TFT显示屏制造技术

一种TFT显示屏，包括背光模组，背光模组包括反射膜片，反射膜片的上方设置有第一玻璃基板，第一玻璃基板的下表面任意一个子像素上均各自设置有分布式布拉格反射镜，第一玻璃基板上设置有薄膜晶体管层，薄膜晶体管层的上方设置有第二玻璃基板，第二玻璃基板的下表面设置有彩色滤光片。分布式布拉格反射镜由不同折射率和厚度的薄膜交互周期性堆叠在一起构成，当光经过不同介质时通过分布式布拉格反射镜上发生反射，当光经过这些薄膜时，特定波长的光会被反射回来，并相长干涉，反射回来的光被背光模组的反射偏光片再次反射，从而再次利用，从而提高光的利用率，降低光浪费。降低光浪费。降低光浪费。

【技术实现步骤摘要】
TFT显示屏


[0001]本技术涉及物理领域，尤其涉及图像显示装置，特别是一种TFT显示屏。

技术介绍

[0002]TFT（薄膜场效应晶体管）显示屏的色阻层，在背光透过时，只通过波长匹配的光，例如红色像素只通过红光，而蓝光和绿光无法透过，光利用率低，造成了光浪费，光透过率低，只有30%左右。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种TFT显示屏，所述的这种TFT显示屏要解决现有技术中TFT显示屏光浪费严重的技术问题。
[0004]本技术的一种TFT显示屏，包括背光模组，背光模组包括反射膜片，反射膜片的上方设置有第一玻璃基板，第一玻璃基板的下表面任意一个子像素上均各自设置有分布式布拉格反射镜，第一玻璃基板上设置有薄膜晶体管层，薄膜晶体管层的上方设置有第二玻璃基板，第二玻璃基板的下表面设置有彩色滤光片。
[0005]本技术与现有技术相比，其效果是积极和明显的。本技术的一种TFT显示屏通过在第一玻璃基板的下表面设置分布式布拉格反射镜，可以让某一色阻像素无法透过的光被反射再利用，从而提高光的利用率，降低光浪费。
附图说明
[0006]图1为本技术的一种TFT显示屏的结构图。
具体实施方式
[0007]以下结合附图和实施例对本技术作进一步描述，但本技术并不限制于本实施例，凡是采用本技术的相似结构及其相似变化，均应列入本技术的保护范围。本技术中的上、下、前、后、左、右等方向的使用仅为了描述方便，并非对本技术的技术方案的限制。
[0008]实施例1/>[0009]如图1所示，本技术的一种TFT显示屏，包括背光模组1，背光模组1包括反射膜片（图中未示），反射膜片的上方设置有第一玻璃基板2，第一玻璃基板2的下表面任意一个子像素位置上均各自设置有分布式布拉格反射镜3，使能透过的光透过，而不能透过的光被反射，反射光再被背光模组的反射膜片反射，进一步被其他像素利用，第一玻璃基板2上设置有薄膜晶体管层4，薄膜晶体管层4的上方设置有第二玻璃基板5，第二玻璃基板5的下表面设置有彩色滤光片6。
[0010]具体的，分布式布拉格反射镜3根据光阻透过波长设置在第一玻璃基板2的下表面任意一个子像素位置上。
[0011]具体的，本实施例中的背光模组1、反射膜片、第一玻璃基板2、分布式布拉格反射镜3、薄膜晶体管层4、第二玻璃基板5、彩色滤光片6、反射偏光片等均采用现有技术中的公知方案，本领域技术人员均已了解，在此不再赘述。
[0012]本实施例的工作原理：分布式布拉格反射镜3由不同折射率和厚度的薄膜交互周期性堆叠在一起构成，当光经过不同介质时通过分布式布拉格反射镜3上发生反射，当光经过这些薄膜时，特定波长的光会被反射回来，并相长干涉，反射回来的光被背光模组1的反射偏光片再次反射，从而再次利用。
[0013]本技术通过在第一玻璃基板2的下表面设置分布式布拉格反射镜3，可以让某一色阻像素无法透过的光被反射再利用，从而提高光的利用率，降低光浪费。
[0014]本技术利用半导体材料沉积刻蚀方法，在第一玻璃基板2下表面的每个子像素上制作分布式布拉格反射镜3。
[0015]制作工艺步骤：
[0016]步骤一：在第一玻璃基板2上表面做薄膜晶体管层4。
[0017]步骤二：在第一玻璃基板2下表面沉积不同折射率的交替膜层。
[0018]步骤三：在第一玻璃基板2下表面的交替膜层采用离子蚀刻制作DBR（分布式布拉格反射镜3）图案。
[0019]步骤四：重复步骤二和步骤三步骤，在R、G、B像素分别制作分布式布拉格反射镜3结构。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种TFT显示屏，其特征在于：包括背光模组（1），背光模组（1）包括反射膜片，反射膜片的上方设置有第一玻璃基板（2），第一玻璃基板（2）的下表面任意一个子像素上均各自设置有分布...

【专利技术属性】
技术研发人员：修简，
申请(专利权)人：延锋伟世通电子科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：