镰刀菌对3,6-二氯咔唑生物降解的方法技术

技术编号:34446386 阅读:14 留言:0更新日期:2022-08-06 16:42
本发明专利技术公开了一种镰刀菌对3,6

【技术实现步骤摘要】
镰刀菌对3,6

二氯咔唑生物降解的方法


[0001]本专利技术属于微生物
,具体地说,尤其涉及一种镰刀菌对3,6

二氯咔唑生物降解的方法。

技术介绍

[0002]卤代咔唑是咔唑环上的氢原子被卤素原子取代的一种化合物。近年来,卤代咔唑在自然 环境中的检出率越来越高,才作为一类新型污染物逐渐引起研究者的重视。
[0003]卤代咔唑在环境中分布广泛,特别是在河流湖泊的沉积物、土壤以及一些生物样品中能 检测出较高浓度的卤代咔唑。基于卤代咔唑的生物累积性、持久性和类二恶英毒性,亟待寻 找关于卤代咔唑的降解及污染环境修复的方法。目前已有关于卤代咔唑光降解及化学氧化分 解等修复方法,但对于修复土壤和沉积物的卤代咔唑污染有一定的局限性。利用微生物降解 有机物的方法不仅成本低,且对环境产生的二次污染较小,近年来,越来越多的人通过筛选 出能够以目标污染物为唯一碳源的降解菌,利用降解菌的代谢活动降解污染物。微生物修复 可以作为修复环境中卤代咔唑污染的有效补充手段,然而目前关于3,6

二氯咔唑这一污染物 的微生物降解方法仍为空白。

技术实现思路

[0004]本专利技术目的是提供一种镰刀菌对3,6

二氯咔唑生物降解的方法,该方法是从土壤中筛选 降解菌,并将降解菌投放到含有3,6

二氯咔唑的环境介质中,为3,6

二氯咔唑的降解提供了 一种更有效的方法,该方法对3,6

二氯咔唑的去除效果显著。
[0005]为了实现上述目的,本专利技术是采用以下技术方案实现的:一种镰刀菌对3,6

二氯咔唑生物降解的方法,该降解方法包括以下步骤:(1)将受3,6

二氯咔唑污染的土壤加入到 MSM 液体培养基中,筛选出能够以3,6

二氯 咔唑为唯一碳源生长的菌株;(2)将步骤(1)中筛选的的菌株在LB固体培养基上活化,挑取菌株至已灭菌的LB液体培养基扩大培养,收集扩大培养后的菌体,用已灭菌的MSM液体培养基清洗并重悬若干次, 将最后一次重悬的菌体接种至灭菌的 MSM液体培养基进行培养;(3)对步骤(2)的MSM液体培养基的菌落取样,提取并检测MSM液体培养基中残留的 3,6

二氯咔唑含量,计算各菌株降解率,直至筛选出 3,6

二氯咔唑高效降解菌株,将降解菌 保藏备用;(4)利用步骤(3)中保藏的降解菌制成孢子悬液;(5)调整含有3,6

二氯咔唑的环境介质的PH值为5.0

9.0,温度20℃

40℃,并在 上述孢子悬液中加入碳源,然后将孢子悬液接种至含有3,6

二氯咔唑的环境介质中。
[0006]进一步的,步骤(1)中菌株富集和纯化的方法:在30℃和180 r/min的摇床中培养 5d, 5d 后取5.00 mL富集培养液的上清液转接至新的含100.00 mg/L 3,6

