确定差分迁移谱中幕板的完好性制造技术

DMS设备将包括化学改性剂的幕气接收到其幕板中。在接收分析物的离子之前或同时，DMS设备使CoV步进通过一系列值，以便将不同的CoV值施加到源自化学改性剂的至少一种前体离子。对于一系列值中的每个CoV值，质谱仪选择并质量分析至少一种前体离子。产生对于一系列值中的每个CoV值的强度。根据测量的强度计算强度对CoV值的峰。计算峰的代表性CoV值。计算代表性CoV值与代表未污染的幕板的已知CoV值之间的差。如果差大于或等于预定阈值，则确定幕板被污染。污染。污染。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】确定差分迁移谱中幕板的完好性
[0001]相关美国申请
[0002]本申请要求于2020年1月14日提交的美国临时申请序列No.62/960,736的优先权的权益，其全部内容通过引用合并于此。


[0003]本文的教导涉及操作差分迁移谱(DMS)设备和质谱仪以确定DMS能够执行诸如例如确定DMS的幕板是否被污染之类的分析。更具体地，本文的教导涉及分析源自化学改性剂的离子以确定DMS设备的幕板是否被污染的系统和方法，并且系统能够执行分析。可以与处理器、控制器、微控制器或诸如图1的计算机系统之类的计算机系统结合执行本文公开的系统和方法。

