本发明专利技术属于纯水生产领域，具体的说是一种用于半导体生产的纯水处理工艺，该工艺具体为：S1：将原料水通过过滤网进行第一次过滤，去除原料水中的大体积杂质，得到过滤水一，将过滤水一静置处理，待过滤水一出现明显分层后，抽取上清液，让上清液在压力作用下通过两次反渗透膜，得到过滤水二；S2：将过滤水二投入二级反渗透装置中进行二次过滤，得到过滤水三，使用紫外消毒设备对过滤水三进行消毒处理，再将消毒后的过滤水三通过活性炭层进行最后吸附处理，并得到最终的纯水；通过此种设置，在增加过滤效果的同时，还能配合驱动轮的转动，让三组反渗透膜不断进行轮换，减少单个反渗透膜使用过度，导致过滤效果较低的问题。导致过滤效果较低的问题。导致过滤效果较低的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体生产的纯水处理工艺
[0001]本专利技术属于纯水生产领域，具体的说是一种用于半导体生产的纯水处理工艺。
技术介绍
[0002]超纯水，也叫做纯水，电阻率达到18MΩ*cm(25℃)的水，常用于集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。
[0003]公开号为CN103168006A的一项中国专利公开了超纯水制造方法，通过硝化菌群的参与，尿素分解效率得到提高，因此，在原水的有机物浓度高的情形下，特别是易分解性的有机物浓度高时，BOD同化细菌(从属营养细菌)的增殖、活性增高，并且其他的原水中含有的磷或微量金属(矿物质成分等)等的营养源也被BOD同化细菌利用等，因此，硝化菌群的增殖、活性降低。
[0004]现有的处理工艺中往往只让水通过一次反渗透膜，不仅过滤效果一般，且长期使用同一个反渗透膜容易导致，该反渗透膜快速损坏，且在反渗透膜性能降低和损坏时，只能停止机械进行清洗更换，导致生产效率较低的问题。
[0005]为此，本专利技术提供一种用于半导体生产的纯水处理工艺。
技术实现思路
[0006]为了弥补现有技术的不足，解决
技术介绍
中所提出的至少一个技术问题。
[0007]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：本专利技术所述的一种用于半导体生产的纯水处理工艺，该工艺具体为：
[0008]S1：将原料水通过过滤网进行第一次过滤，去除原料水中的大体积杂质，得到过滤水一，将过滤水一静置处理，待过滤水一出现明显分层后，抽取上清液，让上清液在压力作用下通过两次反渗透膜，得到过滤水二；
[0009]S2：将过滤水二投入二级反渗透装置中进行二次过滤，得到过滤水三，使用紫外消毒设备对过滤水三进行消毒处理，再将消毒后的过滤水三通过活性炭层进行最后吸附处理，并得到最终的纯水；
[0010]S3：在进行进行两次反渗透膜处理时，只需将过滤水一直接投入处理箱中，配合传送带和反渗透膜的配合即可让过滤水一快速通过两层反渗透膜，同时配合传送带和震动块的设置，让三组反渗透膜可以循环使用；
[0011]通过此种设置，在增加过滤效果的同时，还能配合驱动轮的转动，让三组反渗透膜不断进行轮换，减少单个反渗透膜使用过度，导致过滤效果较低的问题。
[0012]优选的，所述处理箱的内侧开设有贯穿两端的流通槽，所述处理箱的内侧设置有三组驱动轮，三组驱动轮的外侧传动连接有传送带，所述传送带的中部固定连接有三组等距设置反渗透膜，所述传送带呈三角形设置，部分传送带位于流通槽的内侧，将需要过滤的水源通过流通槽的一端输入，再从另一端输出，通过设置三组驱动轮和传送带的设置，让传送带形成三角形，再配合传送带上等距设置的三组反渗透膜，让流通槽的内侧始终存在两
组反渗透膜，让进入流通槽的水可以经过两层反渗透膜，在增加过滤效果的同时，还能配合驱动轮的转动，让三组反渗透膜不断进行轮换，减少单个反渗透膜使用过度，导致过滤效果较低的问题。
[0013]优选的，所述处理箱的内部开设有清理槽，所述清理槽中设置有清洗液，所述清理槽位于流通槽的下方，部分传送带位于清理槽的中部，所述清理槽的顶端连接有进水管，所述清理槽的底端连接有排出管，配合传送带和清理槽的设置，在正常过滤过程中，让两组反渗透膜在流通槽中正常使用，另一组使用过的反渗透膜在清理槽中与清洗液进行充分浸泡，清洗液可以为百分之零点四的HCL溶液，通过长时间的浸泡，可有效的软化反渗透膜外侧污垢，之后通过进水管向清理槽中灌入清洗水，灌满后再将排出管开启，让水流不断冲刷反渗透膜，直到排出的液体清澈以及PH数值正常为止，通过此种设置，实现了不断清洁并循环利用反渗透膜的功能，保证了过滤效率，同时无需停止机械，也可完成反渗透膜的清洁工作。
[0014]优选的，所述清理槽呈椭球形设置，所述椭球形清理槽的宽度大于传送带的宽度，所述清理槽的内侧设置有两组震动块，所述震动块的一侧设置有动力组件，所述动力组件用于带动震动块转动，工作时，通过动力组件带动震动块进行旋转，不仅可以对清洗液进行搅动，增加清洗液与反渗透膜的接触程度，让浸泡软化效果进一步提高，同时随着震动块的转动，还可以拍打传送带，进而带动反渗透膜进行抖动，让附着在外侧污垢可以更容易被软化抖落，不仅提高了清洁效果，且可以减低清洁时间。
