一种晶圆清洗设备的烘干机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶圆清洗设备的烘干机构，属于烘干设备技术领域，包括烘干腔体、全方位旋转装置、外部上料装置和收集装置，所述烘干腔体上设有上料口，所述全方位旋转装置设置在烘干腔体的内部，所述外部上料装置设有若干个，若干个所述外部上料装置均匀的布设在全方位旋转装置上，所述收集装置设有若干个，若干个所述收集装置均对应的设置在外部上料装置的下端，本装置能够将清洗完成的晶圆从烘干腔体的外部进行上下取放，避免了人员在烘干腔体内部上下取放产品时，造成手部烫伤，同时，在晶圆烘干作业中，能够均匀的对产品进行烘干作业。作业。作业。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆清洗设备的烘干机构


[0001]本技术涉及烘干设备
，尤其涉及一种晶圆清洗设备的烘干机构。

技术介绍

[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆。国内晶圆生产线以8英寸和12英寸为主，在半导体晶圆生产过程中，无法避免会有生产环境中的小灰尘或是工艺反应物掉落在晶圆上，如果不及时清除，会使晶圆良率降低，影响产品质量稳定性。
[0003]在对晶圆表面刷洗去掉灰尘过程中，需要对晶圆两面都进行清洗，晶圆在清洗完成后，需要对其进行烘干作业，现有技术中晶圆在烘干作业时，都是通过人员将晶圆放置到烘干腔体内，并且将烘干完成的晶圆取出，人员在烘干腔体内部取放产品时，会造成手部烫伤，同时，晶圆在烘干时，晶圆上的水分由于热的蒸发会顺着晶圆往下流，水分会堆积在晶圆的下方，从而会造成烘干效率会降低。

