自清洁方法技术

本发明专利技术涉及一种自清洁方法，用于自动清洁基座上的清洁设备的清洁辊，基座设有清洗槽，清洁辊的至少部分收容于清洗槽中，清洁设备包括供液装置。该自清洁方法包括：控制供液装置向清洁辊供液，直至清洗槽中的液体达到预设液位；控制清洁辊以第一速度旋转第一时长；以及控制清洁辊以第二速度正转第二时长，反转第三时长，并重复执行至少两次，第二速度小于第一速度。该自清洁方法通过供液装置向清洁辊供液，控制清洁辊以第一速度旋转，并控制清洁辊以第二速度正、反转至少两次而实现双向旋转，起到了摆动和抖动的作用，使污渍物充分掉落，而在不同方向上清洁污渍物，提高了清洁辊的自清洁效果，减少或避免了污渍物残留。减少或避免了污渍物残留。减少或避免了污渍物残留。

【技术实现步骤摘要】
自清洁方法


[0001]本专利技术涉及清洁设备
，特别是涉及一种自清洁方法。

技术介绍

[0002]手持式清洁设备在完成清洁后需要进行自清洁(自清洗)。一般而言，自清洁方式是手持式清洁设备的所有程序都开启，即先将清水箱内的清水输出至清洁辊，然后清洁辊高速运转，同时风机工作而将清洁辊上的污水吸入污水箱内，如此持续约1分钟，即完成自清洁。
[0003]若手持式清洁设备的清洁辊清洁的地方较脏或者清洁辊上附着了大量的泥土、灰尘，上述自清洁方式虽然可以达到一定的清洗效果，但是不能将清洁辊直接清洗干净，容易造成污渍物残留。若要彻底清洗干净，还需要用户取出清洁辊后手动清洗，不利于用户体验。

技术实现思路

[0004]基于此，提供一种自清洁方法，旨在提高清洁辊的自清洁效果，减少或避免污渍物残留。
[0005]一种自清洁方法，用于自动清洁基座上的清洁设备的清洁辊，所述基座设有清洗槽，所述清洁辊的至少部分收容于所述清洗槽中，所述清洁设备包括供液装置，所述自清洁方法包括：
[0006]控制所述供液装置向所述清洁辊供液，直至所述清洗槽中的液体达到预设液位；
[0007]控制所述清洁辊以第一速度旋转第一时长；以及
[0008]控制所述清洁辊以第二速度正转第二时长，反转第三时长，并重复执行至少两次，其中，所述第二速度小于所述第一速度。
[0009]在其中一个实施例中，所述自清洁方法还包括：
[0010]在所述供液装置供液的过程中，控制所述清洁辊旋转。
[0011]在其中一个实施例中，所述清洁设备还包括回收装置，所述自清洁方法还包括：
[0012]在重复执行所述清洁辊的正转和反转之后，启动所述回收装置，直至完成所述清洗槽内的液体的回收。
[0013]在其中一个实施例中，所述自清洁方法还包括：
[0014]在所述回收装置回收的过程中，控制所述清洁辊旋转；或者
[0015]在所述回收装置回收第四时长之后，控制所述清洁辊旋转，直至回收结束。
[0016]在其中一个实施例中，所述自清洁方法还包括：
[0017]在所述回收装置完成回收之后，同时控制所述供液装置、所述清洁辊以及所述回收装置全功率工作，直至所述供液装置内的液体供应完毕。
[0018]在其中一个实施例中，所述基座包括壳体和烘干装置，所述清洗槽设于所述壳体上，所述清洗槽的侧壁上开设有可开启或闭合的出风口，所述烘干装置设于所述壳体内、用
于输出烘干气流至所述出风口；
[0019]所述自清洁方法还包括：
[0020]在所述供液装置内的液体供应完毕之后，开启所述出风口，并启动所述烘干装置，直至烘干所述清洁辊。
[0021]在其中一个实施例中，所述自清洁方法还包括：
[0022]在所述烘干装置启动同时或者之后，控制所述清洁辊旋转。
[0023]在其中一个实施例中，所述自清洁方法还包括：
[0024]在所述烘干装置启动同时或者之后，控制所述回收装置工作。
[0025]在其中一个实施例中，所述第一速度为800转～1000转/分钟，所述第一时长为15秒～30秒。
[0026]在其中一个实施例中，所述第二速度为100转～300转/分钟，所述第二时长为10秒～15秒，所述第三时长为10秒～15秒。
[0027]在其中一个实施例中，所述预设液位为浸没至少三分之一的所述清洁辊的液位。
[0028]上述自清洁方法，通过供液装置向清洁辊供液，而润湿清洁辊，并使清洁辊的至少部分浸泡在清洗槽内的液体中，控制清洁辊以第一速度旋转而使得其上的灰尘、颗粒、毛发等摔落、掉入液体中，并控制清洁辊以第二速度正、反转至少两次而实现双向旋转，起到了摆动和抖动的作用，使其上的灰尘、颗粒、毛发等充分掉落，进而在不同方向上清洁污渍物，提高了清洁辊的自清洁效果，减少或避免了污渍物残留，实现了深度清洁，无需用户取出后手动清洗，提升了用户体验。
附图说明
[0029]图1为本专利技术一实施例中清洁系统的原理框图；
[0030]图2为图1中清洁设备的清洁装置的原理框图；
[0031]图3为图1中清洁设备的供液装置的原理框图；
[0032]图4为图1中清洁设备的回收装置的原理框图；
[0033]图5为图1中基座的结构示意图；
[0034]图6为图5中基座的主视图；
[0035]图7为图6中基座的俯视图；
[0036]图8为图5中基座的开关组件处于开启状态时的侧视图；
[0037]图9为图5中基座的开关组件处于闭合状态时的侧视图；
[0038]图10为图5中基座的局部剖视图；
[0039]图11为图1中清洁系统的清洁设备的自清洁方法的流程图。
具体实施方式
[0040]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0041]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、
“
厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0042]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0043]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0044]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自清洁方法，用于自动清洁基座上的清洁设备的清洁辊，所述基座设有清洗槽，所述清洁辊的至少部分收容于所述清洗槽中，所述清洁设备包括供液装置，其特征在于，所述自清洁方法包括：控制所述供液装置向所述清洁辊供液，直至所述清洗槽中的液体达到预设液位；控制所述清洁辊以第一速度旋转第一时长；以及控制所述清洁辊以第二速度正转第二时长，反转第三时长，并重复执行至少两次，其中，所述第二速度小于所述第一速度。2.根据权利要求1所述的自清洁方法，其特征在于，还包括：在所述供液装置供液的过程中，控制所述清洁辊旋转。3.根据权利要求1所述的自清洁方法，其特征在于，所述清洁设备还包括回收装置，所述自清洁方法还包括：在重复执行所述清洁辊的正转和反转之后，启动所述回收装置，直至完成所述清洗槽内的液体的回收。4.根据权利要求3所述的自清洁方法，其特征在于，还包括：在所述回收装置回收的过程中，控制所述清洁辊旋转；或者在所述回收装置回收第四时长之后，控制所述清洁辊旋转，直至回收结束。5.根据权利要求3所述的自清洁方法，其特征在于，还包括：在所述回收装置完成回收之后，同时控制所述供液装置、所述清洁辊以及所述回收装置全功...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈铄庭，万旭成，
申请(专利权)人：深圳市追光智造科技有限公司，
类型：发明
国别省市：