一种冷喷涂的光控装置制造方法及图纸

技术编号:34726630 阅读:26 留言:0更新日期:2022-08-31 18:13
一种冷喷涂的光控装置,包括有壳体(20)、基台(22)、第一发光件(21)、第一控制电路,壳体(20)的顶壁中央带有上下贯通的敞口(200);基台(22)设于壳体(20)内,且基台(22)的顶部具有用于放置待喷涂基体的台面(221),该台面(221)与上述敞口(200)相对,并位于敞口(200)的下方;第一发光件(21)围绕上述基台(22)设于壳体(20)内,并能向上述敞口(200)发射光线;第一控制电路与上述第一发光件(21)电连接,用于控制第一发光件(21)工作。与现有技术相比,本申请的光控装置能放置待喷涂基体,且待喷涂基体不影响光控装置的出光。影响光控装置的出光。影响光控装置的出光。

【技术实现步骤摘要】
一种冷喷涂的光控装置


[0001]本专利技术属于材料表面喷涂
,具体涉及一种冷喷涂的光控装置。

技术介绍

[0002]冷喷涂(Cold Spray,简称CS),也称为冷气体动力喷涂(Cold Gas Dynamic Spray,简称CGDS),是近20年来发展起来的一种新型表面涂层技术,是一种固态成形工艺。在冷喷涂过程中,将一定温度与压力的气体(氮气、氦气、压缩空气等)送入特定的喷嘴,产生超音速气体流动,然后将具有一定粒径的粉末颗粒送入到高速气流中,经过加速加热,在固态下高速撞击基体,产生严重的塑性变形而沉积在基体表面形成涂层。
[0003]冷喷涂所使用的喷管为拉瓦尔喷管,拉瓦尔喷管是推力室的重要组成部分。沿着气流的流动方向,拉瓦尔喷管前半部分的内径逐渐缩小,后半部分的内径逐渐增大,前半部分与后半部分的衔接处形成一个窄喉。气体受高压流入拉瓦尔喷嘴的前半部分,穿过窄喉后由后半部分逸出。这一结构可使气流的速度因喷截面积的变化而变化,使气流从亚音速到音速,直至加速至超音速,超音速下气流中的粉末粒子会沉积在基体表面形成涂层。但超音速下,当气流与粉末粒子从拉瓦尔喷管的喷口喷出后,它们会迅速发散,导致喷涂的精度下降。
[0004]为此,专利号为ZL201721746906.3的技术专利《多层气体屏障激光熔覆喷嘴及具有该喷嘴的激光喷涂装置》(授权公告号为CN207596963U)公开了一种多层气体屏障激光熔覆喷嘴及具有该喷嘴的激光喷涂装置,其包括设置在激光熔覆装置主体架上的连接架、设置在连接架上的喷头单元及设置在喷头单元上的保护嘴;喷头单元包括至少两层类锥状中空喷头,各喷头上设有与保护气通道相通的至少一个通风槽;环形锥状保护气通道与激光腔共轴,如此,保护气能解决气流及粉末粒子喷出后的发散问题,提高喷涂精度。但同样使得喷头的喷涂角度、喷涂范围受限。为了能调节喷涂角度、喷涂范围,本申请人提出了通过光控来调节保护气通道之出口朝向及大小的方案,但现有的光控装置无法适用于冷喷涂作业,具体如下:1、现有的光控装置仅能发射光线,而无法放置待喷涂基体;2、若光控装置中具有用于放置待喷涂基体的支撑面,当待喷涂基体放置在支撑面上时,会挡住光控装置发射的光线。