技术实现思路

[0004]本技术实施例提供一种晶圆清洗设备的烘干机构，以解决现有技术中人员在烘干腔体内部取放产品时，会造成手部烫伤，以及烘干效率会降低的技术问题。
[0005]本技术实施例采用下述技术方案：包括烘干腔体、全方位旋转装置、外部上料装置和收集装置，所述烘干腔体上设有上料口，所述全方位旋转装置设置在烘干腔体的内部，所述外部上料装置设有若干个，若干个所述外部上料装置均匀的布设在全方位旋转装置上，所述收集装置设有若干个，若干个所述收集装置均对应的设置在外部上料装置的下端。
[0006]进一步的，所述全方位旋转装置包括旋转电机、旋转轴、旋转柱和旋转杆，所述旋转电机设置在烘干腔体的内侧壁上，所述旋转轴设置在旋转电机的输出端上且一端连接在烘干腔体的内侧壁上与烘干腔体为转动连接，所述旋转柱设有两个，两个所述旋转柱对称套设在旋转轴上，所述旋转杆设有若干个，若干个所述旋转杆均设置在对应的旋转柱上。
[0007]进一步的，每个所述外部上料装置均包括上料杆、上料板、上料液压缸、上料块和上料座，所述上料杆设有两个，两个所述上料杆均对应的套设在旋转柱上且与旋转柱活动连接，所述上料板设置在两个所述上料杆的下端，所述上料液压缸设有两个，两个所述上料液压缸对称设置在上料板的两侧，两个所述上料液压缸的末端与上料板为转动连接，所述上料块设有若干个，若干个所述上料块为两组对称设置在上料板的两侧上且与上料板转动连接，所述上料座设置在若干个上料块上且与上料块转动连接，所述上料座的上端设有若干个存放槽，两个所述上料液压缸的输出端分别连接在对应的上料块上且与上料块转动连接。
[0008]进一步的，若干个所述存放槽上均设有若干个流出孔，若干个所述存放槽的一侧
均设有辅助侧板。
[0009]进一步的，每个所述收集装置均包括收集杆和收集腔体，所述收集杆设有若干个，若干个所述收集杆均设置在上料座的下端，所述收集腔体设置在若干个收集杆上且位于上料座的下方，所述收集腔体为可拆卸设置。
[0010]本技术实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到以下有益效果：
[0011]其一，当准备将清洗完成的晶圆放置到烘干腔体内部进行烘干作业时，首先通过全方位旋转装置运行带动外部上料装置转动，使得其中一个外部上料装置与上料口处于一个平行状态，能够使得上料座运动出烘干腔体内，这时，通过上料液压缸运行带动上料液压缸输出端上的上料块向上料口处运动，从而带动上料座运动出上料口内，此时，上料座上的存放槽处于烘干腔体的外侧，这时，通过将晶圆逐个放置到存放槽内，将其放置完成后，通过上料液压缸的运行带动上料座回到原来位置，此时，对其中一个外部上料装置已经放置完成产品，再通过全方位旋转装置运行带动外部上料装置转动，使得另一个外部上料装置位于上料口处，通过上述所述循环作业，将若干个所述外部上料装置全部放置完产品后，将上料口关闭，从而实现将晶圆从烘干腔体的外部接线上料到烘干腔体内，避免人员手部烫伤，相反在晶圆烘干完成后，通过上述所述以上料方式，将晶圆取下即可。
[0012]其二，在晶圆放置到存放槽内后，通过辅助侧板能够便于晶圆放置，晶圆在烘干腔体内进行烘干作业时，晶圆上的水分由于热的蒸发，会顺着晶圆往下流，如果水分始终处于晶圆上，无法排出流出，会导致烘干效率降低，因此通过流出孔能够使得晶圆上的水分流出，从而加快了晶圆的烘干效果，提高了工作效率。
[0013]其三，当晶圆上的水分通过流出孔流出后，会掉落到收集腔体内进行存放，在晶圆烘干作业完成后，可通过将收集腔体拆卸，处理没有烘干多余的水分。
附图说明
[0014]此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本技术的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0015]图1为本技术立体结构示意图；
[0016]图2为本技术的局部结构示意图；
[0017]图3为本技术的外部上料装置结构示意图；
[0018]图4为本技术的外部上料装置部分结构示意图；
[0019]图5为本技术的全方位旋转装置结构示意图；
[0020]图6为本技术的侧视图
[0021]图7为图4中A处放大图。
[0022]附图标记
[0023]烘干腔体1、上料口11、全方位旋转装置2、旋转电机21、旋转轴22、旋转柱23、旋转杆24、外部上料装置3、上料杆31、上料板32、上料液压缸33、上料块34、上料座35、存放槽351、流出孔352、辅助侧板353、收集装置4、收集杆41、收集腔体42。
具体实施方式
[0024]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术具体实施例及相应的附图对本技术技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]以下结合附图，详细说明本技术各实施例提供的技术方案。
[0026]本技术实施例提供一种晶圆清洗设备的烘干机构，包括烘干腔体1、全方位旋转装置2、外部上料装置3和收集装置4，所述烘干腔体1上设有上料口11，所述全方位旋转装置2设置在烘干腔体1的内部，所述外部上料装置3设有若干个，若干个所述外部上料装置3均匀的布设在全方位旋转装置2上，所述收集装置4设有若干个，若干个所述收集装置4均对应的设置在外部上料装置3的下端，本装置能够将清洗完成的晶圆从烘干腔体1的外部进行上下取放，避免了人员在烘干腔体1内部上下取放产品时，造成手部烫伤，同时，在晶圆烘干作业中，能够均匀的对产品进行烘干作业。
[0027]优选的，所述全方位旋转装置2包括旋转电机21、旋转轴22、旋转柱23和旋转杆24，所述旋转电机21设置在烘干本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆清洗设备的烘干机构，其特征在于，包括烘干腔体(1)、全方位旋转装置(2)、外部上料装置(3)和收集装置(4)，所述烘干腔体(1)上设有上料口(11)，所述全方位旋转装置(2)设置在烘干腔体(1)的内部，所述外部上料装置(3)设有若干个，若干个所述外部上料装置(3)均匀的布设在全方位旋转装置(2)上，所述收集装置(4)设有若干个，若干个所述收集装置(4)均对应的设置在外部上料装置(3)的下端。2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗设备的烘干机构，其特征在于，所述全方位旋转装置(2)包括旋转电机(21)、旋转轴(22)、旋转柱(23)和旋转杆(24)，所述旋转电机(21)设置在烘干腔体(1)的内侧壁上，所述旋转轴(22)设置在旋转电机(21)的输出端上且一端连接在烘干腔体(1)的内侧壁上与烘干腔体(1)为转动连接，所述旋转柱(23)设有两个，两个所述旋转柱(23)对称套设在旋转轴(22)上，所述旋转杆(24)设有若干个，若干个所述旋转杆(24)均设置在对应的旋转柱(23)上。3.根据权利要求2所述的一种晶圆清洗设备的烘干机构，其特征在于，每个所述外部上料装置(3)均包括上料杆(31)、上料板(32)、上料液压缸(33)、上料块(34)和上料座(35)，所述上料杆(31)设有两个，两个所述上料杆(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆先锋，
申请(专利权)人：无锡颂林达科技有限公司，
类型：新型
国别省市：