技术介绍

[0004]DMS幕板污染背景
[0005]DMS设备的用户常常可能具有以其他方式再现针对给定的感兴趣的分析物的稳定的补偿电压(CoV)的问题。在一些情况下，期望的CoV将由于一些未知和不可预见的实验变量而偏移，常常需要大量的现场服务级别干预且在用户方面有一些困惑。
[0006]已观察到分析物离子的CoV值偏移的一个原因是使用了被污染的作为幕组件的一部分的幕板。本质上，当在DMS实验中采用幕板时，其用于提供DMS单元的加热，以及用作添加到DMS载气(即，幕气)中的任何挥发性化学改性剂的扩散器和混合器。预期一旦DMS和幕板硬件被定位以及温度被分析软件指定，用户需大约30分钟才能实现针对给定的分析物离子的稳定、可重复的CoV测量。在大多数情况下，这正是在发生的。除了引导和加热DMS单元的传输气体外，幕板还用作在进入质谱仪和DMS之前帮助离子去溶剂，以及阻止化学基质及其簇进入DMS和/或质谱仪。随着使用时间的推移，这可能导致幕板的污染。
[0007]然而，有时观察到在使用了经大量使用的DMS幕板的受控条件下，在操作温度(通常为150℃)和幕气设置(CUR压力＝20psi)下的标准30分钟平衡期对于非常多的分析物离子不会产生预期的CoV偏移。对于具有低于400的m/z值的离子尤其如此。换句话说，幕板污染似乎不利地影响了针对分析物离子的CoV值的再现性。
[0008]如果幕板污染可以被发现，则存在针对该问题的许多解决方法。例如，这个问题的最终解决方法是彻底拆卸幕板，更换陶瓷珠，并彻底清洁加热器和幕板。不幸的是，这种干预需要大量的停机时间和体力劳动。另一个更简单的解决方案涉及在更高的温度(～300℃)和幕气流(CUR压力＝50psi)下平衡脏幕板达延长的时间段(45分钟)。
[0009]然而，无论选择哪种解决方案，用户仍然必须在实施这样的幕板清洁干预之前评估针对给定离子(常常是分析物离子)的不正确CoV偏移的程度。换句话说，用户必须在承担清洁幕板的代价之前确定幕板清洁是必须的。
[0010]目前，没有可用于在分析物离子被分析之前或同时来评定DMS设备的幕板的状态的诊断测试。作为结果，需要系统和方法来确定DMS设备的幕板是否被污染。
[0011]DMS设备背景
[0012]图2是示例性DMS设备的示意图200。DMS设备200包括两个平行的平板，板210和板220。射频(RF)电压源230施加跨板210和板220的RF分离电压(SV)，而直流(DC)电压源240施加跨板210和板220的DC补偿电压(CoV)。离子250在开口260处在传输气体中进入DMS设备200。不像传统的离子迁移，离子250并不随着它们穿过设备及时分离。相反，离子250基于它们的迁移率在所施加的RF电压源230的高场部分和低场部分之间的差异而在轨迹上分离。在板210和板220之间施加高场达短时间段，并且然后在相反方向上施加低场达更长时间段。感兴趣的化合物的离子的在低场和高场迁移率之间的任何差异导致其向板中的一个板迁移。通过施加第二电压偏移(被称为DC电压源240的CoV，可以用于选择性地过滤掉所有其他离子的特定于化合物的参数)将离子引导回朝向设备的中心线。CoV的快速切换允许用户同时监测许多不同的化合物。由SV和CoV的组合选择的离子270通过开口280离开DMS设备200到达质谱仪的其余部分(未示出)。例如，DMS设备200位于离子源设备(未示出)和质谱仪的其余部分之间。
[0013]通常，DMS设备200具有两个操作模式。在第一模式中，DMS设备200开启，施加SV和CoV电压，并且离子被分离。这是例如启用模式。
[0014]在第二操作模式中，DMS设备200关闭，SV被设置为零并且离子250简单地从开口260传输到开口280。这是例如DMS设备200的禁用模式或穿透模式。
[0015]在启用模式中，DMS设备500可以在25毫秒(ms)内获取单个MRM转换的数据，例如包括20ms的扫描间暂停时间。在穿透模式中，通过DMS设备500的延迟是可忽略的。
[0016]质谱技术背景
[0017]质谱仪常常与色谱或其他分离系统(诸如离子迁移)耦合，以便识别和表征从样品中洗脱的已知的感兴趣的化合物。在这样的耦合系统中，洗脱溶剂被离子化，并以特定的时间间隔(被称为保留时间)从洗脱溶剂中获得一系列质谱。这些保留时间的范围从例如1秒到100分钟或更长。一系列质谱形成色谱或提取离子色谱(XIC)。
[0018]在XIC中找到的峰用于识别或表征样品中的已知肽或化合物。更具体地，峰的保留时间和/或峰的面积用于识别或表征(量化)样品中的已知肽或化合物。
[0019]在传统的分离耦合质谱系统中，选择已知化合物的片段或产物离子用于分析。然后，对包括产物离子的质量范围在分离的每个间隔处执行串联质谱或质谱/质谱(MS/MS)扫描。随时间来收集并作为例如XIC或谱的收集来分析在每次MS/MS扫描中找到的产物离子的强度。
[0020]通常，串联质谱或MS/MS是用于分析化合物的众所周知的技术。串联质谱涉及来自样品的一种或多种化合物的离子化、一种或多种化合物的一种或多种前体离子的选择、一种或多种前体离子碎裂成片段或产物离子，以及产物离子的质量分析。
[0021]串联质谱可以提供定性和定量信息两者。产物离子谱可以用于识别感兴趣的分子。一种或多种产物离子的强度可以用于定量样品中存在的化合物的量。
[0022]可以使用串联质谱仪来执行大量不同类型的实验方法或工作流程。这些工作流程的三大类是目标采集、信息依赖采集(IDA)或数据依赖采集(DDA)、以及数据非依赖采集(DIA)。
[0023]在目标采集方法中，针对感兴趣的化合物预定义前体离子到产物离子的一个或多
个转变。随着样品被引入到串联质谱仪中，在多个时间段或周期中的每个时间段或周期期间询问(interrogate)或监测一个或多个转变。换句话说，质谱仪选择并碎裂每个转变的前体离子，并仅对转变的产物离子执行目标质量分析。作为结果，针对每个转变产生强度(产物离子强度)。目标采集方法包括但不限于多反应监测(MRM)和选择反应监测(SRM)。
[0024]在IDA方法中，用户可以指定用于执行产物离子的非目标质量分析的标准，同时将样品引入串联质谱仪中。例如，在ID本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于确定差分迁移谱DMS设备的幕板是否被污染的系统，包括：DMS设备，所述DMS设备包括幕板，所述DMS设备将包括化学改性剂的幕气接收到幕板中，并且在将分析物的离子接收到DMS设备中之前或同时，执行诊断实验，在所述诊断实验中所述DMS设备的补偿电压CoV步进通过一系列值，以便将不同的CoV值施加到源自所述化学改性剂的至少一种前体离子；以及质谱仪，在所述诊断实验期间，对于所述一系列值中的每个CoV值，所述质谱仪选择所述至少一种前体离子并对所述至少一种前体离子进行质量分析，从而针对所述一系列值中的每个CoV值产生所述至少一种前体离子的强度，根据针对所述一系列值中的每个CoV值为所述至少一种前体离子测量的强度来计算强度对CoV值的峰，计算峰的代表性CoV值，计算所述代表性CoV值与代表未污染幕板的已知CoV值或已知CoV值范围之间的差的绝对值，以及如果差的绝对值大于或等于预定阈值，则确定所述幕板被污染。2.如权利要求1所述的系统，还包括显示设备，其中如果确定所述幕板被污染，则所述质谱仪在所述显示设备上显示描述所述幕板被污染的信息。3.如权利要求1所述的系统，还包括显示设备，其中如果所述差的绝对值小于所述预定阈值，则所述质谱仪确定所述幕板未被污染并且在所述显示设备上显示描述所述幕板未被污染的信息。4.如权利要求1所述的系统，其中所述化学改性剂包括甲醇MeOH。5.如权利要求4所述的系统，其中源自所述化学改性剂的至少一种前体离子包括通过添加碱金属离子而转化为前体离子的甲醇。6.如权利要求4所述的系统，其中源自所述化学改性剂的至少一种前体离子包括通过添加钠离子而转化为前体离子的一分子的甲醇[MeOH+Na]
+
。7.如权利要求1所述的系统，其中所述化学改性剂包括异丙醇IPA。8.如权利要求7所述的系统，其中源自所述化学改性剂的至少一种前体离子包括通过添加质子而转化为前体离子的一分子的异丙醇[IPA+H]
+
。9.如权利要求7所述的系统，其中源自所述化学改性剂的至少一种前体离子包括通过添加质子而转化为前体离子的两分子的异丙醇[2
×
IPA+H]
+
。10.如权利要求7所述的系统，其中源自所述化学改性剂的至少一种前体离子包括通过添加碱金属离子而转化为前体离子的异丙醇。11.如权利要求1所述的系统，其中所述化学改性剂包括乙腈ACN。12.如权利要求13所述的系统，其中源自所述化学改性剂的至少一种前体离子包括通过添加碱金属离子而转化为前体离子的乙腈。13.如权利要求10所述的系统，其中源自所述化学改性剂的至少一种前体离子包括通过添加钠离子而转化为前体离子的一分子的乙腈[ACN+Na]
+
。14.一种用于确定差分迁移谱DMS设备的幕板是否被污染的方法，包括：使用处理器指示包括幕板的DMS设备将包括化学改性剂的幕气接收到幕板中，并且在将分析物的离子接收到DMS设备中之前或同时执行诊断实验，在所述诊断实验中所述DMS设备的补偿电压C...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：DH科技发展私人贸易有限公司，
类型：发明
国别省市：