提供一种将从喷嘴的下端部去除的涂布液顺利地排出至涂布装置的外部的喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置，其包括：附着物去除部，由支撑构件予以支撑；移动部，在使喷嘴抵接构件抵接于喷嘴的下端部的状态下，使附着物去除部沿喷出口的延伸设置方向移动；回收部，在附着物去除部的下方，对通过移动部所造成的喷嘴抵接构件的移动被去除后经由附着物去除部朝下方流动的涂布液进行回收；及排出部，将由回收部所回收的涂布液引导并排出至涂布装置的外部，回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由底部及侧壁所形成的回收区域使涂布液朝向排出部流动，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。底部的边部竖立设置。底部的边部竖立设置。
【技术实现步骤摘要】
喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置
[0001]本专利技术涉及一种涂布装置以及喷嘴清洗技术，所述涂布装置从设在喷嘴的下端部的喷出口对液晶显示装置用玻璃基板、半导体基板、等离子体显示面板(Plasma Display Panel，PDP)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、彩色滤光器用基板、记录盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、矩形玻璃基板、薄膜液晶用柔性基板、有机电致发光(Electroluminescence，EL)用基板(以下简称作“基板”)喷出涂布液而进行涂布，所述喷嘴清洗技术是通过喷嘴抵接构件来去除并清洗附着于所述喷嘴的下端部的附着物。尤其涉及一种喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置。
技术介绍
[0002]为了对基板供给涂布液，一般使用例如像专利文献1所记载的那样具有狭缝状喷出口的喷嘴。此种喷嘴中，有时涂布液会附着于喷嘴的下端部。若附着物干燥并固化而掉落至基板，则会污染基板。因此，专利文献1所记载的装置中，在从喷嘴对基板供给涂布液之前，通过喷嘴抵接构件来去除并清洗附着于喷嘴的下端部的侧面的涂布液。而且，以从下方包覆喷嘴抵接构件的方式来配置薄膜，将由喷嘴抵接构件所去除的涂布液回收至薄膜的中央部，然后排出至涂布装置的外部。
[0003][现有技术文献][0004][专利文献][0005][专利文献1]日本专利特开2020
‑
37092号公报
技术实现思路
[0006][专利技术所要解决的问题][0007]所述薄膜的更换是通过手动作业来进行。因此，在安装薄膜时，容易造成褶皱。要完全无褶皱则需要相当的时间。而且，即便无褶皱地进行了安装，仍有时会因经时变化以及作业者的不注意而产生褶皱。若因此类原因产生褶皱，则涂布液会滞留在所述褶皱部分，从而难以稳定地回收涂布液并排出至涂布装置的外部。
[0008]本专利技术是有鉴于所述问题而完成，其目的在于提供一种能够将从喷嘴的下端部去除的涂布液顺利地排出至涂布装置的外部的喷嘴清洗技术。
[0009][解决问题的技术手段][0010]本专利技术的第一实施例是一种喷嘴清洗装置，装备在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将涂布液涂布至基板的涂布装置中，对喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗装置包括：附着物去除部，在将喷嘴抵接构件朝向喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑；移动部，在使喷嘴抵接构件抵接于喷嘴的下端部的状态下，使附着物去除部沿喷出口的延伸设置方向移动；回收部，在附着物去除部的下方，对通过移动部所造成的喷嘴抵接构件的移动被去除后经由附着物去除部朝下方流动的涂布液进行回收；以及排出部，将由回收部所回收的涂布液引导并排出至涂布装置的外部，回收部是具有底部与侧壁的结构
体，沿着由底部以及侧壁所形成的回收区域使涂布液朝向排出部流动，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。
[0011]而且，本专利技术的第二实施例是一种喷嘴清洗方法，是在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而对涂布液进行涂布的涂布装置中，对喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗方法包括：第一工序，使在将喷嘴抵接构件朝向喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑的附着物去除部，在使喷嘴抵接构件抵接于喷嘴的下端部的状态下沿喷出口的延伸设置方向移动，从而通过喷嘴抵接构件来去除附着于喷嘴的下端部的涂布液；第二工序，在附着物去除部的下方，对被喷嘴抵接构件去除后经由附着物去除部朝下方流动的涂布液进行回收；以及第三工序，将所回收的涂布液经由排出部而排出至涂布装置的外部，第二工序是通过包含具有底部及侧壁的结构体的回收部来回收涂布液，并使其沿着由底部以及侧壁所形成的回收区域而朝向排出部流动的工序，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。
