一种抛光系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种抛光系统，所述抛光系统包括：抛光钻、驱动装置、抛光主机和检测装置，所述驱动装置通过传送带带动所述抛光钻运动，所述检测装置用于检测所述抛光钻的工作状态，并将所述抛光钻的工作状态发送给抛光主机。进一步的，所述检测装置包括光发射器和光接收器，所述传送带上设置有带有检测平面的惰轮，组成一套光感接收惰轮转速的实测装置，利用惰轮检测平面反射以及圆面无反射的原理，通过光源发出至惰轮检测平面在回馈到接收端，再将接受信号反馈至主机，在单位时间内计算反射次数，能够得知所述传送带是否处于匀速旋转状态，继而也能推断出抛光钻是否处于匀速旋转的工作状态。工作状态。工作状态。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光系统


[0001]本技术涉及半导体
，特别涉及一种抛光系统。

技术介绍

[0002]抛光钻(Disk)，是在硅片抛光工艺中，用来打磨抛光垫保持抛光垫表面粗糙度，进而在硅片的抛光过程中，可以控制硅片表面的移除速率，达到理想的工艺效果。
[0003]在整个抛光过程中，抛光钻是处于一个稳定的旋转并下压至抛光垫的状态，目前主流的抛光钻旋转的控制方式是由旋转马达通过传送带作为媒介直接带动抛光钻进行旋转。
[0004]目前的主流化学研磨抛光机无法实时地去监控抛光钻的旋转状态，只能通过带动抛光钻运转的旋转马达的反馈信号来判断，而一旦作为传送媒介的传送带断裂，旋转马达仍处于正常运转状态并且反馈给主机台的信号也为正常，机台不会报警并正常生产，但是由于传送带的断裂，抛光钻实际不再运转，抛光垫无法被粗糙化，直接影响了硅片的去除表面损伤层的工艺效果。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种抛光系统，以解决传送带断裂后无法反馈给抛光主机影响抛光效果的问题。
[0006]为解决上述技术问题，本技术提供一种抛光系统，所述抛光系统包括：抛光钻、驱动装置、抛光主机和检测装置，所述驱动装置通过传送带带动所述抛光钻运动，所述检测装置用于检测所述传送带的工作状态并通过所述传送带的工作状态判断所述抛光钻的工作状态。
[0007]可选的，所述传送带上设置有惰轮，所述检测装置通过检测所述惰轮的速度判断所述抛光钻的工作状态。
[0008]可选的，所述检测装置包括光发射器和光接收器，所述光发射器用于发出检测光束，并将所述检测光束打在所述惰轮的外周面上，所述光接收器用于接收经过所述惰轮反射的检测光束。
[0009]可选的，所述惰轮上具有检测平面，所述检测平面用于接收和反射所述检测光束。
[0010]可选的，所述惰轮的检测平面接收的检测光束与反射的检测光束的夹角为60～90度。
[0011]可选的，所述惰轮的检测平面的宽度大于所述检测光束的光斑直径。
[0012]可选的，所述检测装置通过检测惰轮的速度判断所述抛光钻的工作状态具体为：所述检测装置在单位时间内检测到所述惰轮检测平面的次数。
[0013]可选的，所述光发射器和所述光接收器距离所述惰轮的距离为大于0mm且小于5mm。
[0014]可选的，所述光发射器为光纤发射器。
[0015]可选的，所述光接收器为光感应接收器。
[0016]在本技术提供的抛光系统中，通过在抛光系统中设置检测装置，所述检测装置检测所述传送带的工作状态，并通过所述传送带的工作状态判断所述抛光钻的工作状态，进一步的，所述检测装置通过检测传送带的转速判断所述抛光钻的工作状态，所述检测装置包括光发射器和光接收器，所述传送带上设置有带有检测平面的惰轮，组成一套光感接收惰轮转速的实测装置，利用惰轮检测平面反射以及圆面无反射的原理，通过光源发出至惰轮检测平面在回馈到接收端，再将接受信号反馈至主机，在单位时间内计算反射次数，能够得知所述传送带是否处于匀速旋转状态，继而也能推断出抛光钻是否处于匀速旋转的工作状态，如遇到传送带断裂，惰轮将处于静止状态，光接收器将不在接受到反馈信号，主机将会报警并停止工作，从而实时判断抛光钻是否处于工作状态。
附图说明
[0017]图1是本技术实施例的抛光系统示意图；
[0018]图2是本技术实施例的抛光系统中局部结构示意图；
[0019]图中，
[0020]11
‑
抛光垫；12
‑
抛光钻；13
‑
硅片；14
‑
