光学玻璃基板研磨不均的缺陷检测方法技术

本发明专利技术公开了一种光学玻璃基板研磨不均的缺陷检测方法，属于玻璃基板技术领域。其技术方案为：包括以下步骤：1)将光学玻璃基板放置在玻璃支架上；2)打开光源调整亮度，光透过光学玻璃基板投射至白色背景上；3)对投射到白色背景上的图像进行分析，判断出光学玻璃基板上是否存在研磨不均的缺陷。本发明专利技术有效解决了光学玻璃基板磨削不均无法有效检测的问题，在不损害光学玻璃基板产品表面质量的状况下，快速完成缺陷检测判定。速完成缺陷检测判定。速完成缺陷检测判定。

【技术实现步骤摘要】
光学玻璃基板研磨不均的缺陷检测方法


[0001]本专利技术涉及玻璃基板
，具体涉及一种光学玻璃基板研磨不均的缺陷检测方法。

技术介绍

[0002]光学玻璃基板生产包括热端成型或再加热成型技术，在此过程中玻璃基板表面接触锡液、传送辊轮、颗粒、石墨模具等物质，造成划伤、脏污、凹凸点等缺陷，因此需要对光学玻璃基板表面进行研磨、抛光来获取高质量的玻璃表面。光学玻璃基板表面研磨是一种机械化学抛光法，采用研磨液(氧化铈、碳酸钙等)与玻璃基板表面水解生成硅酸凝胶层，并用研磨液中的磨料与研磨垫进行机械磨削作用来达到玻璃基板表面精加工的作用。如划伤、脏污、欠点等普通研磨缺陷通过强光配合人眼或设备即可准确检出判断，但研磨导致玻璃板面磨削不均造成显示屏光线透过出现不良的问题亟需一种快速有效的检验方法来解决。