技术实现思路

[0005]本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术的现状,提供一种能放置待喷涂基体的冷喷涂的光控装置,以使待喷涂基体不影响光控装置的出光。
[0006]本专利技术解决上述技术问题所采用的技术方案为:一种冷喷涂的光控装置,其特征在于包括有:
[0007]壳体,其顶壁中央带有上下贯通的敞口;
[0008]基台,设于壳体内,且基台的顶部具有用于放置待喷涂基体的台面,该台面与上述敞口相对,并位于敞口的下方;
[0009]第一发光件,围绕上述基台设于壳体内,并能向上述敞口发射光线;
[0010]第一控制电路,与上述第一发光件电连接,用于控制第一发光件工作。
[0011]为使得第一发光件能集中向敞口发射光线,优选地,还包括有环形的导光通道,该导光通道下端的环形入口与上述第一发光件相对,上端的环形出口与上述敞口的边缘部分相对。如此,第一发光件发射的光线能通过导光通道集中照射至敞口的边缘部分。
[0012]优选地,所述壳体内设有中央带通孔的导光板,导光板设于壳体之顶壁的下方、基台的上方,导光板之通孔的边缘位于壳体之敞口边缘的下方,且两者相邻近,导光板的边沿位于第一发光件的下方,从而导光板与壳体之顶壁之间形成上述的导光通道。
[0013]进一步地,所述壳体之顶壁以及导光板的板面均为由中央至边沿向下倾斜的锥面。
[0014]进一步地,所述导光板之板面的倾斜角度大于上述壳体之顶壁的倾斜角度。
[0015]在上述方案中,为使得第一发光件能更加集中地向敞口发射光线,优选地,还包括有环状的聚光透镜,该聚光透镜设于导光通道内,且聚光透镜的断面呈具有向上述环形入口凸出的第一圆弧面、与第一圆弧面相对并向上述环形出口凸出的第二圆弧面的结构。
[0016]在上述各方案中,优选地,所述第一发光件包括有若干个LED集群,若干个LED集群沿周向布置在上述基台的外围,每个LED集群中具有多个LED灯单元;
[0017]所述第一控制电路包括有若干个第一模块,第一模块的数量与LED集群的数量相匹配,用于控制各自对应的LED集群的工作;
[0018]所述第一控制电路还包括有用于控制各个第一模块的控制模块。
[0019]优选地,所述控制模块包括有用于控制每个第一模块、以调节每个LED集群的发光强度的第二模块,该第二模块与第一模块电连接;
[0020]所述控制模块还包括有用于控制每个第一模块、以调节每个LED集群的亮灭的第三模块,所述第三模块与第一模块电连接;
[0021]所述控制模块还包括有用于控制第二、第三模块的控制器,该控制器与上述第二、第三模块电连接。
[0022]与现有技术相比,本专利技术的优点在于:通过将光控装置设计为具有壳体、基台、第一发光件、第一控制电路的结构,基台位于壳体中央,第一发光件围绕基台设于壳体内并能向壳体的敞口发射光线,如此,当待喷涂基体放置在基台的台面上时,第一发光件能照常向敞口发射光线,而使得本申请的光控装置能放置待喷涂基体的同时,待喷涂基体不影响光控装置的出光。且本申请结构简单,便于实施。
附图说明
[0023]图1为本专利技术实施例中光控装置的结构示意图;
[0024]图2为本专利技术实施例中光控装置的横向剖视图;
[0025]图3为本专利技术实施例中光控装置的使用状态图;
[0026]图4为图3的剖视图;
[0027]图5为图4中A部的放大图;
[0028]图6为本专利技术实施例中辅助装置与冷喷枪的结构示意图;
[0029]图7为图6中B部的放大图;
[0030]图8为本专利技术实施例中辅助装置的内外涵道形变后的结构示意图;
[0031]图9为本专利技术实施例中LED集群与第一模块之间的电路图;
[0032]图10为本专利技术实施例中第一控制电路图;
[0033]图11为本专利技术实施例喷涂形状图;
[0034]图12为本专利技术实施例中改变第一、第二发光件工作参数后的喷涂形状图;
[0035]图13为不使用辅助装置进行喷涂的喷涂形状图。
具体实施方式
[0036]以下结合附图实施例对本专利技术作进一步详细描述。
[0037]如图1~12所示,为本专利技术的一种冷喷涂的光控装置的一个优选实施例,该光控装置具有壳体20、第一发光件21、第一控制电路、基台22、导光通道23、聚光透镜24。
[0038]其中,壳体20的顶壁中央带有上下贯通的敞口200。壳体20的中央设有用于支撑待喷涂基体的基台22,基台22顶部的台面221与敞口200相对并位于上述敞口200的下方。第一发光件21围绕基台22设于壳体20上部的空间内,并能向敞口200发射光线。导光通道23为环形通道,导光通道本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种冷喷涂的光控装置,其特征在于包括有:壳体(20),其顶壁中央带有上下贯通的敞口(200);基台(22),设于壳体(20)内,且基台(22)的顶部具有用于放置待喷涂基体的台面(221),该台面(221)与上述敞口(200)相对,并位于敞口(200)的下方;第一发光件(21),围绕上述基台(22)设于壳体(20)内,并能向上述敞口(200)发射光线;第一控制电路,与上述第一发光件(21)电连接,用于控制第一发光件(21)工作。2.根据权利要求1所述的光控装置,其特征在于:还包括有环形的导光通道(23),该导光通道(23)下端的环形入口(231)与上述第一发光件(21)相对,上端的环形出口(232)与上述敞口(200)的边缘部分相对。3.根据权利要求2所述的光控装置,其特征在于:所述壳体(20)内设有中央带通孔的导光板(25),导光板(25)设于壳体(20)之顶壁的下方、基台(22)的上方,导光板(25)之通孔的边缘位于壳体(20)之敞口(200)边缘的下方,且两者相邻近,导光板(25)的边沿位于第一发光件(21)的下方,从而导光板(25)与壳体(20)之顶壁之间形成上述的导光通道(23)。4.根据权利要求3所述的光控装置,其特征在于:所述壳体(20)之顶壁以及导光板(25)的板面均为由中央至边沿向下倾斜的锥面。5....

【专利技术属性】
技术研发人员:胡世杰李红军
申请(专利权)人:浙江理工大学
类型:发明
国别省市:

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