本实用新型专利技术公开了一种脱硫装置氮化硅陶瓷喷嘴，包括喷体结构以及调节结构；所述调节结构固定安置于喷体结构上；所述喷体结构包括第一喷嘴、第一转接管、第二喷嘴、第二转接管、第一调节管、第三喷嘴、第二调节管、第一弹簧以及第二弹簧；本实用新型专利技术涉及陶瓷喷嘴技术领域，该一种脱硫装置氮化硅陶瓷喷嘴，通过喷体结构实现逐渐递减的喷嘴，并以此从上向下喷出，使液体撞击下一阶段的喷嘴实现分散，形成扇形喷雾的效果；而且借助调节结构可以调节每相对的两个喷嘴间距，进而调整喷涂的范围；改设计构造简单，安装便捷，可采用氮化硅材质的陶瓷喷嘴，在其延展性不高的状态下，实现螺旋喷嘴的喷涂效果，便于使用。便于使用。便于使用。
【技术实现步骤摘要】
一种脱硫装置氮化硅陶瓷喷嘴
[0001]本技术涉及陶瓷喷嘴
，具体为一种脱硫装置氮化硅陶瓷喷嘴。
技术介绍
[0002]陶瓷的传统概念是指所有以粘土等无机非金属矿物为原料的人工工业产品。它包括由粘土或含有粘土的混合物经混炼，成形，煅烧而制成的各种制品。由最粗糙的土器到最精细的精陶和瓷器都属于它的范围；对于它的主要原料是取之于自然界的硅酸盐矿物(如粘土、长石、石英等)，因此与玻璃、水泥、搪瓷、耐火材料等工业，同属于"硅酸盐工业"的范畴；
[0003]由于陶瓷喷嘴腐蚀、耐磨，因此广泛应用于多种行业，而脱硫装置中，多采用氮化硅陶瓷喷嘴，其中氮化硅其优点是硬度很高，耐磨性强，但是有利有弊，由于材料过硬、延展性不佳，不能做螺旋喷嘴，实现扇形喷涂，因此现设计一种脱硫装置氮化硅陶瓷喷嘴。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种脱硫装置氮化硅陶瓷喷嘴，以解决氮化硅陶瓷喷嘴由于延展性较弱，不便形成螺旋喷嘴而实现扇形喷洒效果的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种脱硫装置氮化硅陶瓷喷嘴，包括喷体结构以及调节结构；所述调节结构固定安置于喷体结构上；
[0006]所述喷体结构包括第一喷嘴、第一转接管、第二喷嘴、第二转接管、第一调节管、第三喷嘴、第二调节管、第一弹簧以及第二弹簧；
[0007]所述第一喷嘴为T型空腔结构，且一端为管状结构，另一端为圆盘装结构，所述第一喷嘴另一端下壁圆周等距开设有若干结构相同的第一喷孔，且下壁中心部位处开设有贯通的第一转接口，所述第一转接管为无下壁筒状结构，且底部内侧壁圆周开设有斜螺纹，并顶部上壁中心部位处开设有第一套孔，所述第一转接管一端可拆卸旋接于第一喷嘴下壁第一转接口上，所述第二喷嘴为圆盘状空腔结构，且下壁等距圆周开设有若干结构相同的第二喷孔，所述第二喷嘴上壁以及下壁中心部位处分别开设有贯通的第二转接口以及第三转接口，所述第二喷嘴可拆卸安置于第一喷嘴上，且与第一喷嘴相连通，所述第二转接管与第一转接管结构相同，且直径小于第一转接管直径，所述第二转接管一端活动旋接于第二喷嘴下壁的第三转接口上，且另一端下壁中心部位处开设有第二套孔，所述第一调节管一端活动旋接于第二喷嘴上壁的第二转接口上，且另一端活动贯穿于第一转接管另一端的第一套孔内，所述第三喷嘴为圆盘状空腔结构，且下壁等距圆周开设有若干结构相同的第三喷孔，并第三喷嘴上壁中心部位处开设有贯通的第四转接口，所述第三喷嘴可拆卸安置于第二喷嘴上，所述第二调节管一端活动旋接于第四转接口上，且另一端活动贯穿于第二转接管另一端的第二套孔内，所述第一弹簧活动嵌装于第一转接管内，且位于第一调节管上方，所述第二弹簧活动嵌装于第二转接管内，且位于第二调节管上方。
[0008]优选的，所述调节结构包括第一限位管、第一调节杆、第一螺母、第二限位管、第二
调节杆以及第二螺母；
[0009]所述第一限位管两端分别固定贯穿于第一喷嘴内，且位于右侧，所述第一调节杆一端固定连接于第二喷嘴上壁，且位于第一调节管右侧，并另一端活动贯穿于第一限位管内，所述第一螺母活动旋接于第一调节杆另一端上，所述第二限位管两端分别固定贯穿于第二喷嘴内，且位于左侧，所述第二调节杆一端固定连接于第三喷嘴上壁，且位于第二调节管左侧，并另一端活动贯穿于第二限位管内，所述第二螺母活动旋接于第二调节杆另一端上。
[0010]优选的，所述第一喷嘴直径大于第二喷嘴直径，且第二喷嘴直径大于第三喷嘴直径。
[0011]优选的，所述第一喷孔的圆周直径小于第二喷嘴直径。
[0012]优选的，所述第二喷孔的圆周直径小于第三喷嘴直径。
[0013]优选的，所述第三喷嘴可单独相对于第二喷嘴进行间距调节，且第二喷嘴可单独相对于第一喷嘴进行间距调节。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：该一种脱硫装置氮化硅陶瓷喷嘴，通过喷体结构实现逐渐递减的喷嘴，并以此从上向下喷出，使液体撞击下一阶段的喷嘴实现分散，形成扇形喷雾的效果；而且借助调节结构可以调节每相对的两个喷嘴间距，进而调整喷涂的范围；改设计构造简单，安装便捷，可采用氮化硅材质的陶瓷喷嘴，在其延展性不高的状态下，实现螺旋喷嘴的喷涂效果，便于使用。
