一种高透光无残留可剥UV胶制造技术

本发明专利技术属于UV胶技术领域。本发明专利技术提供了一种高透光无残留可剥UV胶。该高透光无残留可剥UV胶包含丙烯酸树脂50～80份、单体10～40份、助剥剂0.5～5份、流平剂0.5～3份、消泡剂0.3～3份、抗静电剂0.1～2份、抗粘连剂0.2～5份、补强剂0.5～6份、成膜剂0.2～2份、引发剂1～8份。本发明专利技术的高透光无残留可剥UV胶，可用于不同的形状或表面不平整的产品，可根据产品尺寸大小自行调整，能够实现自动化生产；可剥性好，撕开后表面无残留无胶印，并且整张撕开无破损；拉伸强度高、成膜性好、表面平整度高、透光率高。透光率高。

【技术实现步骤摘要】
一种高透光无残留可剥UV胶


[0001]本专利技术涉及UV胶
，尤其涉及一种高透光无残留可剥UV胶。

技术介绍

[0002]目前，在显示屏、电子产品、电子敏感元件的生产制造中，还是使用传统的PET膜进行粘贴保护。由于该工艺需要根据产品的尺寸大小，提前将膜切好，再以人工操作方式进行粘贴；并且仅能用于常规表面平整的产品。所以导致企业成本高、效率低，并且要依靠人工来提前备好不同规格的PET膜及防尘包装，无法实现自动化生产。
[0003]因此，研究开发一种可以满足及代替现有产品功能，可用于不同的形状或表面不平整的产品，可根据产品尺寸大小自行调整，能够实现自动化生产的高透光无残留可剥UV胶，具有良好的前景。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是针对现有技术的不足提供一种高透光无残留可剥UV胶。
[0005]为了实现上述专利技术目的，本专利技术提供以下技术方案：
[0006]本专利技术提供了一种高透光无残留可剥UV胶，包含如下重量份数的组分：丙烯酸树脂50～80份、单体10～40份、助剥剂0.5～5份、流平剂0.5～3份、消泡剂0.3～3份、抗静电剂0.1～2份、抗粘连剂0.2～5份、补强剂0.5～6份、成膜剂0.2～2份、引发剂1～8份。
[0007]作为优选，所述丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和有机硅低聚物改性丙烯酸酯中的两种或多种。
[0008]作为优选，所述单体为三乙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酰吗啉和乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的一种或几种。
[0009]作为优选，所述助剥剂为聚醚改性硅氧烷、聚醚改性有机硅、聚酯改性有机硅和含有氟硅键的聚硅氧烷中的一种或几种。
[0010]作为优选，所述流平剂为聚醚改性聚硅氧烷流平剂、氟碳改性有机硅流平剂和丙烯酸酯非硅流平剂中的一种或几种。
[0011]作为优选，所述消泡剂为聚醚多元醇消泡剂和/或有机硅消泡剂。
[0012]作为优选，聚醚多元醇为聚醚多元醇330、聚醚多元醇3050或聚醚多元醇280。
[0013]作为优选，所述抗静电剂为季铵盐改性丙烯酸酯抗静电剂或非离子型抗静电剂；所述抗粘连剂为苯乙烯聚醚和/或有机硅树脂微球。
[0014]作为优选，所述补强剂为改性聚氨酯丙烯酸酯低聚物；所述成膜剂为脂肪族氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物；所述引发剂为1
‑
羟基环己基苯基甲酮、苯基双(2,4,6
‑
三甲基苯甲酰基)氧化膦、2
‑
羟基
‑2‑
甲基
‑1‑
苯基
‑1‑
丙酮中的两种或多种。
[0015]本专利技术的有益效果包括以下几点：
[0016]1)本专利技术的高透光无残留可剥UV胶，可用于不同行业的显示屏幕、金属、塑料等容
易刮伤产品以及不同形状或表面不平整的产品的保护，也能有效的避免产品在制造、运输及使用过程中的表面损伤、污渍等问题。
[0017]2)本专利技术的高透光无残留可剥UV胶可满足及替代现有产品功能，消泡速度快，可使用自动化生产设备进行喷涂工艺、丝印工艺和点胶工艺，提高生产效率，有效降低企业的生产制造成本；可根据客户的需要、产品的外观调整工艺进行施胶，起到对产品的保护作用。
[0018]3)本专利技术的高透光无残留可剥UV胶的可剥性好，撕开后表面无残留无胶印，并且整张撕开无破损；拉伸强度高、成膜性好、表面平整度高、透光率高。
具体实施方式
[0019]本专利技术提供了一种高透光无残留可剥UV胶，包含如下重量份数的组分：
[0020]丙烯酸树脂50～80份、单体10～40份、助剥剂0.5～5份、流平剂0.5～3份、消泡剂0.3～3份、抗静电剂0.1～2份、抗粘连剂0.2～5份、补强剂0.5～6份、成膜剂0.2～2份、引发剂1～8份。
[0021]本专利技术的高透光无残留可剥UV胶包含50～80份丙烯酸树脂，优选为55～75份，进一步优选为60～70份，更优选为65份。
