杠(304)的调节电机(305)；滑移座(302)底面沿其长度方向均匀固定安装有若干个电极(306)，电极(306)上通过电性连接有位于滑移座(302)内部的第一导线(307)和第二导线(308)，第一导线(307)上安装有电源(321)，第一导线(307)的端部固定安装有第一接线柱(309)，第二导线(308)的端部固定安装有第二接线柱(310)；滑移座(302)外壁上对应每个电极(306)的位置均固定安装有连接架(311)，连接架(311)上固定安装有套筒(312)，套筒(312)内水平滑动安装有滑动方杆(313)，滑动方杆(313)朝向滑移座(302)的端部固定安装有金属条(314)，金属条(314)的两端分别与对应的第一接线柱(309)和第二接线柱(310)位置对应，金属条(314)与滑移座(302)外壁之间固定连接有复位弹簧(315)；所述滑动方杆(313)远离滑移座(302)的一端固定安装有铁块(316)；每个第一支架(2)上均固定安装有导向杆(317)，导向杆(317)上通过滑动配合方式连接有安装板(318)，第一支架(2)上转动安装有以螺纹配合方式贯穿安装板(318)的调节螺杆(319)，安装板(318)上固定安装有与铁块(316)位置对应且平行于导向方杆(301)的磁铁条(320)。2.根据权利要求1所述一种镭射膜生产电晕处理装置，其特征在于：所述底座(1)上位于电晕机构(3)两侧均固定安装有两个第三支架(6)，对应的两个第三支架(6)之间转动安装有平行于转动辊(5)的张紧辊(7)，转动辊(5)与底座(1)之间的距离大于张紧辊(7)与底座(1)之间的距离。3.根据权利要求1所述一种镭射膜生产电晕处理装置，其特征在于：所述底座(1)上固定安装有两个第四支架(8)，两个第四支架(8)之间安装有吸附机构(9)，吸附机构(9)包括固定安装在第四支架(8)上的连接臂(901)，两个连接臂(901)之间固定安装有平行于转动辊(5)的吸附箱(902)，吸附箱(902)朝向转动辊(5)的表面形成开口，吸附箱(902)的左右侧壁均滑动安装有贯穿吸附箱(902)侧壁的挡板(903)，吸附箱(902)远离转动辊(5)的外壁上固定安装有若干个气泵(904)；吸附箱(90...
【专利技术属性】
技术研发人员：何晓明，
申请(专利权)人：新沂崚峻光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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