附图说明
[0015]图1为本技术的装配结构示意图；
[0016]图2为本技术的第一拆分展示结构示意图；
[0017]图3为本技术的第二拆分展示结构示意图。
[0018]图中：1、喷体结构，11、第一喷嘴，12、第一转接管，13、第二喷嘴，14、第二转接管，15、第一调节管，16、第三喷嘴，17、第二调节管，18、第一弹簧，19、第二弹簧，2、调节结构，21、第一限位管，22、第一调节杆，23、第一螺母，24、第二限位管，25、第二调节杆，26、第二螺母。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参阅图1
‑
3，本技术提供一种技术方案：一种脱硫装置氮化硅陶瓷喷嘴，包括喷体结构1以及调节结构2；调节结构2固定安置于喷体结构1上；喷体结构1包括第一喷嘴11、第一转接管12、第二喷嘴13、第二转接管14、第一调节管15、第三喷嘴16、第二调节管17、第一弹簧18以及第二弹簧19；第一喷嘴11为T型空腔结构，且一端为管状结构，另一端为圆盘装结构，第一喷嘴11另一端下壁圆周等距开设有若干结构相同的第一喷孔，且下壁中心部位处开设有贯通的第一转接口，第一转接管12为无下壁筒状结构，且底部内侧壁圆周开
设有斜螺纹，并顶部上壁中心部位处开设有第一套孔，第一转接管12一端可拆卸旋接于第一喷嘴11下壁第一转接口上，第二喷嘴13厚度小于第一喷嘴 11，第二喷嘴13为圆盘状空腔结构，且下壁等距圆周开设有若干结构相同的第二喷孔，第二喷嘴13上壁以及下壁中心部位处分别开设有贯通的第二转接口以及第三转接口，第二喷嘴13可拆卸安置于第一喷嘴11上，且与第一喷嘴11相连通，第二转接管14与第一转接管12结构相同，且直径小于第一转接管12直径，第二转接管14一端活动旋接于第二喷嘴13下壁的第三转接口上，且另一端下壁中心部位处开设有第二套孔，第一调节管15一端活动旋接于第二喷嘴13 上壁的第二转接口上，且另一端活动贯穿于第一转接管另一端的第一套孔内，第三喷嘴16厚度小于第二喷嘴13厚度，第三喷嘴16为圆盘状空腔结构，且下壁等距圆周开设有若干结构相同的第三喷孔，并第三喷嘴16上壁中心部位处开设有贯通的第四转接口，第三喷嘴16可拆卸安置于第二喷嘴13上，第二调节管17一端活动旋接于第四转接口上，且另一端活动贯穿于第二转接管14另一端的第二套孔内，第一弹簧18活动嵌装于第本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种脱硫装置氮化硅陶瓷喷嘴，其特征在于：包括喷体结构(1)以及调节结构(2)；所述调节结构(2)固定安置于喷体结构(1)上；所述喷体结构(1)包括第一喷嘴(11)、第一转接管(12)、第二喷嘴(13)、第二转接管(14)、第一调节管(15)、第三喷嘴(16)、第二调节管(17)、第一弹簧(18)以及第二弹簧(19)；所述第一喷嘴(11)为T型空腔结构，且一端为管状结构，另一端为圆盘装结构，所述第一喷嘴(11)另一端下壁圆周等距开设有若干结构相同的第一喷孔，且下壁中心部位处开设有贯通的第一转接口，所述第一转接管(12)为无下壁筒状结构，且底部内侧壁圆周开设有斜螺纹，并顶部上壁中心部位处开设有第一套孔，所述第一转接管(12)一端可拆卸旋接于第一喷嘴(11)下壁第一转接口上，所述第二喷嘴(13)为圆盘状空腔结构，且下壁等距圆周开设有若干结构相同的第二喷孔，所述第二喷嘴(13)上壁以及下壁中心部位处分别开设有贯通的第二转接口以及第三转接口，所述第二喷嘴(13)可拆卸安置于第一喷嘴(11)上，且与第一喷嘴(11)相连通，所述第二转接管(14)与第一转接管(12)结构相同，且直径小于第一转接管(12)直径，所述第二转接管(14)一端活动旋接于第二喷嘴(13)下壁的第三转接口上，且另一端下壁中心部位处开设有第二套孔，所述第一调节管(15)一端活动旋接于第二喷嘴(13)上壁的第二转接口上，且另一端活动贯穿于第一转接管另一端的第一套孔内，所述第三喷嘴(16)为圆盘状空腔结构，且下壁等距圆周开设有若干结构相同的第三喷孔，并第三喷嘴(16)上壁中心部位处开设有贯通的第四转接口，所述第三喷嘴(16)可拆卸安置于第二喷嘴(13)上，所述第二调节管(17)一端活动旋接于第四转接口上，且另一端活动贯穿于第...
【专利技术属性】
技术研发人员：李刚，王永坤，
申请(专利权)人：新德隆特种陶瓷大连有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。