一种用于气相生长装置的升降机构制造方法及图纸

本申请公开一种用于气相生长装置的升降机构。该升降机构包括，旋转装置、固定座、摆动组件、摆动支架、导轨、支架及顶升部件，旋转装置固定于固定座的一侧，旋转装置的输出端连接摆动组件，且摆动组件设有第一连接端，所述第一连接端用于匹配穿入摆动支架的槽内，所述摆动支架的远离槽侧安装有支架，支架的一侧配置有第二连接端，所述第二连接端用于与配置于固定座上的导轨匹配连接，且支架上安装有顶升部件，基于旋转装置的驱动带动摆动组件旋转，带动第一连接端以所述旋转装置的输出端为中心旋转，且所述第一连接端在所述槽内滑动的同时带动支架沿导轨移动，使得顶升部件上升或下降。在到达最低点和最高点前实现缓慢降速保证设备的稳定。设备的稳定。设备的稳定。

【技术实现步骤摘要】
一种用于气相生长装置的升降机构


[0001]本申请涉及半导体设备领域，具体地涉及一种用于气相生长装置的升降机 构。

技术介绍

[0002]在气相生长装置的设备中，如在其腔室的内部材需拿取需要用到升降功能的 机构，目前该类机构大都采用通过伺服电机带动传动机构实现升降。一典型的 机构具有升降功能，具体的包括：驱动电机、丝杆及导轨，该类结构的控制比 较复杂，需要增加控制器来实现不同的参数控制。并且该结构下很难做到曲线 控制上升速度/下降速度，及最低点及最高点处速度柔性下降。
[0003]为此，需要改进现有的气相生长装置的升降机构。