技术实现思路

[0003]本专利技术要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种光学玻璃基板研磨不均的缺陷检测方法，有效解决了光学玻璃基板磨削不均无法有效检测的问题，在不损害光学玻璃基板产品表面质量的状况下，快速完成缺陷检测判定。
[0004]本专利技术的技术方案为：
[0005]光学玻璃基板研磨不均的缺陷检测方法，包括以下步骤：
[0006]1)将光学玻璃基板放置在玻璃支架上；
[0007]2)打开光源调整亮度，光透过光学玻璃基板投射至白色背景上；
[0008]3)对投射到白色背景上的图像进行分析，判断出光学玻璃基板上是否存在研磨不均的缺陷。
[0009]优选地，步骤3)中，具体分析方式为：检测人员观察白色背景是否存在竖向或弧线状印记，若存在则说明光学玻璃基板上存在研磨不均的缺陷，否则不存在缺陷。
[0010]优选地，步骤3)中，具体分析方式为：玻璃支架上方放置CCD镜头，对白色背景上的成像进行图片信息收集，然后对收集到的图像进行像素灰阶判定。
[0011]优选地，所述CCD镜头采用单个像素为7
‑
10μm的广角线性CCD镜头。
[0012]优选地，所述光源采用氙灯。
[0013]优选地，所述玻璃支架距幕布0.5
‑
1m。
[0014]优选地，白色背景处检测照度大于80LUX。
[0015]优选地，所述玻璃支架采用可旋转的玻璃支架。
[0016]优选地，所述白色背景采用白色幕布。
[0017]本专利技术与现有技术相比，具有以下有益效果：
[0018]本专利技术可实现快速对光学玻璃基板表面研磨不均缺陷的检查判定，有效解决了光学玻璃基板磨削不均无法有效检测的问题。且在此过程中不会触碰到玻璃基板表面，从而
实现了在不损害光学玻璃基板产品表面质量的状况下，快速完成缺陷检测判定。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1是本专利技术的结构示意图。
[0021]图2是本专利技术的流程图。
[0022]图中，1
‑
光源、2
‑
光学玻璃基板、3
‑
白色背景。
具体实施方式
[0023]为了使本
的人员更好地理解本专利技术中的技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本专利技术保护的范围。
[0024]如图1所示，为本专利技术的检测方法所用的设备，检测流程如图2所示：
[0025]1)检测环境要求为暗房，关闭门窗、灯源后无外部光源进入，墙壁、玻璃支架、白色背景3不反射光线，然后依次放置光源1、玻璃支架和白色背景，玻璃支架距幕布的距离可根据实际观测效果而定，优选为0.5
‑
1m；
[0026]2)将光学玻璃基板2放置在玻璃支架上，打开光源1调整亮度，光透过光学玻璃基板2投射至白色背景3(如白色幕布)上；优选地，所述光源1采用氙灯；优选地，幕布处检测照度大于80LUX，便于清晰地观测到缺陷印记；
[0027]3)检测人员对投射到白色背景3上的图像进行分析，判断出光学玻璃基板2上是否存在研磨不均的缺陷。
[0028]其中，步骤3)的分析方式可以是：观察白色背景3是否存在竖向或弧线状印记，若存在则说明光学玻璃基板2上存在研磨不均的缺陷，否则不存在缺陷。这是因为光学玻璃基板2作为低应力非晶无机非金属材料，其本身在玻璃材料中存在高透过率、低反射率的特性，外来光源照射在其上时异物反光明显，透过其成像在白色幕布上时呈现出均匀成像，不影响LCD、OLED等显示屏显示；如光学玻璃基板表面磨削不均时光线透过玻璃基板发生折射，在白色幕布上显示的形态与正常玻璃基板在正面、斜面视角会存在显著差异。
[0029]或者，步骤3)的分析方式为：玻璃支架上方放置CCD镜头，对白色背景3上的成像进行图片信息收集，然后对收集到的图像进行像素灰阶判定。其利用的原理是：研磨均匀产品的CCD收集图像的灰阶均匀，整体灰阶变化一致，而研磨不均产品的CCD收集图像的灰阶存在差异。按照光学玻璃基板2普遍的缺陷尺寸管控要求为w(宽度)＜0.1mm、L(长)＜1mm，在CCD收集到的图像中灰阶对比度存在明显差异且异常像素尺寸达到w(宽度)≥0.1mm、L≥1mm时，表明光学玻璃基板2存在研磨不均缺陷。
[0030]进一步地，所述玻璃支架采用可旋转的玻璃支架，根据客户要求或行业规格可旋转玻璃支架的角度进行等级判定，避免产品误判造成浪费。
[0031]尽管通过参考附图并结合优选实施例的方式对本专利技术进行了详细描述，但本专利技术并不限于此。在不脱离本专利技术的精神和实质的前提下，本领域普通技术人员可以对本专利技术的实施例进行各种等效的修改或替换，而这些修改或替换都应在本专利技术的涵盖范围内/任何熟悉本
的技术人员在本专利技术揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本专利技术的保护范围之内。因此，本专利技术的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.光学玻璃基板研磨不均的缺陷检测方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将光学玻璃基板(2)放置在玻璃支架上；2)打开光源(1)调整亮度，光透过光学玻璃基板(2)投射至白色背景(3)上；3)对投射到白色背景(3)上的图像进行分析，判断出光学玻璃基板(2)上是否存在研磨不均的缺陷。2.如权利要求1所述的光学玻璃基板研磨不均的缺陷检测方法，其特征在于，步骤3)中，具体分析方式为：检测人员观察白色背景(3)是否存在竖向或弧线状印记，若存在则说明光学玻璃基板(2)上存在研磨不均的缺陷，否则不存在缺陷。3.如权利要求1所述的光学玻璃基板研磨不均的缺陷检测方法，其特征在于，步骤3)中，具体分析方式为：玻璃支架上方放置CCD镜头，对白色背景(3)上的成像进行图片信息收集，然后对收集到的图像进行像素灰阶判定。4....

【专利技术属性】
技术研发人员：李阳，金虎范，周阳强，
申请(专利权)人：青岛融合智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：