[0015]优选的，所述震动块包括圆球，所述圆球的一端偏一侧固定安装有拨动杆，所述拨动杆呈长条形设置，且拨动杆的一端固定连接有撞击块，工作时，配合拨动杆的偏心设置，使得圆球正常转动时，就可以带动拨动杆搅动水流和拍打传送带，而撞击块的设置，使得拨动杆在撞击过程中，只会撞击到传送带的两侧边缘，不会撞击到中部的反渗透膜，降低了反渗透膜被撞击损伤的问题。
[0016]优选的，所述圆球的一端偏一侧固定安装有搅拌扇，所述搅拌扇位于撞击块的下方，所述搅拌扇的长度小于拨动杆的长度，所述搅拌扇呈扁平状设置，工作时，配合搅拌扇的扁平设置，有效的增加了搅动水流的效果，进一步协助了反渗透膜外侧污垢脱落的效果，同时配合搅拌扇的位置设置，让搅拌扇不会与传送带接触，既保护了搅拌扇也保护了反渗透膜。
[0017]优选的，所述动力组件包括驱动扇，所述驱动扇顶端与处理箱的内部转动连接，且驱动扇的一半位于流通槽的内侧，所述驱动扇的底端固定连接有传动杆，所述传动杆的底端固定连接有锥齿轮一，所述圆球远离拨动杆的一端固定连接有锥齿轮二，所述锥齿轮一与锥齿轮二相互啮合，工作时，配合驱动扇的设置，在流通槽流通的水源会带动驱动扇进行旋转，并将转动机械能通过传动杆、锥齿轮一和锥齿轮二最终传递到圆球上，通过此种设置，无需设置其他能源，就可以让拨动杆和搅拌扇一直旋转工作，节省了能源。
[0018]优选的，两组驱动扇分被位于流通槽的两侧，两组震动块呈中心对称设置，工作时，配合两组驱动扇的位置设置，保证了水流作用力可以顺利带动两组驱动扇进行旋转，同时配合两个震动块的中心对称设置，让两个震动块在传送带的一上一下，一左一右，可以充分的拍打传送带，进一步提高了反渗透膜外侧污垢软化脱离的效果。
[0019]优选的，所述处理箱的底端中部成分段式设置，位于下方的处理箱与上方的处理
箱转动连接，且两段处理箱之间设置有若干个连接栓，所述两段处理箱的连接处连接有密封垫，且连接处位于清理槽的中部偏下方，工作时，配合处理箱的分段设置，在需要更换反渗透膜时也无需停止机器，只需将连接栓取出，并将下方的处理箱转动开启，让清理槽下方暴露出来，并对该处的反渗透膜进行更换即可，通过此种设置，无需关闭机械就可以更换反渗透膜的设置，有效的提高了工作效率。
[0020]优选的，所述撞击块呈椭球形设置，且撞击块为磁石材料，所述传送带的内侧固定安装有若干个磁石块，若干个磁石块呈等距分布设置，工作时，撞击块的椭圆形设置，让表面光滑圆润，减少了撞击过程对传送带的损伤，同时配合磁石块和磁石材料撞击块的吸附效果，使得撞击块在上升过程中，也可以拉动传送带向上移动，从而提高了的传送带的抖动效果，进一步提高了清洁反渗透本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于半导体生产的纯水处理工艺，其特征在于：该工艺具体为：S1：将原料水通过过滤网进行第一次过滤，去除原料水中的大体积杂质，得到过滤水一，将过滤水一静置处理，待过滤水一出现明显分层后，抽取上清液，让上清液在压力作用下通过两次反渗透膜(5)，得到过滤水二；S2：将过滤水二投入二级反渗透装置中进行二次过滤，得到过滤水三，使用紫外消毒设备对过滤水三进行消毒处理，再将消毒后的过滤水三通过活性炭层进行最后吸附处理，并得到最终的纯水；S3：在进行进行两次反渗透膜(5)处理时，只需将过滤水一直接投入处理箱(1)中，配合传送带(4)和反渗透膜(5)的配合即可让过滤水一快速通过两层反渗透膜(5)，同时配合传送带(4)和震动块(9)的设置，让三组反渗透膜(5)可以循环使用。2.根据权利要求1所述的一种用于半导体生产的纯水处理工艺，其特征在于：所述处理箱(1)的内侧开设有贯穿两端的流通槽(2)，所述处理箱(1)的内侧设置有三组驱动轮(3)，三组驱动轮(3)的外侧传动连接有传送带(4)，所述传送带(4)的中部固定连接有三组等距设置反渗透膜(5)，所述传送带(4)呈三角形设置，部分传送带(4)位于流通槽(2)的内侧。3.根据权利要求2所述的一种用于半导体生产的纯水处理工艺，其特征在于：所述处理箱(1)的内部开设有清理槽(7)，所述清理槽(7)中设置有清洗液，所述清理槽(7)位于流通槽(2)的下方，部分传送带(4)位于清理槽(7)的中部，所述清理槽(7)的顶端连接有进水管(17)，所述清理槽(7)的底端连接有排出管(16)。4.根据权利要求3所述的一种用于半导体生产的纯水处理工艺，其特征在于：所述清理槽(7)呈椭球形设置，所述椭球形清理槽(7)的宽度大于传送带(4)的宽度，所述清理槽(7)的内侧设置有两组震动块(9)，所述震动块(9)的一侧设置有动力组件，所述动力组件用于带动震动块...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈志杰，陈金龙，
申请(专利权)人：深圳市宝安爱德电气有限公司，
类型：发明
国别省市：
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