技术实现思路

[0004]为克服上述缺点，本申请的目的在于：提供一种用于气相生长装置的升降机 构。该升降结构能实现完整的正弦曲线速度控制及0
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180
°
的范围内移动速度的 控制。
[0005]为了达到以上目的，本申请采用如下技术方案：
[0006]一种用于气相生长装置的升降机构，其特征在于，包括：
[0007]旋转装置、固定座、摆动组件、摆动支架、导轨、支架及顶升部件，
[0008]所述旋转装置固定于固定座的一侧，所述旋转装置的输出端连接摆动组件， 且所述摆动组件设有第一连接端，所述第一连接端用于匹配穿入摆动支架的槽 内，所述摆动支架的远离槽侧安装有支架，
[0009]所述支架的一侧配置有第二连接端，所述第二连接端用于与配置于固定座 上的导轨匹配连接，且所述支架上安装有顶升部件，
[0010]基于旋转装置的驱动带动摆动组件旋转，带动第一连接端以所述旋转装置 的输出端为中心旋转，且所述第一连接端在所述槽内滑动的同时带动支架沿导 轨移动，使得顶升部件上升或下降。通过这样的设计，这样实现了升降速度可 控，且在接近0
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和180
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时速度最低，在到达最低点和最高点前实现缓慢降速 保证设备的稳定。
[0011]优选的，该支架包括：基座，所述基座上安装所述顶升部件。
[0012]优选的，该顶升部件上套设有波纹管。
[0013]优选的，该波纹管内嵌入有波纹管密封圈，所述波纹管密封圈套设于所 述顶升部件。这样保证一定的真空度。
[0014]优选的，该升降机构处于第一模式时，第一连接端处于所述旋转装置的 输出端的正下方侧，所述第一连接端处于其旋转区域内的最低点，第一连接端 的中心与所述旋转装置的输出端的中心连接线与导轨的中线平行。
[0015]优选的，该升降机构处于第二模式时，第一连接端处于所述旋转装置的 输出端的正上方侧，所述第一连接端处于其旋转区域内的最高点，第一连接端 的中心与所述旋转装置的输出端的中心连接线与导轨的中线平行。
[0016]优选的，该第一连接端移动至最高点时速度最小。
[0017]优选的，该升降机构处于第三模式时，第一连接端的中心与所述旋转装 置的输出端的中心连接线与导轨的中线垂直。
[0018]优选的，该第一连接端上配置有轴承部件。
[0019]优选的，该槽配置成其中线与所述导轨的中线垂直。
[0020]有益效果
[0021]通过本申请提出的升降结构，实现了升降速度可控，且在接近0
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和180
°ꢀ
时速度最低，在到达最低点和最高点前实现缓慢降速，可保证设备(可靠的传 递部件)的稳定。
附图说明
[0022]附图用来提供对本公开技术方案的理解，并且构成说明书的一部分，与本 公开的实施例一起用于解释本公开的技术方案，并不构成对本公开技术方案的 限制。附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本申请 内容。
[0023]图1为本申请实施例的升降机构的立体示意图；
[0024]图2为图1中旋转气缸与摆动组件连接的示意图；
[0025]图3为图1中旋转气缸与导轨的示意图；
[0026]图4为图1的升降机构的另一视角的立体示意图；
[0027]图5为图1的升降机构的处于第一模式的示意图；
[0028]图6为图1的升降机构的处于第三模式的示意图；
[0029]图7为图6中处于第三模式时摆动组件的示意图；
[0030]图8为图1的升降机构的处于第二模式的示意图；
[0031]图9为本申请实施例的升降机构的第一连接端在不同模式下时的示意图；
[0032]图10为本申请实施例的速度与旋转角度关系的曲线示意图；
[0033]图11为本申请实施例的升降机构的升降速度曲线加速度与角度关系示意图；
[0034]图12、图13为本申请实施例的升降机构与传输装置连接的示意图。
具体实施方式
[0035]以下结合具体实施例对上述方案做进一步说明。应理解，这些实施例是用 于说明本申请而不限于限制本申请的范围。实施例中采用的实施条件可以如具 体厂家的条件做进一步调整，未注明的实施条件通常为常规实验中的条件。
[0036]本申请提出一种用于气相生长装置的升降机构，其包括，旋转装置、固定 座、摆动组件、摆动支架、导轨、支架及顶升部件，旋转装置固定于固定座的 一侧，旋转装置的输出端连接摆动组件，且摆动组件设有第一连接端，第一连 接端用于匹配穿入摆动支架的槽内，摆动支架的远离槽侧安装有支架，支架的 一侧配置有第二连接端，第二连接端用于与配置于固定座上的导轨匹配连接， 且支架上安装有顶升部件，基于旋转装置的驱动带动摆动组件旋转，带动第一 连接端以旋转装置的输出端为中心旋转，且第一连接端在槽内滑动的同时带动 支架沿导轨移动，使得顶升部件上升或下降。
[0037]通过这样的设计，该升降机构利用旋转装置如：旋转气缸，通过旋转气缸 与导轨的匹配来实现顶升部件的升降。该升降机构控制旋转气缸的电磁阀来控 制气缸的旋转，再
通过旋转气缸的旋转实现顶升部件的升降，且可以实现升降 速度正弦曲线，速度控制范围：0
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范围速度控制，在接近0
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时 速度最低，结构简单，重复精度高。较佳的，在机构与设备的对接处增加波纹 管保证真空状态，并且需要满足运动空间。在真空状态下实现顶升部件的升/降， 满足工艺要求。该第一连接端顶升部件处于负压时通过可抵住摆动支架，防止 其移动，可避免顶升部件受压上移。
[0038]接下来结合附图来描述本申请提出的用于气相生长装置的升降机构。
[0039]该升降机构100包括：
[0040]旋转气缸110、气缸固定座120、摆动组件130、摆动支架140、导轨150、支 架160及顶升部件170，
[0041]其中，旋转气缸110固定于气缸固定座120的一侧，旋转气缸110的输出端111 连接摆动组件130的摆动臂131，摆动臂131上设有第一连接端132，该第一连接 端132用于匹配穿入摆动支架140的槽141内，基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于气相生长装置的升降机构，其特征在于，包括：旋转装置、摆动组件、摆动支架、导轨、支架及顶升部件，所述旋转装置设于固定座的一侧，所述旋转装置的输出端连接摆动组件，所述摆动组件的远离输出端侧设有第一连接端，所述第一连接端用于匹配穿入摆动支架的槽内，所述摆动支架的远离槽侧安装有支架，所述支架的一侧配置有第二连接端，所述第二连接端用于与配置于所述固定座上的导轨匹配连接，且所述支架上安装有顶升部件，基于旋转装置的驱动带动摆动组件旋转，带动第一连接端以所述旋转装置的输出端为中心旋转，所述第一连接端在所述槽内滑动的同时带动支架沿导轨移动，使得所述顶升部件上升或下降。2.如权利要求1所述的用于气相生长装置的升降机构，其特征在于，所述支架包括：基座，所述基座上安装所述顶升部件。3.如权利要求2所述的用于气相生长装置的升降机构，其特征在于，所述顶升部件上套设有波纹管。4.如权利要求3所述的用于气相生长装置的升降机构，其特征在于，所述波纹管内嵌入有波纹管密封圈，所述波纹管密封圈套设于所述顶升部件。5.如权利要求1所述的用于气相...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢勇，蒲勇，施建新，赵鹏，蒋家旺，
申请(专利权)人：芯三代半导体科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：