[0022]本专利技术中，所述丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和有机硅低聚物改性丙烯酸酯中的两种或多种，优选为聚氨酯丙烯酸树脂和环氧丙烯酸酯，所述聚氨酯丙烯酸树脂和环氧丙烯酸酯的质量比优选为1～2:1～2，进一步优选为1:1；所述丙烯酸树脂还优选为聚酯丙烯酸酯和有机硅低聚物改性丙烯酸酯，所述聚酯丙烯酸酯和有机硅低聚物改性丙烯酸酯的质量比优选为1～2:2～3。
[0023]本专利技术中，聚氨酯丙烯酸树脂和环氧丙烯酸酯可赋予产品较好的强度；有机硅低聚物改性丙烯酸酯可赋予产品较轻的剥离性，增加产品的抗老化和抗高温性能。
[0024]本专利技术的高透光无残留可剥UV胶包含10～40份单体，优选为15～35份，进一步优选为20～30份，更优选为25份。
[0025]本专利技术中，所述单体为三乙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酰吗啉和乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的一种或几种，优选为三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和丙烯酰吗啉；所述三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和丙烯酰吗啉的质量比优选为1:2～4，进一步优选为1:3；所述单体还优选为三乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酰吗啉和甲基丙烯酸异冰片酯，所述三乙二醇二丙烯酸酯、丙烯酰吗啉和甲基丙烯酸异冰片酯的质量比优选为8～12:18～22:4～8，进一步优选为9～11:19～21:5～7。
[0026]本专利技术中，丙烯酰吗啉可赋予产品较好的强度和韧性。
[0027]本专利技术的高透光无残留可剥UV胶包含0.5～5份助剥剂，优选为1.5～4份，进一步优选为2～3.5份，更优选为3份。
[0028]本专利技术中，所述助剥剂为聚醚改性硅氧烷、聚醚改性有机硅、聚酯改性有机硅和含有氟硅键的聚硅氧烷中的一种或几种，优选为聚酯改性有机硅和含有氟硅键的聚硅氧烷，所述聚酯改性有机硅和含有氟硅键的聚硅氧烷的质量比优选为2:1～3，进一步优选为2:2。
[0029]本专利技术的高透光无残留可剥UV胶包含0.5～3份流平剂，优选为1～2.5份，进一步
优选为1.5～2.5份，更优选为2份。
[0030]本专利技术中，所述流平剂为聚醚改性聚硅氧烷流平剂、氟碳改性有机硅流平剂和丙烯酸酯非硅流平剂中的一种或几种，优选为聚醚改性聚硅氧烷流平剂和氟碳改性有机硅流平剂，所述聚醚改性聚硅氧烷流平剂和氟碳改性有机硅流平剂的质量比优选为1:1。
[0031]本专利技术的高透光无残留可剥UV胶包含0.3～3份消泡剂，优选为1.3～2份，进一步优选为1.5～1.8份，更优选为1.6份。
[0032]本专利技术中，所述消泡剂为聚醚多元醇消泡剂和/或有机硅消泡剂，优选为聚醚多元醇消泡剂和有机硅消泡剂，所述聚醚多元醇消泡剂和有机硅消泡剂的质量比优选为1:1。
[0033]本专利技术中，所述聚醚多元醇为聚醚多元醇本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高透光无残留可剥UV胶，其特征在于，包含如下重量份数的组分：丙烯酸树脂50～80份、单体10～40份、助剥剂0.5～5份、流平剂0.5～3份、消泡剂0.3～3份、抗静电剂0.1～2份、抗粘连剂0.2～5份、补强剂0.5～6份、成膜剂0.2～2份、引发剂1～8份。2.根据权利要求1所述的高透光无残留可剥UV胶，其特征在于，所述丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和有机硅低聚物改性丙烯酸酯中的两种或多种。3.根据权利要求1或2所述的高透光无残留可剥UV胶，其特征在于，所述单体为三乙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酰吗啉和乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中的一种或几种。4.根据权利要求3所述的高透光无残留可剥UV胶，其特征在于，所述助剥剂为聚醚改性硅氧烷、聚醚改性有机硅、聚酯改性有机硅和含有氟硅键的聚硅氧烷中的一种或几种。5.根据权利要求4所述的高透光无残留可剥UV胶，其特征在于，所述流平剂为聚醚改性聚硅氧烷流平剂、氟碳改性...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄剑滨，刘伟康，梁晓君，刘准亮，
申请(专利权)人：东莞市新懿电子材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：