抛光液传输装置；14a
‑
抛光液；21
‑
驱动装置；22
‑
传送带；23
‑
惰轮；23a
‑
检测平面；24
‑
检测装置；24a
‑
光发射器；24b
‑
光接收器；25
‑
抛光系统主机；26
‑
电源。
具体实施方式
[0021]为使本技术的目的、优点和特征更加清楚，以下结合附图和具体实施例对本技术作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且未按比例绘制，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。此外，附图所展示的结构往往是实际结构的一部分。特别的，各附图需要展示的侧重点不同，有时会采用不同的比例。还应当理解的是，除非特别说明或者指出，否则说明书中的术语“第一”、“第二”、“第三”等描述仅仅用于区分说明书中的各个组件、元素、步骤等，而不是用于表示各个组件、元素、步骤之间的逻辑关系或者顺序关系等。
[0022]专利技术人研究发现，当前主流的抛光钻的控制方式有一种缺陷，当传送带经过长时间使用后，非常容易出现断裂的情况，而一旦发生断裂驱动装置就会发生空转，而抛光主机一般只接收驱动装置的反馈信号去判断抛光钻是否正常运行，所以当传送带断裂时并不影响驱动装置将反馈信号输送给抛光主机，但实际抛光钻已不在正常旋转，最终会影响工艺效果。
[0023]基此，本技术通过在抛光系统中设置检测装置，所述检测装置检测所述传送带的工作状态，并通过所述传送带的工作状态判断所述抛光钻的工作状态，进一步的，所述检测装置通过检测传送带的转速判断所述抛光钻的工作状态，所述检测装置包括光发射器和光接收器，所述传送带上设置有带有检测平面的惰轮，组成一套光感接收惰轮转速的实测装置，利用惰轮检测平面反射以及圆面无反射的原理，通过光源发出至惰轮检测平面在回馈到接收端，再将接受信号反馈至主机，在单位时间内计算反射次数，能够得知所述传送带是否处于匀速旋转状态，继而也能推断出抛光钻是否处于匀速旋转的工作状态，如遇到
传送带断裂，惰轮将处于静止状态，光接收器将不在接受到反馈信号，主机将会报警并停止工作，从而实时判断抛光钻是否处于工作状态。
[0024]图1是本技术实施例的抛光系统示意图。图2是本技术实施例的抛光系统中局部结构示意图，具体的，其是图1中抛光系统的虚线部分的内部图。如图1和图2所示，本实施例提供一种抛光系统，所述抛光系统包括：抛光钻12、驱动装置21、抛光主机25和检测装置24，所述驱动装置21通过传送带22带动所述抛光钻12运动，所述检测装置24用于检测所述传送带22的工作状态，并通过所述传送带22的工作状态判断所述抛光钻12的工作状态。在本实施例中，所述驱动装置21例如是旋转马达。
[0025]请继续参考图1，所述抛光系统还包括旋转平台(图中未示出)，抛光垫11、硅片13和抛光液传输装置14，所述抛光垫11贴附在所述旋转平台的表面上，所述硅片13位于所述抛光垫11上，所述抛光钻12位于所述抛光垫11上，在整个抛光过程中，所述抛光钻12是处于一个稳定的旋转并下压至所述抛光垫11的状态，以使所述抛光垫11被粗糙化，进而对所述硅片13进行抛光。所述抛光液传输装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光系统，其特征在于，所述抛光系统包括：抛光钻、驱动装置、抛光主机和检测装置，所述驱动装置通过传送带带动所述抛光钻运动，所述检测装置用于检测所述传送带的工作状态并通过所述传送带的工作状态判断所述抛光钻的工作状态。2.如权利要求1所述的抛光系统，其特征在于，所述传送带上设置有惰轮，所述检测装置通过检测所述惰轮的速度判断所述抛光钻的工作状态。3.如权利要求2所述的抛光系统，其特征在于，所述检测装置包括光发射器和光接收器，所述光发射器用于发出检测光束，并将所述检测光束打在所述惰轮的外周面上，所述光接收器用于接收经过所述惰轮反射的检测光束。4.如权利要求3所述的抛光系统，其特征在于，所述惰轮上具有检测平面，所述检测平面用于接收和反射所述检测...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪震威，季文明，
申请(专利权)人：上海新昇半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：