[0012]进而，本专利技术的第三实施例包括：涂布部，从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将涂布液涂布至基板；以及所述喷嘴清洗装置。
[0013]像这样构成的专利技术中，通过设于附着物去除部的喷嘴抵接构件来从喷嘴去除涂布液。所述涂布液经由附着物去除部而朝下方流动，并被回收部回收。回收部包含具有底部及侧壁的结构体，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。所述回收部中，涂布液沿着由底部以及侧壁所形成的回收区域而朝向排出部流动。并且，所述涂布液经由排出部而排出至涂布装置的外部。
[0014][专利技术的效果][0015]如上所述，根据本专利技术，能够将从喷嘴的下端部去除的涂布液顺利地排出至涂布装置的外部。
附图说明
[0016]图1是示意性地表示装备本专利技术的喷嘴清洗装置的一实施方式的涂布装置的立体图。
[0017]图2是示意性地表示图1所示的涂布装置的侧面图。
[0018]图3是概略地表示图1所示的涂布装置的各部的配置的上表面图。
[0019]图4是示意性地表示本专利技术的喷嘴清洗装置的第一实施方式的清洗单元的结构的图。
[0020]图5是表示图4所示的清洗单元的附着物去除部以及回收部的结构的立体图。
[0021]图6是示意性地表示本专利技术的喷嘴清洗装置的第二实施方式的清洗单元的结构的图。
[0022]图7是表示图6所示的清洗单元的附着物去除部以及回收部的结构的立体图。
[0023][符号的说明][0024]1：涂布装置
[0025]2：狭缝喷嘴(涂布部)
[0026]2a：(喷嘴的)下端部
[0027]3：基板
[0028]4：载台
[0029]5：涂布处理部(涂布部)
[0030]6：喷嘴维护单元
[0031]7：清洗单元(喷嘴清洗装置)
[0032]8：清洗单元
[0033]21：喷出口
[0034]31：基板的表面
[0035]41：保持面
[0036]51：喷嘴支撑体
[0037]51a：支撑构件
[0038]51b：升降机构
[0039]52：导轨
[0040]53：狭缝喷嘴移动部
[0041]54：线性马达
[0042]54a：定子
[0043]54b：动子
[0044]55：线性编码器
[0045]55a：标尺部
[0046]55b：检测部
[0047]71：附着物去除部
[0048]72：喷嘴清洗移动部
[0049]73、75：回收部
[0050]74：排出部
[0051]81：清洗槽
[0052]100：控制部
[0053]510：安装部位
[0054]711：刮涂板
[0055]712：刮刀
[0056]713：支撑构件
[0057]713a：倾斜面
[0058]714：引导构件
[0059]714a：狭小部位
[0060]715：溜槽
...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种喷嘴清洗装置，装备在从设在喷嘴的下端部的狭缝状的喷出口喷出涂布液而将所述涂布液涂布至基板的涂布装置中，对所述喷嘴进行清洗，所述喷嘴清洗装置的特征在于包括：附着物去除部，在将喷嘴抵接构件朝向所述喷嘴的下端部的状态下由支撑构件予以支撑；移动部，在使所述喷嘴抵接构件抵接于所述喷嘴的下端部的状态下，使所述附着物去除部沿所述喷出口的延伸设置方向移动；回收部，在所述附着物去除部的下方，对通过所述移动部所造成的所述喷嘴抵接构件的移动而被去除后经由所述附着物去除部朝下方流动的所述涂布液进行回收；以及排出部，将由所述回收部所回收的所述涂布液引导并排出至所述涂布装置的外部，所述回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由所述底部以及所述侧壁所形成的回收区域而使所述涂布液朝向所述排出部流动，所述底部在所述附着物去除部的下方具有朝向所述排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从所述底部的边部竖立设置。2.根据权利要求1所述的喷嘴清洗装置，其中所述回收部还具有相对于排液口而开闭自如的开闭构件，所述排液口在所述回收区域中的在铅垂方向上最低而所述涂布液汇集的集聚部位以面向所述排出部的方式开口于所述结构体，通过利用所述开闭构件来封堵所述排液口，从而在所述回收区域中贮存所述涂布液，另一方面，通过解除所述开闭构件所造成的所述排液口的封堵而敞开所述排液口，从而使所述涂布液流出至所述排出部。3.根据权利要求2所述的喷嘴清洗装置，其中所述回收部在所述内底面以自铅垂上方俯视时从下方覆盖所述附着物去除部的方式而配置的状态下，与所述附着物去除部一体地通过所述移动部而沿所述延伸设置方向移动。4.根据权利要求3所述的喷嘴清洗装置，其中所述排出部被配置在所述回收部的移动范围的下方，所述开闭构件在位于所述移动范围中的所述回收部偏离所述排出部的正上方位置的位置的期间封堵所述排液口，当所述回收部位于所述排出部的正上方位置时敞开所述排液口。5.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：柏野翔伍，高村幸宏，安陪裕滋，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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