二氯咔唑的MSM 液体培养基中,重复操作3次,取最后一次富集的培养液1.00 mL加入灭菌的去离子水中,按
照10

1、10

2、10

3的比例进行逐级梯度稀释,吸取稀释后的培养液50.00μL涂布于含3,6

二氯咔唑100.00mg/L 的MSM固体培养基中,将其倒置于30℃培养箱中培养;待菌落形成后,用灭菌牙签挑取不同形态的单菌落在LB固体培养基中划线,经过反复的挑选分离,直至分离出纯菌。
[0007]进一步的,所述MSM液体培养基的制作方法:以1000mL去离子水计,称取硫酸铵1.00g、氯化钠1.00g、磷酸氢二甲1.50g、磷酸二氢钾0.50g、硫酸镁0.20g,加入1000mL去离子水中溶解,再加入1.00mL微量元素溶液,用氢氧化钠调节pH至7.0左右,121℃高温高压灭菌30 min;所述MSM固体培养基的制作方法:在MSM液体培养基基础上添加琼脂粉制成;所述微量元素溶液的制备方法:以1000 mL去离子水计,称取钼酸钠0.15g、一水硫酸锰0.13g、结晶氯化铝0.05g、氯化锌0.23g、一水硫酸铜0.03g、六水合氯化钴0.42g,加1000mL去离子水溶解,用氢氧化钠或盐酸调节pH至7.0左右。
[0008]进一步的,所述 LB 液体培养基的制作方法:以1000mL去离子水计,向氯化钠 10.00g、酵母浸膏5.00g、蛋白胨10.00g,加1000mL去离子水溶解,用氢氧化钠调节pH 至 7.0左 右,121℃高温高压灭菌30 min;所述LB固体培养基的制作方法:在LB液体培养基基础上添加琼脂粉制成。
[0009]进一步的,步骤(2)中,LB液体培养基扩大培养的条件:在30℃,180r/min的条件下扩大培养3d;收集扩大培养后的菌体的方法:在20℃,5000r/min条件离心5min收集 菌体。
[0010]进一步的,步骤(2)中的MSM液体培养基培养的条件:调整菌液浓度为OD600 = 1.0左右,使培养基中3,6

二氯咔唑浓度为10.00mg/L,在30℃,180r/min的条件下培养8d。
[0011]进一步的,步骤(3)中降解菌的保藏方法:配制质量分数30%的甘油,取30%的甘油加入冻存管中,将甘油以及冻存管121℃高温高压灭菌30min后,加入与甘油等体积的菌液,将液体充分混匀后密封,冷冻保存在

40℃的冰箱备用。
[0012]进一步的,步骤(4)中孢子悬液的制备方法:将冻存的菌株冰浴解冻,在无菌室中用灭 菌过的牙签蘸取适量菌液,在PDA固体培养基中进行平板划线,将划线后的平板倒扣在生化培养箱中培养,直至长出丰富的白色分生孢子,用牙签刮取平板表面的孢子至灭菌后的MSM液体培养基,涡旋振荡使菌丝在培养基溶液中分布均匀,使孢子悬液的OD600 = 0.16 ~ 0.165。
[0013]进一步的,所述PDA固体培养基的制备方法:以1000mL去离子水计,取马铃薯 200.00g、葡萄糖20.00g、琼脂粉15.00g,加1000mL去离子水溶解,121℃高温高压灭菌30 min。
[0014]进一步的,步骤(5)中接种环境最适降解条件为:温度为30℃,pH为7.0,孢子悬液 外加碳源为1 g/L蔗糖溶液。
[0015]与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:本专利技术从土壤中分离得到了一株3,6

二氯咔唑高效降解菌,经鉴定为镰刀菌,经过降解条件优化,镰刀菌 K1对10.00 mg/L3,6

二氯咔唑的8d降解率达到84%,为环境中卤代咔唑污染提供了新的修复方法,并且通过对3,6

二氯 咔唑降解产物的测定,推测镰刀菌K1对3,6二氯咔唑的降解存在脱氯和有角度双加氧两种途径,其中有角度双本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
(2)中,MSM 液体培养基培养的条件:调整菌液浓度为 OD600 = 1.0 左右,使培养基中 3,6
‑ꢀ
二氯咔唑浓度为 10.00 mg/L,在 30℃,180 r/min 的条件下培养 8 d。7.根据权利要求 1 所述的镰刀菌对3,6

二氯咔唑生物降解的方法,其特征在于:步骤 (3)中降解菌的保藏方法:配制质量分数 30%的甘油,取 30%的甘油加入冻存管中,将甘油 以及冻存管 121℃高温高压灭菌 30 min 后,加入与甘油等体积的菌液,将液体充分混匀后密 封,冷冻保存在

40℃的冰箱备用。8.根据权利要求 1 所述的镰刀菌对3,6

二氯咔唑生物降解的方法,其特征在于:步骤 (4)中孢子悬液的制备方法:将冻存的菌株冰浴解冻,在无菌室中用灭菌过的牙签蘸取适量 菌液,在 PDA...

【专利技术属性】
技术研发人员:杜仲坤赵鼎坤朱鲁生李冰王军王金花
申请(专利权)人:山东农业大学
类型:发明
国别省市:

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